CN109326949A - 一种大腔模体积超快激光反馈放大器 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 50
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims abstract description 33
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 22
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 15
- 238000007405 data analysis Methods 0.000 claims description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 3
- 230000003321 amplification Effects 0.000 abstract description 31
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 abstract description 31
- 239000010408 film Substances 0.000 description 29
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 9
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- MVLMQGYYLCWMFP-UHFFFAOYSA-N neodymium yttrium Chemical compound [Y].[Nd] MVLMQGYYLCWMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/10007—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating in optical amplifiers
- H01S3/10023—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating in optical amplifiers by functional association of additional optical elements, e.g. filters, gratings, reflectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/10007—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating in optical amplifiers
- H01S3/10015—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating in optical amplifiers by monitoring or controlling, e.g. attenuating, the input signal
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/105—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/1301—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude in optical amplifiers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/1305—Feedback control systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
本发明公开了一种大腔模体积超快激光反馈放大器，包括：依次沿光轴设置的第一超快非稳镜(3‑1)、非稳腔模控制镜(4)、激光增益介质(2)、导引镜(9)、脉冲光开关(10)和第二超快非稳镜(3‑2)、以及激光种子光源(7)、双向分光器(8)和光束整形自补偿系统；激光种子光源(7)提供短脉冲种子激光，发射至双向分光器(8)；导引镜(9)设置在经双向分光器(8)分离的第一束光的光轴上。本发明激光反馈放大器设计为大口径激光增益介质非稳腔结构运转，能够增大模式体积，使得激光增益介质及光学元件可承受更高激光功率，提升超快激光放大器激光放大能力。
Description
技术领域
本发明涉及激光技术领域，尤其是涉及一种大腔模体积超快激光反馈放大器。
背景技术
脉冲宽度为皮秒或者更低的超快脉冲激光(脉冲宽度为皮秒或者更窄)在工业微加工、非线性频率变换等众多领域具有广泛的应用。高重复频率的短脉冲激光振荡器单脉冲能量较低，一般在几十nJ～几百nJ之间，难以满足实际应用需求，再生放大技术是实现超快激光单脉冲能量放大的有效途径之一。
现有再生放大技术均属于自再现模式放大，其问题在于模式体积小，超短脉冲激光峰值功率密度大，受限于器件损伤阈值，功率放大大能力提升受限。
发明内容
本发明的目的是提供一种大腔模体积超快激光反馈放大器，通过将放大器设计为非稳超快混合腔结构，能够提高模式体积，从而使得激光增益介质及光学元件可承受更高激光功率，提升放大器激光放大能力，实现高功率高光束质量短脉冲激光放大。
为解决上述问题，本发明的第一方面提供了一种大腔模体积超快激光反馈放大器，包括：依次沿光轴设置的第一超快非稳镜、非稳腔模控制镜、激光增益介质、导引镜、脉冲光开关和第二超快非稳镜、以及激光种子光源、双向分光器和光束整形自补偿系统；激光种子光源用于提供短脉冲种子激光，发射至双向分光器；导引镜设置在经双向分光器分离的第一束光的光轴上；光束整形自补偿系统用于对经过其传输的光束整形，以及闭环反馈式实时补偿极高功率条件下热效应导致的光束畸变；第一超快非稳镜和第二超快非稳镜构成非稳腔腔镜。
进一步地，第一超快非稳镜和第二超快非稳镜沿光轴方向共焦放置。
进一步地，非稳腔模控制镜置于第一超快非稳镜和第二超快非稳镜的焦点上。
进一步地，非稳腔模控制镜为镀膜后的光学镜片或光阑，光学镜片具有两个通光面，其膜系分别为：其中一个通光面包括A区域和B区域，所述A区域镀有对谐振激光透过率大于90％的高透膜，所述B区域镀有对谐振激光反射率大于90％的高反膜；另一个通光面镀有对谐振激光透过率大于90％的高透膜。
进一步地，光束整形自补偿系统包括光束校正镜、固定在光束校正镜下的闭环控制台、探测器、反馈系统和控制系统；探测器实时监测激光器输出激光的信息并将其通过反馈系统传输至控制系统；控制系统对激光器输出激光的信息进行数据分析后，对闭环控制台以及光束校正镜进行反馈式控制，实现整形及光束校正。
进一步地，光束校正镜为：透镜组，控制系统通过反馈系统对闭环控制台的位置以及角度进行调整，以调整所述透镜组的位置及角度，实现整形及光束校正；或，光束校正镜为曲率可变的曲面镜，控制系统通过反馈系统对闭环控制台位置以及角度进行调整，以对光束校正镜的曲率进行调整，实现整形及光束校正。
进一步地，经依次沿光轴设置的第一超快非稳镜、非稳腔模控制镜、激光增益介质、导引镜、脉冲光开关和第二超快非稳镜、以及激光种子光源、双向分光器放大后的短脉冲激光的重频为1～100MHz。
进一步地，还包括激光增益介质热沉和半导体泵浦源；激光增益介质热沉设置在激光增益介质的一面上；半导体泵浦源用于为激光增益介质提供能量。
进一步地，半导体泵浦源对准激光增益介质的至少一个光学平面进行泵浦，或者对准激光增益介质的至少一个光学平面的部分区域进行泵浦。
本发明实施例提供的一种大腔模体积超快激光反馈放大器，采用非稳腔大口径激光增益介质设计，提高腔模体积从而使得激光增益介质及光学器件可承受更高激光功率，提升放大器激光放大能力，实现高功率高光束质量短脉冲激光放大。
附图说明
图1是现有技术的再生放大技术原理示意图；
图2是根据本发明第一实施方式提供的侧面泵浦大腔模体积超快激光反馈放大器结构示意图；
图3是根据本发明第一实施方式的非稳腔模控制镜4的截面图；
图4是根据本发明第三实施方式提供的端面泵浦大腔模体积超快激光反馈放大器结构示意图。
