CN109295417A - 连续化真空电子束镀膜的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了本发明涉及一种连续化真空电子束镀膜的方法，属于镀膜技术领域。本发明要解决的技术问题是提供一种成本低、无污染、高效率、高质量的镀厚膜的方法，其包括以下步骤：将镀膜金属置入真空电子束连续镀膜装置中，通过开卷机和收卷机使基体材料在电子束炉内运行，将基底材料温度加热至400～1200℃，设置电子束功率不小于20KW，控制电子束炉工作腔真空度为10～10‑3Pa，进行镀膜，镀膜后冷却至不超过300℃，得镀膜复合材料。本发明方法可获得镀膜厚度大、耐腐蚀的镀膜复合材料，具有低成本、无污染、速度快和高效率的特点。

Description

连续化真空电子束镀膜的方法
技术领域
本发明属于镀膜技术领域，具体涉及一种连续化真空电子束镀膜的方法。
背景技术
钛是一种银白色金属，它具有密度小、比强度高、耐腐蚀、无毒等优点，并且属于生理惰性金属，与人体接触无致敏、致癌、致畸变现象，可与骨组织、上皮、结缔组织很好地结合，而是生物相容性最好的金属材料。
但由于钛的冶金和材料加工还存在较大的困难，成本很高，使得金属钛难以在民用和工业上大量应用。目前，被大量民用和工业用的抗环境腐蚀材料是各种不同型号的不锈钢。然而在一些环境污染严重的地方，即使如抗蚀性能优良的304也会生锈。特别是在医用上，不锈钢也被大量用作骨骼修补材料，其生物相容性和生理毒性也并不很理想。有鉴于此，将不锈钢和金属钛进行复合，在作为主体的不锈钢材料表面沉积上一层金属钛，将有可能实现“以钢代钛”，使钛材在民用上得到大量推广，得到优于一般不锈钢更好的抗蚀性能；并在医疗器械、民用建筑、工业产品的面板等方面得到应用。
然而，目前在铁、不锈钢表面的处理主要是电镀或化学镀。化学镀主要用于在金属表面进行防腐染色处理，化学镀操作简单，多数在常温下就可进行，缺点是投入大，产生大量工业废水，污染严重，成本高。电镀镀层较厚，可在任何物质上进行镀色，技术比较成熟，缺点是投入大，污染严重，成本高，操作工艺复杂。加之电镀厂投资大，技术稳定性差，加工产品价格昂贵。
为克服钛在铁基材料表面镀膜这一问题，当前也采用钛钢复合方法。包括钛钢冷轧、热轧，钛钢爆炸焊接、钛钢电子束焊接等方法。然而，钛钢轧制难于复合，钛钢爆炸焊接质量难于控制，钛钢电子束焊接要求两种材料极厚。
近年来，市场对具有较好表面性能钢板的需求不断增长，同时，用户对涂镀层的性能要求也越来越高，希望涂镀层不仅具有耐腐蚀、环保相容性、优良的可加工性和表面光学性能，还具有装饰性、抗涂写、易清洁、耐磨损、耐指纹、隔音、抗划痕等性能。
传统的磷化、铬化、电镀和热镀技术经过多年发展，已经进入成熟期，由于其固有的局限性，未来发展的空间有限。激烈的市场竞争要求钢板的涂镀工序减少能耗、提高材料的利用率，大幅度减少实现单项功能所需的成本；同时，把一些下游企业需要实现的功能转移到原材料供应商。上述要求难以通过传统生产线的优化改造实现。
因此，开发一种先进的金属表面处理技术替代传统电镀工艺是大势所趋，需要开发能应用于大规模钢铁生产的新型表面涂镀工艺以及多功能涂镀产品，必将为钛材应用拓展新领域，也将由此产生巨大的经济和社会效益。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种成本低、无污染、高效率、高质量的镀厚膜的方法。
本发明解决上述技术问题所采用的技术方案是提供了一种连续化真空电子束镀膜的方法，该方法包括以下步骤：
将镀膜金属置入真空电子束连续镀膜装置中，通过开卷机和收卷机使基体材料在真空电子束连续镀膜装置内运行，使基体材料在电子束炉内运行，将基底材料温度加热至400～1200℃，设置电子束功率不小于20KW，控制电子束炉工作腔真空度为10～10-3Pa，进行镀膜，冷却至不超过300℃，得镀膜复合材料。
其中，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述电子束炉分为1～3个工作腔，每个工作腔设置电子枪1～2把，每把电子枪功率20～200KW。
优选的，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述电子束功率为20～1200KW。
