CN109373939B - 一种测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度装置及其方法 - Google Patents

Abstract

本发明一种测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度装置及其方法，包括喷嘴，喷嘴的正下方设有设有卡盘，卡盘用于放置硅片；水平伸缩连接杆的两端分别设有第一距离传感器和第二距离传感器，第一距离传感器测量水平伸缩连接杆的一端到硅片的上表面的垂直距离以得到第一垂直距离，并将第一垂直距离数据传输至一远程连接的处理平台；第二距离传感器测量水平伸缩连接杆的另一端到硅片的上表面的垂直距离以得到第二垂直距离，并将第二垂直距离数据传输至远程连接的处理平台；处理平台根据第一垂直距离和第二垂直距离计算处理得到硅片的倾斜角；本发明大大解决了人为用水平仪测定误差较大，其结构简单，可以实现多点测试，降低测试误差。

Description

一种测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度装置及其方法

技术领域

本发明涉及一种测定平整度装置及方法，尤其涉及一种测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度装置及其方法。

背景技术

涂胶显影机是制造半导体的常用设备，一般用于光刻胶涂布及显影等工艺；光刻胶涂布的过程一般包括将硅片安置于涂胶显影机，由涂胶显影机的光刻胶喷嘴向硅片表面喷上光刻胶；在使用前需对硅片表面的平整度进行检查测定，而目前多数采用的方法是通过人为用水平仪测定，其具体步骤为：将标准硅片放置在卡盘上，人为将水平仪放置在硅片的中心位置，水平仪测定的水平信息传输到数据处理端，通过计算得到硅片平整度状况，全程人为控制，测定误差较大

综上，现有硅片平整度测量方法存在以下问题：1.采用人工测量误差较大；2.采用人工测量耗时较长，浪费劳动力。

因此，针对现有硅片平整度测量方法采用人工测量误差较大、耗时较长以及浪费劳动力等问题，成为本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明为解决现有硅片平整度测量方法采用人工测量误差较大、耗时较长以及浪费劳动力等问题，提供了测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度装置及其方法及其使用方法。

为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

提供了一种测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度装置，包括喷嘴1，所述喷嘴1的正下方设有设有卡盘3，所述卡盘3用于放置硅片2；

所述水平伸缩连接杆6的两端分别设有第一距离传感器7和第二距离传感器8，所述第一距离传感器7测量所述水平伸缩连接杆6的一端到所述硅片2的上表面的垂直距离以得到第一垂直距离，并将所述第一垂直距离数据传输至一远程连接的处理平台10；所述第二距离传感器8测量所述水平伸缩连接杆6的另一端到所述硅片2的上表面的垂直距离以得到第二垂直距离，并将所述第二垂直距离数据传输至远程连接的所述处理平台10；

所述处理平台10根据所述第一垂直距离和所述第二垂直距离计算处理得到所述硅片2的倾斜角。

进一步地，所述喷嘴1通过一机械臂4悬浮设于所述硅片2的正上方，所述机械臂4通过一垂直旋转轴5设置在一位于所述硅片2的正上方的水平伸缩连接杆6上。

进一步地，所述水平伸缩连接杆6、喷嘴1、硅片2以及卡盘3之间相互平行设置。

进一步地，所述水平伸缩连接杆6以所述水平伸缩连接杆6长度方向的中点为圆心，在水平面上360°旋转。

进一步地，所述水平伸缩连接杆6包括从左至右依次设置的第一连接杆601、第二连接杆602以及第三连接杆603，所述第二连接杆602为中空结构，所述第一连接杆601的右端和所述第三连接杆603的左端均插入所述第二连接杆602内；所述第二连接杆602上端面的左右两端均开设有第二通孔，所述所述第一连接杆601的上端面从左至右等间距开设有若干第一通孔，所述所述第二连接杆602的上端面从左至右等间距开设有若干第二通孔；所述第二连接杆602通过将连接棒9贯穿于所述第二通孔和第一通孔与所述第一连接杆601连接，所述所述第二连接杆602通过将所述连接棒9贯穿于所述第二通孔和第三通孔与所述第三连接杆603连接。

进一步地，所述距离传感器7与所述第一连接杆601的左端面和第三连接杆603的右端面固定连接。

进一步地，所述水平伸缩连接杆6沿其长度方向两端伸缩5-20cm。

进一步地，所述距离传感器7为红外距离传感器。

提供了一种测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度的方法，包括以下步骤：

步骤一、旋转所述水平伸缩连接杆6至任一角度，对所述水平伸缩连接杆6的长度进行伸缩调节，得到水平伸缩连接杆6长度s；

步骤二、通过距离传感器7对所述水平伸缩连接杆的两端到所述硅片2的垂直直线距离进行测定，得到第一垂直距离a和第二垂直距离b；

步骤三、将步骤一和步骤二中测得的所述水平伸缩连接杆6长度s、第一垂直距离a以及第二垂直距离b代入公式得到所述硅片2的倾斜角；

步骤四、重新旋转所述水平伸缩连接杆6至任一角度，重新对所述水平伸缩连接杆6的长度进行伸缩调节后，重复步骤二至步骤三的操作步骤。

进一步地，步骤三中所述公式为α＝arctan[(b-a)/s]，其中a为步骤二中所述第一垂直距离，b为步骤二中所述第二垂直距离b，s为步骤一中所述水平伸缩连接杆长度，α为所述硅片2的倾斜角。