附图标记：
1：半导体泵浦源；1-1：Bar条；1-2：波导；1-3:泵浦光热管理系统；1-4：泵浦光导入镜；2：增益介质；2-1：增益介质的上表面；2-2：增益介质的下表面；2-3：增益介质的左端面；2-4：增益介质的右端面；3-1：第一超快非稳镜；3-2：第二超快非稳镜；4：非稳腔模控制镜；4-1：非稳腔模控制镜的第一端面：4-2非稳腔膜控制镜的第二端面；5：光束整形自补偿系统；5-11：第一光束校正镜；5-12：第二光束校正镜；5-21：第一闭环控制台；5-22：第二闭环控制台；5-3激光探测器；5-4：反馈系统；5-5：控制系统；6：激光增益介质热沉；7：激光种子光源：7-1：种子激光；8：双向分光器；9：导引镜；10：脉冲光开关；10-1：第一调制器；10-2：第二调制器；A:第一再生放大器腔镜；B：第二再生放大器腔镜；C:电光调制器；D:1/4波片；E:薄膜偏振片；F：增益介质；G：种子源；H：薄膜偏振片；I：1/2波片，J:法拉第旋转器。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面结合具体实施方式并参照附图，对本发明进一步详细说明。应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本发明的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本发明的概念。
图1为现有技术再生放大技术的原理图。
如图1所示，第一再生放大器腔镜A，第二再生放大器腔镜B构成模式自再现的稳定激光放大腔，种子激光脉冲通过脉冲选择器的开关进入激光放大腔并且多次通过其中的激光增益介质F，将短脉冲激光单脉冲能量放大到105-107倍，获得单脉冲能量为mJ量级的短脉冲激光脉冲输出；脉冲选择器通常由一个电光调制器和偏振片组成。再生放大激光器为模式自再现的稳定激光放大的谐振腔，增益介质为盘片增益介质、棒状增益介质。
由于，现有再生放大技术均属于自再现模式放大，其问题在于模式体积小，超短脉冲激光峰值功率密度大，受限于器件损伤阈值，功率放大大能力提升受限。
图2是根据本发明第一实施方式提供的大腔模体积超快激光反馈放大器结构示意图。
如图2所示，该大腔模体积超快激光反馈放大器包括：依次沿光轴设置的第一超快非稳镜3-1、非稳腔模控制镜4、激光增益介质2、导引镜9、脉冲光开关10和第二超快非稳镜3-2、以及激光种子光源7、双向分光器8和光束整形自补偿系统。
其中，激光种子光源7用于提供短脉冲种子激光，发射至双向分光器8；导引镜9设置在经双向分光器8分离的第一束光的光轴上。
激光种子光源7产生种子激光7-1并射入到双向分光器8中，双向分光器8将种子激光7-1分离以及将放大后的激光分离。
光束整形自补偿系统设置在第一超快非稳镜3-1和第二超快非稳镜3-2之间；光束整形自补偿系统用于对经过其传输的光束整形，以及闭环反馈式实时补偿热效应导致的光束畸变。
具体地，光束整形自补偿系统包括光束校正镜、固定在光束校正镜下的闭环控制台、探测器5-3、反馈系统5-4和控制系统5-5；探测器5-3实时监测激光器输出激光的信息并将其通过反馈系统5-4传输至控制系统5-5；控制系统5-5对激光器输出激光的信息进行数据分析后，对闭环控制台以及光束校正镜进行反馈式控制，实现整形及光束校正。
在一个例子中，光束校正镜为透镜组，控制系统5-5通过反馈系统5-4对闭环控制台的位置以及角度进行调整，以调整透镜组的位置及角度，实现光束整形及校正。
在一个例子中，光束校正镜为曲率可变的曲面镜，控制系统5-5通过反馈系统5-4对闭环控制台位置以及角度进行调整，以对光束校正镜的位置，角度以及面型进行调整，实现光束整形及校正。
具体地，光束整形自补偿系统包括第一闭环控制台5-21、固定在其上的第一光束校正镜5-11、第二闭环控制台5-22、固定在其上的第二光束校正镜5-12、激光探测器5-3、控制系统5-5和反馈系统5-4。
激光探测器5-3监测大腔膜体积超快激光反馈放大器溢出激光的信息并通过反馈系统5-4发送至控制系统5-5。