其中，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述将基底材料温度加热至400～1200℃的方式为：在真空电子束连续镀膜装置内前置1～4个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空加热装置，通过单级或多级加热，将基底材料温度加热至400～1200℃。
其中，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述控制电子束炉工作腔真空度为 10～10-3Pa的方式为：在真空电子束镀膜装置内前置2～8个真空腔室和/或后置2～8个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空装置，通过多级真空，控制电子束炉工作腔真空度为 10～10-3Pa。
其中，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述冷却至不超过300℃的方式为：在真空电子束连续镀膜装置内后置2～4个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空水冷装置，通过多级冷却，将基底材料冷却至不超过300℃。
其中，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述镀膜金属为钛、锆、铪、镍、钴、铬或钒。
优选的，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述镀膜金属为钛。
其中，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述镀膜金属的纯度为 98～99.999％。
其中，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述铁基材料为不锈钢卷、铜卷或铝卷。
优选的，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述铁基材料为不锈钢卷。
其中，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述基体材料的宽度为10～1500mm。
其中，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述基体材料在真空电子束连续镀膜装置内运行的速度为5～200m/min。
其中，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述镀膜的方式为采用斜角射入方式。
其中，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述斜角射入的角度为10～40度。
其中，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述镀膜的速度为5～200m/min。
其中，上述所述的连续化真空电子束镀膜的方法中，所述镀膜复合材料的镀膜厚度为 0.01～200μm。
结合上述连续化真空电子束镀膜方法，本发明采用了如图1所示连续化真空电子束镀膜装置，其包括电子束炉1、开卷机2和收卷机3，开卷机2设置在电子束炉1的进口端一侧，收卷机3设置在电子束炉1的出口端一侧，开卷机2对待镀膜的金属带卷10进行开卷并将金属镀膜10送入电子束炉1中，金属镀膜10在电子束炉1内完成镀膜后，从电子束炉1的出口端进入收卷机3中，收卷机3将镀膜完成的金属带卷10收卷，开卷机2和收卷机3共同配合为金属带卷10的在电子束炉1内的输送提供动力。电子束炉1通过设置电子束炉1内的电子枪12对金属带卷10进行镀膜，电子束炉1由1～3个连通的工作腔11组成，每个工作腔 11内都设有1～2把电子枪12，电子枪12对镀膜原料进行加热，使镀膜原料沉积在金属带卷 10的表面形成镀膜层。
为了实现镀膜工作时的真空环境，该装置还包括连通在电子束炉1进口端的前置真空室 4和连通在电子束炉1出口端的后置真空室5；前置真空室4由2～8个连通的前置真空腔41 组成，后置真空室5由2～8个连通的后置真空腔51组成；前置真空腔41与后置真空腔51 内都设有平板真空装置，通过平板真空装置实现镀膜前和镀膜后的多级真空环境，避免镀膜原料在空气中被氧化成氧化物，失去金属性能，影响镀膜效果。