本发明采用上述技术方案，与现有技术相比，具有如下技术效果：

本发明大大解决了人为用水平仪测定误差较大，其结构简单，可以实现多点测试，降低测试误差。

附图说明

图1为本发明测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度装置的结构示意图；

图2为本发明测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度装置中水平伸缩连接杆的俯视图；

图3为本发明测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度装置中水平伸缩连接杆的侧视图；

图4为本发明测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度装置中参数示意图；

图5为本发明测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度装置的工作流程图；

其中，各附图标记为：

1-喷嘴，2-硅片，3-卡盘，4-机械臂，5-垂直旋转轴，6-水平伸缩连接杆，601-第一连接杆，602-第二连接杆，603-第三连接杆，7-第一距离传感器，8-第二距离传感器，9-连接棒，10-处理平台。

具体实施方式

下面通过具体实施例对本发明进行详细和具体的介绍，以使更好的理解本发明，但是下述实施例并不限制本发明范围。

本发明实施例提供了一种测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度装置，如图1所示，包括喷嘴1，喷嘴1的正下方设有硅片2，硅片2的下端面设有卡盘3，喷嘴1通过机械臂4悬浮设于硅片2的正上方，其特征在于，机械臂4通过垂直旋转轴5与水平伸缩连接杆6连接，水平伸缩连接杆6设于机械臂4的正上方，水平伸缩连接杆6的两端分别设有第一距离传感器7和第二距离传感器8，第一距离传感器7测量水平伸缩连接杆6左端到硅片2上表面的垂直距离得到第一垂直距离，并将第一垂直距离数据传输至软件处理平台10；第二距离传感器8测量水平伸缩连接杆6右端到硅片2上表面的垂直距离得到第二垂直距离，并将第二垂直距离数据传输至软件处理平台10，通过软件处理平台10计算处理得到硅片2的倾斜角。

本实施例的一个方面，如图1所示，喷嘴1通过一机械臂4悬浮设于硅片2的正上方，机械臂4通过一垂直旋转轴5设置在一位于硅片2的正上方的水平伸缩连接杆6上。

本实施例的一个方面，如图1所示，水平伸缩连接杆6、喷嘴1、硅片2以及卡盘3之间相互平行设置。

本实施例的一个方面，如图1-3所示，水平伸缩连接杆6以水平伸缩连接杆6长度方向的中点为圆心，在水平面上360°旋转；通过旋转述水平伸缩连接杆6实现多点测试，提高样本数量以达到对硅片2平整度的具体测定。

本实施例的一个方面，如图2-3所示，水平伸缩连接杆6包括从左至右依次设置的第一连接杆601、第二连接杆602以及第三连接杆603，第二连接杆602为中空结构，第一连接杆601的右端和第三连接杆603的左端均插入第二连接杆602内；第二连接杆602上端面的左右两端均开设有第二通孔，第一连接杆601的上端面从左至右等间距开设有若干第一通孔，第二连接杆602的上端面从左至右等间距开设有若干第二通孔；第二连接杆602通过将连接棒9贯穿于第二通孔和第一通孔与第一连接杆601连接，第二连接杆602通过将连接棒9贯穿于第二通孔和第三通孔与第三连接杆603连接，通过调节第一连接杆601和第三连接杆603实现多点测试，提高样本数量以达到对硅片2平整度的具体测定

本实施例的一个方面，如图2-3所示，距离传感器7与第一连接杆601的左端面和第三连接杆603的右端面固定连接。

本实施例的一个方面，如图1-3所示，水平伸缩连接杆6沿其长度方向两端伸缩5-20cm。

本实施例的一个方面，如图1-3所示，距离传感器7为红外距离传感器。

本发明实施例提供了一种了一种测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度的方法，包括以下步骤：

步骤一、旋转水平伸缩连接杆6至任一角度，对水平伸缩连接杆6的长度进行伸缩调节，得到水平伸缩连接杆6长度s；

步骤二、通过距离传感器7对水平伸缩连接杆的两端到硅片2的垂直直线距离进行测定，得到第一垂直距离a和第二垂直距离b；

步骤三、将步骤一和步骤二中测得的水平伸缩连接杆6长度s、第一垂直距离a以及第二垂直距离b代入公式得到硅片2的倾斜角；

步骤四、重新旋转水平伸缩连接杆6至任一角度，重新对水平伸缩连接杆6的长度进行伸缩调节后，重复步骤二至步骤三的操作步骤。

本实施例的一方面，如图4所示，步骤三中公式为α＝arctan[(b-a)/s]，其中a为步骤二中第一垂直距离，b为步骤二中第二垂直距离b，s为步骤一中水平伸缩连接杆长度，α为硅片2的倾斜角。