控制系统5-5对大腔膜体积超快激光反馈放大器溢出激光的信息分析，获得第一调整信号和第二调整信号。控制系统5-5通过反馈系统5-4分别向第一闭环控制台5-21和第二闭环控制台5-22发送第一调整信号和第二调整信号；第一闭环控制台5-21基于第一调整信号，调整其自身的位置和角度，以调整第一光束校正镜5-11的位置；第二闭环控制台5-22基于第二调整信号，调整其自身的位置和角度，以调整第二光束校正镜5-12的位置。
可选的，第一光束校正镜5-11为焦距为500mm的正透镜，通光面镀有对1064nm谐振激光透过率大于90％的高透膜,固定于第一闭环控制台5-21上；第二光束校正镜5-12为焦距为100mm的负透镜，通光面镀有对1064nm谐振激光透过率大于90％的高透膜，固定于第二闭环控制台5-22上；第一光束校正镜5-11与第二光束校正镜5-12轴向共焦放置。激光探测器5-3置于第二超快非稳镜3-2外侧，实时监测激光器溢出激光的信息，并将其通过反馈系统5-4反馈至控制系统5-5，控制系统5-5经数据分析后通过反馈系统5-4对第一闭环控制台5-21与第二闭环控制台5-22进行反馈式控制，实现用于光束整形并校正热效应导致的光束畸变。
具体地，双向分光器8包括1064nm的偏振片和光隔离器。
可选的，激光种子源7为商业化1064nm皮秒种子源，单脉冲能量100uJ。
导引镜9用于将种子激光7-1导入激光放大器，还用于将放大后的短脉冲激光导出至双向分光器8。
具体地，导引镜9为薄膜偏振片，镀有45°1064nm垂直偏振光高反膜，该高反膜的反射率大于99.8％，导引镜9并镀有水平偏振光增透膜，增透膜的透过率大于99.8％。
半导体泵浦源1用于为激光增益介质2提供能量。
可选的，泵浦源1设置在激光增益介质2光学平面之上，且由上至下包括泵浦光热管理系统1-3、bar条1-1和波导1-2。
进一步地，半导体泵浦源对准激光增益介质的至少一个光学平面进行泵浦，或者对准激光增益介质的至少一个光学平面的部分区域进行泵浦。
可选的，半导体泵浦源1为808nm半导体模块，发射的泵浦光经波导1-2光束整形器后，对准板条激光增益介质2的上表面2-1对其进行泵浦，泵浦光热管理系统1-3为板条激光增益介质2提供散热与固定支撑。
激光增益介质2用于短脉冲激光能量放大。
在一个可选的实施例中，激光增益介质2由Nd:YAG材料构成，其Nd离子掺杂浓度为1at.％。激光增益介质2的形状为平行四边形板条结构，尺寸为长80mm×宽50mm×厚5mm，其上表面2-1与下表面2-2为相同的矩形结构，尺寸均为长80mm×宽50mm。其侧面为平行四边形结构，尺寸为长80mm×宽7mm。左端面2-3与右端面2-4均为矩形，尺寸为长50×宽7mm。左端面2-3与下表面2-1的夹角为45°角，右端面2-4与上表面的夹角为45°角。激光增益介质2左端面2-3与右端面2-4均镀有0°1064nm激光透过率大于90％的增透膜。激光增益介质2-1的上表面靠近泵浦源，作为泵浦面，镀有0°808nm泵浦激光透过率大于90％的增透膜。
上述大腔模体积超快激光反馈放大器还包括激光增益介质热沉6，用于为激光增益介质的下表面2-2散热，并对激光增益介质提供固定支撑。
脉冲光开关10用于控制放大后短脉冲激光频率，并配合导引镜9选择性将放大后的短脉冲激光导出。脉冲光开关10的工作时间、工作频率以及调谐放大后的短脉冲激光重频等具体参数由本领域专业人员根据实际需要设计。
可选的，脉冲光开关10包括第一调制器10-1和第二调制器10-2，第一调制器10-1为电光Q调制器或声光调制器；第二调制器10-2为波片。
第一超快非稳镜3-1、第二超快非稳镜3-2用于形成激光放大器非稳腔腔镜。其中，第一超快非稳镜3-1和第二超快非稳镜3-2的距离、曲率等设置，满足大腔膜体积超快非稳运行即可，具体参数可以依据实际需要的腔膜体积确定。
在一个具体的实施例中，第一超快非稳镜3-1为具有凹面的球面镜，其凹面曲率半径为R1＝200mm；第二超快非稳镜3-2为具有凹面的球面镜，其凹面曲率半径为R2＝2000mm；第一超快非稳镜3-1、第二超快非稳镜3-2共焦放置。
非稳腔模控制镜4用于控制非稳腔模运行及放大器损耗。
在一个具体的实施例中，非稳腔模控制镜4由钇钕石榴石(YAG)材料制成，对1064nm激光损耗系数为0.5ppm/cm。