另外，为了加强镀膜效果，该装置还设置了加热真空室6和冷却真空室7，加热真空室6 连通在电子束炉1与前置真空室4之间，冷却真空室7连通在电子束炉1与后置真空室5之间；加热真空室6由1～4个连通的加热真空腔61组成，冷却真空室2～4个连通的冷却真空腔71组成；每个加热真空腔61内都设有平板真空加热装置，每个冷却真空腔71内都设有平板真空冷却装置。在金属带卷10进行镀膜工作前，通过加热真空室6内的平板真空加热装置对金属带卷10进行单级或多级加热，设置单个加热真空腔61即进行单级加热，设置2～4个加热真空腔61即进行多级加热，将金属带卷10加热至适当温度，能使镀膜层与金属带卷10的结合更加紧密。在金属带卷10完成镀膜工作后，通过冷却真空室7内的平板真空冷却装置对金属带卷10进行多级冷却，有利于调节镀膜层内部晶粒组织结构，进一步避免镀膜被氧化，同时快速冷却有利于金属带卷10尽快取出，缩短工作时间。
如图1所示，在前置真空室4与开卷机2之间设有前置矫直机8，在后置真空室5与收卷机3之间设有后置矫直机9，前置矫直机8对金属带卷10进行镀膜前的矫直，而后置后置矫直机9则对金属带卷10进行镀膜后的矫直，镀膜前对金属带卷10进行矫直可使金属带卷 10整体平直，有利于提高镀膜材料与金属带卷10的结合度；而由于本发明 在镀膜前对金属带卷10进行了加热，并在镀膜后对金属带卷10进行了冷却，金属带卷10经过加热膨胀和冷却收缩后平直度可能会降低，通过后置矫直机9对镀膜后的金属带卷10进行矫直以提高金属带卷10的平直度。
本发明的有益效果：
本发明方法采用大功率电子束炉，并采用单级或多级加热、真空镀膜、多级冷却控制镀膜条件，能够获得镀膜厚度大、耐腐蚀的镀膜复合材料，其镀膜厚度达到0.01～200μm；本发明方法具有低成本、无污染、速度快、高效率、可镀物质的多样性、良好的薄膜性能等特点，并实现了镀膜生产连续化、大面积、高速率、大规模生产，值得推广应用。
附图说明
图1为本发明采用的真空电子束连续镀膜装置的示意图。
图中标记为：1-电子束炉、11-工作腔、12-电子枪、2-开卷机、3-收卷机、4-前置真空室、 41-前置真空腔、5-后置真空室、51-后置真空腔、6-加热真空室、61-加热真空腔、7-冷却真空室、71-冷却真空腔、8-前置矫直机、9-后置矫直机、10-金属带卷。
具体实施方式
具体的，连续化真空电子束镀膜的方法，该方法包括以下步骤：
将镀膜金属置入真空电子束连续镀膜装置中，通过开卷机和收卷机使基体材料在电子束炉内运行，将基底材料温度加热至400～1200℃，设置电子束功率不小于20KW，控制电子束炉工作腔真空度为10～10-3Pa，进行镀膜，镀膜后冷却至不超过300℃，得镀膜复合材料。
本发明方法中电子束炉分为1～3个工作腔，每个工作腔设置电子枪1～2把，每把电子枪功率20～200KW；在镀膜时，每把电子枪可进行开关，控制电子束功率(每把电子枪的功率加和即为电子束功率)，因此本发明可将电子束功率控制在20～1200KW，从而对多种基底材料，采用多种镀膜金属进行镀膜，应用范围广泛。
本发明方法中，在真空电子束镀膜装置内前置2～8个真空腔室和/或后置2～8个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空装置，通过多级真空，控制电子束炉工作腔真空度为10～10-3Pa，避免钛、锆等镀膜金属在空气氧化成氧化物，失去金属性能。
本发明方法中，在真空电子束连续镀膜装置内前置1～4个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空加热装置，通过单级或多级加热，将基底材料温度加热至400～1200℃,；采用单级或多级加热，便于控制基底材料温度，并基底材料加热至适当温度，能使镀膜层结合更紧密。
本发明方法中，在真空电子束连续镀膜装置内后置2～4个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空水冷装置，通过多级冷却，将基底材料冷却至不超过300℃；采用多级冷却，有利于调节材料内部晶粒组织结构，进行避免镀膜氧化，同时快速冷却有利于产品尽快取出，缩短工作时间。