本发明测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度装置及其方法针对现有硅片平整度测量方法采用人工测量误差较大、耗时较长以及浪费劳动力等问题，本发明测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度装置及其方法大大解决了人为用水平仪测定误差较大，其结构简单，可以实现多点测试，降低测试误差。

以上对本实用测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度装置及其方法及其使用方法的具体实施例进行了详细描述，但其只是作为范例，本发明并不限制于以上描述的具体实施例。对于本领域技术人员而言，任何对本发明进行的等同修改和替代也都在本发明的范畴之中。因此，在不脱离本发明的精神和范围下所作的均等变换和修改，都应涵盖在本发明的范围内。

Claims (3)

1.一种测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度的装置，其特征在于，包括喷嘴（1），所述喷嘴（1）的正下方设有卡盘（3），所述卡盘（3）用于放置硅片（2）；

水平伸缩连接杆（6）的两端分别设有第一距离传感器（7）和第二距离传感器（8），所述第一距离传感器（7）测量所述水平伸缩连接杆（6）的一端到所述硅片（2）的上表面的垂直距离以得到第一垂直距离，并将所述第一垂直距离数据传输至一远程连接的处理平台（10）；所述第二距离传感器（8）测量所述水平伸缩连接杆（6）的另一端到所述硅片（2）的上表面的垂直距离以得到第二垂直距离，并将所述第二垂直距离数据传输至远程连接的所述处理平台（10）；

所述处理平台（10）根据所述第一垂直距离和所述第二垂直距离计算处理得到所述硅片（2）的倾斜角；

所述计算的公式为α=arctan[(b-a)/s]，a为所述第一垂直距离，b为所述第二垂直距离，s为所述水平伸缩连接杆（6）的长度，α为所述硅片（2）的倾斜角；

所述喷嘴（1）通过一机械臂（4）悬浮设于所述硅片（2）的正上方，所述机械臂（4）通过一垂直旋转轴（5）设置在一位于所述硅片（2）的正上方的水平伸缩连接杆（6）上；

所述水平伸缩连接杆（6）、喷嘴（1）、硅片（2）以及卡盘（3）之间相互平行设置；

所述水平伸缩连接杆（6）以所述水平伸缩连接杆（6）长度方向的中点为圆心，在水平面上360°旋转；

所述水平伸缩连接杆（6）包括从左至右依次设置的第一连接杆（601）、第二连接杆（602）以及第三连接杆（603），所述第二连接杆（602）为中空结构，所述第一连接杆（601）的右端和所述第三连接杆（603）的左端均插入所述第二连接杆（602）内；所述第二连接杆（602）上端面的左右两端均开设有第二通孔，所述第一连接杆（601）的上端面从左至右等间距开设有若干第一通孔，所述第二连接杆（602）的上端面从左至右等间距开设有若干第二通孔；所述第二连接杆（602）通过将连接棒（9）贯穿于所述第二通孔和第一通孔与所述第一连接杆（601）连接，所述第二连接杆（602）通过将所述连接棒（9）贯穿于所述第二通孔和第三通孔与所述第三连接杆（603）连接；

所述第一距离传感器（7）与所述第二距离传感器（8）分别与所述第一连接杆（601）的左端面和第三连接杆（603）的右端面固定连接；

所述水平伸缩连接杆（6）沿其长度方向两端伸缩5-20cm；

所述第一距离传感器（7）为红外距离传感器。

2.一种如权利要求1所述测定涂胶显影机中涂胶显影槽平整度的装置的使用方法，包括以下步骤：

步骤一、旋转所述水平伸缩连接杆（6）至任一角度，对所述水平伸缩连接杆（6）的长度进行伸缩调节，得到水平伸缩连接杆长度s；

步骤二、通过第一距离传感器（7）和第二距离传感器（8）分别对所述水平伸缩连接杆的两端到所述硅片（2）的垂直直线距离进行测定，得到所述第一垂直距离a和所述第二垂直距离b；

步骤三、将步骤一和步骤二中测得的所述水平伸缩连接杆（6）长度s、第一垂直距离a以及第二垂直距离b代入公式得到所述硅片（2）的倾斜角；

步骤四、重新旋转所述水平伸缩连接杆（6）至任一角度，重新对所述水平伸缩连接杆（6）的长度进行伸缩调节后，重复步骤二至步骤三的操作步骤。

3.根据权利要求2所述的使用方法，其特征在于，步骤三中所述公式为α=arctan[(b-a)/s]，其中a为步骤二中所述第一垂直距离，b为步骤二中所述第二垂直距离b，s为步骤一中所述水平伸缩连接杆长度，α为所述硅片（2）的倾斜角。

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