可选的，非稳腔模控制镜4为长方体结构，其尺寸为长100mm×宽50mm×高10mm。
图3为本发明第一实施方式提供的非稳腔模控制镜4的截面图，该截面为长和高所构成的面的横截面图，也就是说该截面为垂直于光轴的截面。
非稳腔模控制镜4为镀膜后的光学镜片，非稳腔模控制镜4的长和宽构成的面为通光面，该光学镜片具有两个通光面。其中一个通光面分A、B两个区域镀膜，A区域镀有对谐振激光透过率大于90％的高透膜，B区域镀有对谐振激光反射率大于90％的高反膜；另一个通光面镀有对谐振激光透过率大于90％的高透膜。或者，非稳腔膜控制镜4为光阑。
可选的，第一镀膜区A沿着非稳腔模控制镜4的长度方向的长为50mm，沿着非稳腔模控制镜宽度方向的距离为10mm。优选的，第一镀膜区A设置在非稳腔模控制镜4通光面的中央。可通过调整非稳腔模控制镜的第一镀膜区的大小，能够对高阶模式进行过滤。
在一个优选的实施例中，第一超快非稳镜3-1和第二超快非稳镜3-2沿光轴方向的共焦放置。
非稳腔模控制镜4置于第一超快非稳镜3-1和第二超快非稳镜3-2的焦点上，且非稳腔模控制镜4的100mm的棱边平行于激光增益介质50mm的左端面2-3。
在一个实施例中，经依次沿光轴设置的第一超快非稳镜3-1、非稳腔模控制镜4、激光增益介质2、导引镜9、脉冲光开关10和第二超快非稳镜3-2、以及激光种子光源7、双向分光器8放大后的短脉冲激光的重频为1～100MHz。
在一个实施例中，经过大腔膜体积超快激光反馈放大器输出的为短脉冲激光的，其脉宽为纳秒量级或者短于纳秒量级。
在一个具体的实施例中，激光探测器5-3检测大腔膜体积超快激光反馈放大器溢出激光的信息为激光波前。
在一个优选的实施例中，第一光束校正镜5-11和第二光束校正镜5-12沿光轴方向的共焦放置。
本发明第一实施方式提供的侧面泵浦大腔模体积超快激光反馈放大器的工作过程为：
激光种子源7产生种子激光7-1，种子激光7-1垂直入射至双向分光器8传输方向改变90°并垂直入射至导引镜9。导引镜9将种子激光7-1反射并垂直入射通过脉冲光开关10。脉冲光开关10的第一调制器10-1为电光Q调制器，第二调制器10-2为1/4波片。
当脉冲光开关10处于关断状态下，脉冲光开关10的第二调制器10-2使得种子激光7-1产生1/4相位差；种子激光7-1沿光轴方向传输到达第二超快非稳镜3-2后折返,第二次经过脉冲光开关10，脉冲光开关10的第二调制器10-2使得种子激光7-1继续产生1/4相位差；折返后的种子激光7-1沿光轴方向垂直入射至激光增益介质2中。
当脉冲光开关10处于关断状态下时，光束整形自补偿系统5的光束校正镜5-11与5-12进行光束整形及相位畸变补偿，激光增益介质2放大激光脉冲能量，非稳腔模控制镜4控制非稳模式及滤掉高阶模式，激光传输到达第一超快非稳镜3-1实现单程激光脉冲能量放大；继而，与上述同理，单程激光脉冲能量放大后的脉冲激光沿光轴方向依次经过非稳腔模控制镜4、激光增益介质2、光束整形自补偿系统的光束校正镜5-11与5-12、导引镜9、关断状态的脉冲光开关10、第二超快非稳镜3-2，实现双程激光脉冲能量放大。
同理，当脉冲光开关10处于关断状态时，激光脉冲在第一超快非稳镜3-1至第二超快非稳镜3-2之间可以多程传输以实现多程激光脉冲能量放大。
直到当脉冲光开关10处于打开状态时，脉冲光开关10的第一调制器10-1使得多程激光脉冲能量放大后的激光脉冲再次产生1/4相位差，经导引镜9反射导出激光放大器，经双向分光器8与种子激光7-1实现分离及放大后的激光脉冲输出(图中为双向分光器8的右上角输出)。
本发明第一实施例提供的一种大腔模体积超快激光反馈放大器，通过将放大器设置为非稳腔结构，能够提高模式体积，从而使得激光增益介质及光学元件可承受更高激光功率，提升放大器激光放大能力，实现高功率高光束质量短脉冲激光放大，并且，还可以通过调节脉冲开关的频率，调谐放大后的脉冲重复频率。另一方面，放大器设置有光束整形自补偿系统，能够对放大器内的光束进行整形和调整光束的畸变，能够实现激光腔内模式匹配，补偿光束畸变。
图4是根据本发明第三实施方式提供的端面泵浦大腔模体积超快激光反馈放大器结构示意图。