本发明方法中镀膜金属为钛、锆、铪、镍、钴、铬或钒，由于本发明方法在在真空电子束连续镀膜装置内前后设置了开卷机和收卷机，因此可将不同宽幅的基体材料(不锈钢卷、铜卷或铝卷等卷材)放入电子束炉中，实现宽度为10～1500mm的基体材料的连续运行；根据卷机转速，基体材料在真空电子束连续镀膜装置内运行的速度为5～200m/min；所述镀膜金属的纯度为98～99.999％。
本发明方法中镀膜时，采用10～40度的斜角射入方式，有助于电子束全部打在需要镀膜的材料上，提高镀膜效率。
本发明方法采用大功率电子束炉，将基底材料温度加热至400～1200℃，使电子束功率达到20～1200KW，控制电子束炉工作腔真空度为10～10-3Pa，进行镀膜，镀膜效率高，镀膜速度可控制在5～200m/min，镀膜后，再通过多级冷却至不超过300℃，使所镀的膜具有厚度大、耐腐蚀的特点，镀膜复合材料的镀膜厚度达到0.01～200μm。
优选的，一种连续化真空电子束镀膜的方法，该方法包括以下步骤：
将镀膜金属置入真空电子束连续镀膜装置中，以宽度为10～1500mm的金属基材料为基底材料，将基体材料放入开卷机中，使基体材料在真空电子束连续镀膜装置内以5～200m/min 的速度运行，在真空电子束连续镀膜装置内前置1～4个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空加热装置，通过单级或多级加热，将基底材料温度加热至400～1200℃，设置电子束功率为 20～1200KW，在真空电子束镀膜装置内前置2～8个真空腔室和/或后置2～8个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空装置，通过多级真空，将电子束炉工作腔真空度控制为10～10-3Pa，进行镀膜，镀膜速度为5～200m/min，镀膜后，通过在真空电子束连续镀膜装置内后置2～4个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空水冷装置，通过多级冷却，冷却至不超过300℃，得镀膜厚度为0.1～200μm的镀膜复合材料。
下面通过实施例对本发明作进一步详细说明，但并不因此将本发明保护范围限制在所述的实施例范围之中。
实施例1
本实施例的真空电子束连续镀膜装置中：
在真空电子束连续镀膜装置内前后设置开卷机和收卷机；
电子束炉含有1个工作腔，工作腔设置电子枪1把；
在真空电子束连续镀膜装置内前置1个真空腔室，在该真空腔室设置平板真空加热装置，进行单级加热；
在真空电子束镀膜装置内工作腔前再置3个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空装置，进行多级真空；
在真空电子束连续镀膜装置内后置3个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空冷却装置，进行多级冷却；
本实施例真空电子束镀膜的方法包括以下步骤：
将TA1纯钛板置入电子束炉中，以宽度为650mm的304不锈钢带为基底，将不锈钢带放入前置真空卷绕系统中，不锈钢带在电子束炉内以10m/min的速度运行，通过单级加热，使电子束炉基底材料温度达到600℃，设置每把电子枪的功率为200KW(即电子束功率为200KW)，通过真空卷绕系统连接的机械泵使电子束炉工作腔真空度达到2.6×10-2Pa，镀膜10min，通过多级冷却，使电子束炉基底材料温度降到200℃，获得的钛膜厚度达120微米的厚钛膜铁基复合材料100m。
实施例2
本实施例的真空电子束连续镀膜装置中：
在真空电子束连续镀膜装置内前后设置开卷机和收卷机；
电子束炉含有2个工作腔，每个工作腔设置电子枪2把；
在真空电子束连续镀膜装置内前置1个真空腔室，真空腔室设置平板真空加热装置，进行单级加热；
在真空电子束镀膜装置内工作腔前再置5个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空装置，进行多级真空；
在真空电子束连续镀膜装置内后置2个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空冷却装置，进行多级冷却；
本实施例真空电子束镀膜的方法包括以下步骤：