如图4所示，本发明第三实施方式还提供了一种大腔模体积超快激光反馈放大器，与第一实施方式类似，在第三实施方式仅论述与第二实施方式不同之处，对于相同之处不在赘述。
第一超快非稳镜3-1为具有凹面的球面镜，其凹面曲率半径为R1＝100mm；第二超快非稳镜3-2为具有凹面的球面镜，其凹面曲率半径为R2＝4000mm。
非稳腔模控制镜4，由碳化硅材料制成，对1064nm激光损耗系数为0.3ppm/cm，为长方体结构，其尺寸为长100mm×宽50mm×高10mm。
非稳腔模控制镜4的长和宽构成的面为通光面。朝向激光增益介质2的通光面4-1设置有第一镀膜区A和第二镀膜区B。中间矩形区域A，尺寸为20mm×3mm，镀有对谐振激光透过率大于90％的高透膜，周边区域B镀有对谐振激光反射率大于90％的高反膜；区域A的20mm边长平行于4的100mm棱边。与通过免4-1相对的通光端面4-2镀有1064nm透过率大于90％的增透膜。
第一超快非稳镜3-1至第二超快非稳镜3-2共焦共轴放置，非稳腔模控制镜4置与谐振腔腔镜3-1之间间距为30mm，且非稳腔模控制镜4的100mm棱边平行于板条激光增益介质50mm的棱边。
本发明第三实施方式还提供了端面泵浦一种大腔模体积超快激光反馈放大器，与第一实施方式类似，在第三实施方式仅论述与第一实施方式不同之处，对于相同之处不在赘述。不同之处主要为：
激光增益介质2为Yb:YAG材料，Yb离子掺杂浓度为10at.％。激光增益介质2的形状为平行四边形板条结构。尺寸为：长80mm×宽50mm×厚5mm；上表面2-1与下表面均2-2为矩形，尺寸为：长80mm×宽50mm；侧面为平行四边形，尺寸为长80mm×宽7mm；左端面2-3与右端面2-4均为矩形，尺寸为长50×宽7mm；左端面2-3与下表面2-1的夹角为45°角，右端面2-4与上表面的夹角为45°角。激光增益介质2的左端面2-3和右端面2-4均镀有0°1030nm激光透过率大于90％的增透膜。泵浦面2-1镀有0°946nm泵浦激光透过率大于90％的增透膜。
半导体泵浦源1为946nm半导体模块，发射的泵浦光经波导1-2光束整形器后，经泵浦光导入镜1-4对准板条激光增益介质2的端面2-3对其进行泵浦，泵浦光热管理系统1-3为其提供散热与固定支撑；所述泵浦光导入镜1-4镀有45°946nm激光反射率大于90％的高反膜，以及1030nm激光透过率大于90％的增透膜。
非稳腔模控制镜4为软边光阑，控制非稳模式及滤掉高阶模式；软边光阑由石英材料制成，为中空矩形，外尺寸为长100mm×宽50mm×厚10mm，中空部分内尺寸为长50mm×宽6mm×厚10mm，两者长、宽、厚方向一致；软边光阑垂直于光轴放置，且长度方向与板条50mm棱边平行。
本发明第三实施方式提供的一种大腔模体积超快激光反馈放大器，一方面，通过将放大器设计为非稳腔结构，能够提高模式体积，从而使得激光增益介质及光学元件可承受更高激光功率，提升放大器激光放大能力，实现高功率高光束质量短脉冲激光放大。另一方面，放大器设置有光束整形自补偿系统，能够对放大器内的光束进行整形和调整光束的畸变，能够实现激光腔内模式匹配，补偿光束畸变。
应当理解的是，本发明的上述具体实施方式仅仅用于示例性说明或解释本发明的原理，而不构成对本发明的限制。因此，在不偏离本发明的精神和范围的情况下所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。此外，本发明所附权利要求旨在涵盖落入所附权利要求范围和边界、或者这种范围和边界的等同形式内的全部变化和修改例。
Claims (7)
1.一种大腔模体积超快激光反馈放大器，其特征在于，包括：依次沿光轴设置的第一超快非稳镜(3-1)、非稳腔模控制镜(4)、激光增益介质(2)、导引镜(9)、脉冲光开关(10)和第二超快非稳镜(3-2)、以及激光种子光源(7)、双向分光器(8)和光束整形自补偿系统；
激光种子光源(7)用于提供短脉冲种子激光，发射至所述双向分光器(8)；
所述导引镜(9)设置在经所述双向分光器(8)分离的第一束光的光轴上；
所述光束整形自补偿系统用于对经过其传输的光束整形，以及闭环反馈式实时补偿极高功率条件下热效应导致的光束畸变；