将TA1纯钛板置入电子束炉中，以宽度为650mm的304不锈钢带为基底，将不锈钢带放入前置真空卷绕系统中，不锈钢带在电子束炉内以20m/min的速度运行，通过单级加热，使电子束炉基底材料温度达到500℃，设置每把电子枪的功率为200KW(即电子束功率为800KW)，通过真空卷绕系统连接的罗茨泵使电子束炉工作腔真空度达到2.9×10-2Pa，镀膜8min，通过多级冷却，使电子束炉基底材料温度降到280℃，获得的钛膜厚度达120微米的厚钛膜铁基复合材料160m。
实施例3
本实施例的真空电子束连续镀膜装置中：
在真空电子束连续镀膜装置前后设置开卷机和收卷机；
电子束炉含有3个工作腔，每个工作腔设置电子枪2把；
在真空电子束连续镀膜装置内前置3个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空加热装置，进行多级加热；
在真空电子束镀膜装置内工作腔前再置6个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空装置，进行多级真空；
在真空电子束连续镀膜装置内后置3个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空水冷装置，进行多级冷却；
本实施例真空电子束镀膜的方法包括以下步骤：
将TA1纯钛板置入电子束炉中，以宽度为650mm的304不锈钢带为基底，将不锈钢带放入前置真空卷绕系统中，不锈钢带在电子束炉内以20m/min的速度运行，通过多级加热，使电子束炉基底材料温度达到600℃，设置每把电子枪的功率为200KW(即电子束功率为1200KW)，通过真空卷绕系统连接的罗茨泵使电子束炉工作腔真空度达到6.1×10-2Pa，镀膜1min，通过多级冷却，使电子束炉基底材料温度降到到200℃，获得的钛膜厚度达120微米的厚钛膜铁基复合材料20m。

Claims (10)

1.连续化真空电子束镀膜的方法，其特征在于：包括以下步骤：
将镀膜金属置入真空电子束连续镀膜装置中，通过开卷机和收卷机使基体材料在真空电子束连续镀膜装置内运行，将基底材料温度加热至400～1200℃，设置电子束功率不小于20KW，控制电子束炉工作腔真空度为10～10-3Pa，进行镀膜，镀膜后冷却至不超过300℃，得镀膜复合材料。
2.根据权利要求1所述的连续化真空电子束镀膜的方法，其特征在于：所述电子束炉含有1～3个工作腔，每个工作腔设置电子枪1～2把，每把电子枪功率20～200KW。
3.根据权利要求1或2所述的连续化真空电子束镀膜的方法，其特征在于：所述电子束功率为20～1200KW。
4.根据权利要求1所述的连续化真空电子束镀膜的方法，其特征在于：所述将基底材料温度加热至400～1200℃的方式为：在真空电子束连续镀膜装置内前置1～4个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空加热装置，通过单级或多级加热，将基底材料温度加热至400～1200℃。
5.根据权利要求1所述的连续化真空电子束镀膜的方法，其特征在于：所述控制电子束炉工作腔真空度为10～10-3Pa的方式为：在真空电子束镀膜装置内前置2～8个真空腔室和/或后置2～8个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空装置，通过多级真空，控制电子束炉工作腔真空度为10～10-3Pa。
6.根据权利要求1所述的连续化真空电子束镀膜的方法，其特征在于：所述冷却至不超过300℃的方式为：在真空电子束连续镀膜装置内后置2～4个真空腔室，每个真空腔室设置平板真空冷却装置，通过多级冷却，将基底材料冷却至不超过300℃。
7.根据权利要求1所述的真空电子束镀膜的方法，其特征在于：所述镀膜金属为钛、锆、铪、镍、钴、铬或钒；所述铁基材料为不锈钢卷、铜卷或铝卷；所述基体材料的宽度为10～1500mm；所述基体材料在电子束炉内运行的速度为5～200m/min。
8.根据权利要求1所述的连续化真空电子束镀膜的方法，其特征在于：所述镀膜的方式为采用斜角射入方式；所述斜角射入的角度为10～40度；所述镀膜的速度为5～200m/min。
9.根据权利要求1所述的连续化真空电子束镀膜的方法，其特征在于：所述镀膜复合材料的镀膜厚度为0.01～200μm。
10.根据权利要求1～9任一项所述的连续化真空电子束镀膜的方法，其特征在于：所述真空电子束连续镀膜装置包括电子束炉(1)、开卷机(2)、收卷机(3)、前置真空室(4)、后置真空室(5)、加热真空室(6)、冷却真空室(7)、前置矫直机(8)和后置矫直机(9)；所述开卷机(2)设置在电子束炉(1)的进口端一侧，收卷机(3)设置在电子束炉(1)的出口端一侧；所述电子束炉(1)由1～3个连通的工作腔(11)组成，每个工作腔(11)内设有1～2把电子枪(12)；前置真空室(4)连通在电子束炉(1)进口端，后置真空室(5)连通在电子束炉(1)出口端，所述前置真空室(4)由2～8个连通的前置真空腔(41)组成，所述后置真空室(5)由2～8个连通的后置真空腔(51)组成，所述前置真空腔(41)与后置真空腔(51)内都设有平板真空装置；所述加热真空室(6)连通在电子束炉(1)与前置真空室(4)之间，所述冷却真空室(7)连通在电子束炉(1)与后置真空室(5)之间；所述加热真空室(6)由1～4个连通的加热真空腔(61)组成，所述冷却真空室(7)由2～4个连通的冷却真空腔(71)组成；所述加热真空腔(61)内设有平板真空加热装置，所述冷却真空腔(71)内设有平板真空水冷装置；前置矫直机(8)设置在前置真空室(4)与开卷机(2)之间，后置矫直机(9)设置在后置真空室(5)与收卷机(3)之间。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110592552A (zh) * 2019-09-03 2019-12-20 肇庆宏旺金属实业有限公司 一种钢卷镀钛工艺
CN111593302A (zh) * 2020-06-01 2020-08-28 肇庆宏旺金属实业有限公司 一种具有彩色磨砂膜层的不锈钢卷加工方法
CN111663111A (zh) * 2020-06-01 2020-09-15 肇庆宏旺金属实业有限公司 一种具有彩色雪花砂拉丝膜层的不锈钢卷加工方法
CN112014183A (zh) * 2020-09-02 2020-12-01 广东中科英海科技有限公司 一种实验动物胎仔骨骼标本的制备装置及标记方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101649448A (zh) * 2009-08-26 2010-02-17 兰州大成自动化工程有限公司 金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置
CN201648512U (zh) * 2010-03-24 2010-11-24 深圳森丰真空镀膜有限公司 连续真空镀膜装置
CN104694903A (zh) * 2014-02-26 2015-06-10 陈庆丰 连续式物理真空镀膜设备

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101649448A (zh) * 2009-08-26 2010-02-17 兰州大成自动化工程有限公司 金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置
CN201648512U (zh) * 2010-03-24 2010-11-24 深圳森丰真空镀膜有限公司 连续真空镀膜装置
CN104694903A (zh) * 2014-02-26 2015-06-10 陈庆丰 连续式物理真空镀膜设备

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110592552A (zh) * 2019-09-03 2019-12-20 肇庆宏旺金属实业有限公司 一种钢卷镀钛工艺
CN111593302A (zh) * 2020-06-01 2020-08-28 肇庆宏旺金属实业有限公司 一种具有彩色磨砂膜层的不锈钢卷加工方法
CN111663111A (zh) * 2020-06-01 2020-09-15 肇庆宏旺金属实业有限公司 一种具有彩色雪花砂拉丝膜层的不锈钢卷加工方法
CN112014183A (zh) * 2020-09-02 2020-12-01 广东中科英海科技有限公司 一种实验动物胎仔骨骼标本的制备装置及标记方法
CN112014183B (zh) * 2020-09-02 2024-03-22 广东中科英海科技有限公司 一种实验动物胎仔骨骼标本的制备装置及标记方法

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