所述第一超快非稳镜(3-1)和第二超快非稳镜(3-2)构成非稳腔腔镜。
2.根据权利要求1所述的大腔模体积超快激光反馈放大器，其特征在于，
所述非稳腔模控制镜(4)为镀膜后的光学镜片，所述光学镜片具有两个通光面，其膜系分别为：其中一个通光面包括A区域和B区域，所述A区域镀有对谐振激光透过率大于90％的高透膜，所述B区域镀有对谐振激光反射率大于90％的高反膜；另一个通光面镀有对谐振激光透过率大于90％的高透膜；或者，
所述非稳腔膜控制镜(4)为光阑。
3.根据权利要求1所述的大腔模体积超快激光反馈放大器，其特征在于，所述光束整形自补偿系统包括光束校正镜、固定在所述光束校正镜下的闭环控制台、探测器(5-3)、反馈系统(5-4)和控制系统(5-5)；
所述探测器(5-3)实时监测激光器输出激光的信息并将其通过所述反馈系统(5-4)传输至所述控制系统(5-5)；
所述控制系统(5-5)对所述激光器输出激光的信息进行数据分析后，对闭环控制台以及光束校正镜进行反馈式控制，实现整形及光束校正。
4.根据权利要求3所述的大腔模体积超快激光反馈放大器，其特征在于，所述光束校正镜为：
透镜组，所述控制系统(5-5)通过所述反馈系统(5-4)对所述闭环控制台的位置以及角度进行调整，以调整所述透镜组的位置及角度，实现光束整形及校正；
或，所述光束校正镜为曲率可变的曲面镜，所述控制系统(5-5)通过所述反馈系统(5-4)对所述闭环控制台位置以及角度进行调整，以对所述光束校正镜的位置、角度及面型进行调整，实现光束整形及校正。
5.根据权利要求1所述的大腔膜体积超快激光反馈放大器，其特征在于，经依次沿光轴设置的第一超快非稳镜(3-1)、非稳腔模控制镜(4)、激光增益介质(2)、导引镜(9)、脉冲光开关(10)和第二超快非稳镜(3-2)、以及激光种子光源(7)、双向分光器(8)放大后的短脉冲激光的重频为1Hz～100MHz。
6.根据权利要求1所述的大腔膜体积超快激光反馈放大器，其特征在于，还包括激光增益介质热沉(6)和半导体泵浦源(1)；
所述激光增益介质热沉(6)设置在所述激光增益介质(2)的一面上；
所述半导体泵浦源(1)用于为所述激光增益介质(2)提供能量。
7.根据权利要求1所述的大腔模体积超快激光反馈放大器，其特征在于，所述半导体泵浦源对准所述激光增益介质(2)的至少一个光学平面进行泵浦，或者对准所述激光增益介质(2)的至少一个光学平面的部分区域进行泵浦。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201811519160.1A CN109326949B (zh) | 2018-12-12 | 2018-12-12 | 一种大腔模体积超快激光反馈放大器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201811519160.1A CN109326949B (zh) | 2018-12-12 | 2018-12-12 | 一种大腔模体积超快激光反馈放大器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109326949A true CN109326949A (zh) | 2019-02-12 |
| CN109326949B CN109326949B (zh) | 2019-10-15 |
Family
ID=65257280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201811519160.1A Active CN109326949B (zh) | 2018-12-12 | 2018-12-12 | 一种大腔模体积超快激光反馈放大器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN109326949B (zh) |
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| PB01 | Publication | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |