CN109259180B - 酿造方法、酿造装置和酿造系统 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种酿造方法、酿造装置和酿造系统，其中，酿造方法包括以下步骤：获取目标光谱；根据所述目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数；控制所述发光器件按照所述运行参数运行，以使所述光源组件出射与所述目标光谱相符的酿造光。本发明技术方案实现了对酿造过程中酿造光的调控，以改善酿造效果。

Description

酿造方法、酿造装置和酿造系统

技术领域

本发明涉及酿造技术领域，特别涉及一种酿造方法、酿造装置和酿造系统。

背景技术

为了改善酱油等食品的酿造效果，通常需要利用太阳光进行晒制，在太阳光的辐照下，酱油等食品内的微生物和其它原料发生一系列化学、生物反应，从而具有高品质的风味。但是，在晒制工艺中，一方面晒制时长受到一天中白昼时长的限制；另一方面，季节更替以及天气变化等使太阳光很不稳定。综上，这种依赖于太阳的晒制工艺导致食品的生产效率较低、晒制品质较差，酿造效果不理想。

发明内容

本发明的主要目的是提出一种酿造方法，旨在解决上述食品酿造过程中受到太阳光制约的技术问题，改善食品的酿造效果。

为实现上述目的，本发明提出的酿造方法，包括以下步骤：

获取目标光谱；

根据所述目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数；

控制所述发光器件按照所述运行参数运行，以使所述光源组件出射与所述目标光谱相符的酿造光。

优选地，在根据所述目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数的步骤之后，所述酿造方法还包括以下步骤：

控制所述发光器件按照所述运行参数运行，并接收所述光源组件的出射光谱；

比对所述出射光谱和所述目标光谱；

当所述出射光谱和所述目标光谱之间的匹配度小于预设匹配度时，调节所述发光器件的运行参数，直至所述出射光谱和所述目标光谱之间的匹配度大于或等于所述预设匹配度。

优选地，所述目标光谱包括第一目标光谱和第二目标光谱；

获取目标光谱的步骤包括：

获取酿造目标，并根据所述酿造目标确定酿造程序；

根据所述酿造程序，确定第一目标光谱、所述第一目标光谱对应的第一辐照时长、第二目标光谱和所述第二目标光谱对应的第二辐照时长。

优选地，所述光源组件包括至少两种发光器件，且所述发光器件呈阵列排布；

根据所述目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数的步骤包括：

根据所述发光器件的出射光谱，在频域上将所述目标光谱划分成至少一个子目标光谱；

根据各所述子目标光谱的光谱成分和强度，确定对应的所述发光器件的运行参数。

优选地，所述光源组件包括至少两种发光器件，且所述发光器件呈阵列排布；

根据所述目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数的步骤包括：

根据预设频谱间距，在频域上将所述目标光谱划分成至少一个子目标光谱；

根据各所述子目标光谱，确定对应的发光器件和所述发光器件的运行参数。

优选地，所述光源组件包括第一发光器件和第二发光器件，所述第一发光器件和所述第二发光器件相邻设置，且所述第一发光器件和所述第二发光器件的出射光谱一致；

控制所述发光器件按照所述运行参数运行，以使所述光源组件出射与所述目标光谱相符的酿造光的步骤包括：

累计所述第一发光器件的连续运行时长；

比对所述连续运行时长和预设时长；

当所述连续运行时长大于或等于所述预设时长时，控制所述第一发光器件由运行转换为关闭，控制所述第二发光器件由关闭转换为按照所述第一发光器件的运行参数运行。

为实现上述目的，本发明还提出一种酿造装置，所述酿造装置包括光源组件，所述光源组件包括发光器件和控制器，所述发光器件呈阵列排布；所述控制器与所述发光器件电连接，所述控制器控制所述发光器件按照所述运行参数运行，以使所述光源组件出射与所述目标光谱相符的酿造光。

优选地，所述发光器件包括发光二极管，所述发光二极管的中心出射波长为200nm～1000nm，所述发光二极管的出射半波宽小于40nm。

为实现上述目的，本发明进一步提出一种酿造系统，所述酿造系统包括储存容器和酿造装置，所述储存容器中空以形成酿造腔；所述酿造装置设于所述酿造腔的上方，且所述酿造装置与所述储存容器密封连接，所述酿造装置包括光源组件，所述光源组件包括发光器件和控制器，所述发光器件呈阵列排布；所述控制器与所述发光器件电连接，所述控制器控制所述发光器件按照所述运行参数运行，以使所述光源组件出射与所述目标光谱相符的酿造光。

为实现上述目的，本发明进一步提出一种酿造系统，所述酿造系统包括储存容器，密封盖和酿造装置，所述储存容器中空以形成酿造腔；所述密封盖与所述储存容器密封连接；所述酿造装置设于所述密封盖朝向所述酿造腔的一侧，所述酿造装置包括光源组件，所述光源组件包括发光器件和控制器，所述发光器件呈阵列排布；所述控制器与所述发光器件电连接，所述控制器控制所述发光器件按照所述运行参数运行，以使所述光源组件出射与所述目标光谱相符的酿造光。

本发明技术方案中，酿造方法包括以下步骤：获取目标光谱；根据目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数；控制发光器件按照运行参数运行，以使光源组件出射与目标光谱相符的酿造光。通过获取目标光谱，控制光源组件中的发光器件按照运行参数运行以合成出与目标光谱相符的酿造光，实现食品酿造的晒制工艺中对酿造光的人工控制，从而使得食品酿造过程不再依赖于自然界中的太阳光，有助于提高食品的生产效率和晒制品质，改善食品的酿造效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本发明酿造方法第一实施例的流程示意图；

图2为本发明酿造方法第二实施例的流程示意图；

图3为本发明酿造方法第三实施例的流程示意图；

图4为本发明酿造方法第四实施例的流程示意图；

图5为本发明酿造方法第五实施例的流程示意图；

图6为本发明酿造方法第六实施例的流程示意图；

图7为本发明酿造装置一实施例的结构示意图；

图8为本发明酿造装置另一实施例的结构示意图；

图9为本发明酿造系统一实施例的结构示意图；

图10为本发明酿造系统另一实施例的结构示意图。

本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

需要说明，若本发明实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本发明实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，全文中出现的“和/或”的含义为，包括三个并列的方案，以“A和/或B”为例，包括A方案，或B方案，或A和B同时满足的方案。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。

本发明提出一种酿造方法。

在本发明的第一实施例中，如图1所示，该酿造方法包括以下步骤：

步骤S100、获取目标光谱；

其中，目标光谱与具体所酿造的食品种类有关，后文中将以酱油为例，详细阐述本发明的技术方案。在酿造酱油的过程中，传统上采用“日晒夜露”的方式，也就是在白天利用太阳光辐照酱油，在夜晚使酱油吸收水分进行酿造。其中，酿造酱油过程中所产生的一系列化学、生物反应与太阳光的光谱有关，也就是说，在酿造酱油的过程中，目标光谱可以选取为与太阳光谱一致或近似的全光谱。当然，也可以对太阳光谱进行优化调整，以获得更适合于酱油酿造的目标光谱，并存储在酱油酿造的工艺中，以待以后调用。当然，对于其它种类的食物，可以分别确定其对应的目标光谱，并存储在相应的酿造工艺中，以待调用。

步骤S200、根据目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数；

其中，光源组件包括发光器件，以模拟目标光谱。在获取到目标光谱之后，根据目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数。不同的发光器件通常具有不同的出射光谱，且对于某些种类的发光器件而言，其出射光谱将随着出射光强的变化发生变化。通过确定各发光器件的出射光谱和出射光强等运行参数，使光源组件整体的出射光与目标光谱相对应。

步骤S300、控制发光器件按照运行参数运行，以使光源组件出射与目标光谱相符的酿造光。

在确定光源组件中发光器件的运行参数之后，控制发光器件按照运行参数运行，以出射与目标光谱相符的酿造光。酿造光对酱油进行辐照，以促进其中一系列的化学、生物反应，从而得到具有高品质风味的酿造酱油。当然，光源组件中还可以包括聚光镜等光学器件，以改善各个发光器件的出射光的合成效果，从而改善酱油的酿造效果。同时，光源组件可以连续长时间出射稳定的酿造光，从而避免了白昼时间、季节更替、天气变化等对酿造过程的限制，有助于提高生产效率，改善晒制品质。

在本实施例中，酿造方法包括以下步骤：获取目标光谱；根据目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数；控制发光器件按照运行参数运行，以使光源组件出射与目标光谱相符的酿造光。通过获取目标光谱，控制光源组件中的发光器件按照运行参数运行以合成出与目标光谱相符的酿造光，实现食品酿造的晒制工艺中对酿造光的人工控制，从而使得食品酿造过程不再依赖于自然界中的太阳光，有助于提高食品的生产效率和晒制品质，改善食品的酿造效果。

基于上述第一实施例，如图2所示，在本发明的第二实施例中，在根据目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数的步骤之后，酿造方法还包括以下步骤：

步骤S410、控制发光器件按照运行参数运行，并接收光源组件的出射光谱；

步骤S420、比对出射光谱和目标光谱；

步骤S430、当出射光谱和目标光谱之间的匹配度小于预设匹配度时，调节发光器件的运行参数，直至出射光谱和目标光谱之间的匹配度大于或等于预设匹配度。

在本实施例中，考虑到光源组件中发光器件的出射强度和出射光谱之间可能具有一定的关联性，即随着出射强度的变化，出射光谱相应变化，以及发光器件本身的性能变化导致的出射强度和出射光谱的变化，因此，根据目标光谱直接得到的发光器件的运行参数控制发光器件运行时，其实际的出射光谱和目标光谱之间可能存在一定的差异。为了保障酿造效果，通过接收光源组件的出射光谱，并根据出射光谱和目标光谱的比对结果，进一步调节发光器件的运行参数，直至出射光谱和目标光谱之间的匹配度大于或等于预设匹配度，从而确保实际的出射光谱与目标光谱基本一致，以保障酿造效果。

基于上述各实施例，目标光谱包括第一目标光谱和第二目标光谱；

如图3所示，获取目标光谱的步骤包括：

步骤S110、获取酿造目标，并根据酿造目标确定酿造程序；

步骤S120、根据酿造程序，确定第一目标光谱、第一目标光谱对应的第一辐照时长、第二目标光谱和第二目标光谱对应的第二辐照时长。

在本实施例中，通过酿造程序可以预先设置至少两种目标光谱，即第一目标光谱和第二目标光谱，并通过酿造程序预先设置第一目标光谱对应的第一辐照时长和第二目标光谱对应的第二辐照时长，从而丰富了可实现的酿造程序，进而能够实现更多种类食品的酿造。酿造目标即所需酿造的食品种类，根据酿造目标确定相应的酿造程序。其中，酿造程序可以是周期性的，例如，对于酱油而言，以第一目标光谱(对应于白昼的太阳光谱)辐照第一辐照时长，以第二目标光谱(对应于夜间的环境光谱)辐照第二辐照时长，并按照上述程序循环，以模拟“日晒夜露”的酿造工艺，改善酿造效果。同时，在本实施例中，由于兼容多种目标光谱，也方便在摸索酿造工艺的过程中，实现辐照参数的自动调节，从而提高工艺改进的效率。

基于上述第一实施例至第三实施例，如图4所示，在本发明的第四实施例中，光源组件包括至少两种发光器件，且发光器件呈阵列排布；

根据目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数的步骤包括：

步骤S211、根据发光器件的出射光谱，在频域上将目标光谱划分成至少一个子目标光谱；

步骤S212、根据各子目标光谱的光谱成分和强度，确定对应的发光器件的运行参数。

在本实施例中，光源组件包括至少两种发光器件，且发光器件呈阵列状排布，以待合成与目标光谱对应的出射光。考虑到发光器件的种类有限，在确定发光器件的运行参数时，首先基于发光器件的出射光谱，在频域上将目标光谱划分成至少一个子目标光谱，其中，一个子目标光谱与一种发光器件相对应。进一步根据各子目标光谱的光谱成分和强度，确定对应的发光器件的运行参数。本实施例中划分目标光谱的方式与已有的发光器件之间的兼容性较好，能够有效避免某种发光器件的缺失而导致的最终的出射光谱与目标光谱相差较大的情况。当然，发光器件的种类越丰富，对目标光谱的模拟效果通常越好。

基于上述第一实施例至第三实施例，如图5所示，在本发明的第五实施例中，光源组件包括至少两种发光器件，且发光器件呈阵列排布；

根据目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数的步骤包括：

步骤S221、根据预设频谱间距，在频域上将目标光谱划分成至少一个子目标光谱；

步骤S222、根据各子目标光谱，确定对应的发光器件和发光器件的运行参数。

在本实施例中，根据预设频谱间距对目标光谱进行划分，并基于各子目标光谱，选取符合的发光器件，并确定对应的发光器件的出射强度等运行参数。在一具体示例中，以25nm为预设频谱间距，太阳光谱中的可见光谱为目标光谱，进行等间距划分，共截取到16段子目标光谱。针对其中任一子目标光谱，根据光谱频段和光谱强度，选取相应的发光器件，并确定发光器件的运行参数，以模拟该子目标光谱，该方法具有较广泛的适用性，受发光器件121本身的影响较小。其中，发光器件的光强调整可以通过调节单个发光器件的占空比或电流等参数实现，也可以通过控制同种类的发光器件的运行数目，通过多个发光器件的出射光合成为所需强度的子目标光谱而实现。相对而言，后一种调节方式下，出射光强度随着发光器件的运行数目的增多呈正比增强，可以有效避免单个发光器件中由于出射光强的变化导致的出射光谱的变化。

基于上述各实施例，如图6所示，在本发明的第六实施例中，光源组件包括第一发光器件和第二发光器件，第一发光器件和第二发光器件相邻设置，且第一发光器件和第二发光器件的出射光谱一致；

控制发光器件按照运行参数运行，以使光源组件出射与目标光谱相符的酿造光的步骤包括：

步骤S310、累计第一发光器件的连续运行时长；

步骤S320、比对连续运行时长和预设时长；

步骤S330、当连续运行时长大于或等于预设时长时，控制第一发光器件由运行转换为关闭，控制第二发光器件由关闭转换为按照第一发光器件的运行参数运行。

在本实施例中，考虑到同一发光器件的连续运行时长过长时，可能导致其发光性能的衰减，甚至发光器件的损坏。为了避免上述情况的产生，光源组件包括出射光谱一致的第一发光器件和第二发光器件。在晒制过程中，通过控制第一发光器件和第二发光器件交替运行，以免同一发光器件的连续运行时长大于或等于预设时长，从而延长了发光器件的使用寿命，同时保障了食品的酿造效果。并且，第一发光器件和第二发光器件相邻设置，以免第一发光器件和第二发光器件之间的切换导致出射光产生较大的变化，以保障酿造工艺的稳定性。

本发明还提出一种酿造装置，在本发明的一实施例中，如图7所示，酿造装置包括光源组件110，光源组件110包括发光器件111和控制器112，发光器件111呈阵列排布；控制器112与发光器件111电连接，控制器112控制发光器件111按照运行参数运行，以使光源组件100出射与目标光谱相符的酿造光。

其中，控制器112包括与发光器件111一一相连的脉宽调制单元，脉宽调制单元通过调节发光器件111电流的周期、占空比等参数，实现发光器件111的出射光强的调节。

在本发明的另一实施例中，如图8所示，控制器112包括与发光器件111一一相连的电流调制单元，电流调制单元可以产生恒定电流，调节发光器件111的电流大小，实现发光器件111出射光强的调节。

进一步的，发光器件包括发光二极管，发光二极管的中心出射波长为200nm～1000nm，发光二极管的出射半波宽小于40nm，以实现对太阳光谱中可见光谱的模拟。发光二极管是一种将电能转换为光能的半导体光源，其出射光谱的单色性好、稳定性强、强度调节简便、可组合性强，并且，发光二极管本身具有体积小、响应快、寿命长、光效高、环保性好等优点。根据材料等的不同，具有多种种类的发光二极管，可以出射多种波长的光。通过多个发光二极管的阵列组合，可以得到所需的目标光谱，以满足酱油的晒制需求。同时，由发光二极管组合而成的光源组件可以设置为多种形状，以适应酿造装置的形状和体积需求，具有很好的灵活性。

进一步的，酿造装置还包括散热组件，散热组件可以对应于发光器件、控制器等设置。散热组件具体可以是散热片等，通过对发光器件散热，第一，有助于避免发光器件自身温度过高而导致出射光谱、出射强度等发生变化；第二，有助于延长发光器件的使用寿命；第三，有助于避免酱油在发光器件影响下温度过高而影响到酿造工艺的稳定性，从而保障了酱油品质。通过对控制器设置散热组件，第一，有助于避免控制器自身温度过高导致其对发光器件的调节出现偏差；第二，有助于延长控制器的使用寿命；第三，有助于影响到酱油酿造工艺的稳定性，从而保障了酱油品质。

本发明还提出一种酿造系统，如图9所示，酿造系统包括储存容器200和酿造装置100，储存容器200中空以形成酿造腔；酿造装置设于酿造腔的上方，且酿造装置与储存容器密封连接。该酿造装置100的具体结构参照上述实施例，由于本酿造系统采用了上述所有实施例的全部技术方案，因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。

本发明还提出一种酿造系统，如图10所示，酿造系统包括储存容器200，密封盖300和酿造装置100；酿造装置100设于密封盖朝向酿造腔的一侧，该酿造装置100的具体结构参照上述实施例，由于本酿造系统采用了上述所有实施例的全部技术方案，因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。

以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的发明构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (8)

1.一种酿造方法，其特征在于，所述酿造方法包括以下步骤：

获取目标光谱；

根据所述目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数；

控制所述发光器件按照所述运行参数运行，以使所述光源组件出射与所述目标光谱相符的酿造光；

所述目标光谱包括第一目标光谱和第二目标光谱；

获取目标光谱的步骤包括：

获取酿造目标，并根据所述酿造目标确定酿造程序；

根据所述酿造程序，确定第一目标光谱、所述第一目标光谱对应的第一辐照时长、第二目标光谱和所述第二目标光谱对应的第二辐照时长；

所述光源组件包括至少两种发光器件，且所述发光器件呈阵列排布；

根据所述目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数的步骤包括：

根据预设频谱间距，在频域上将所述目标光谱划分成至少一个子目标光谱；

根据各所述子目标光谱，确定对应的发光器件和所述发光器件的运行参数。

2.如权利要求1所述的酿造方法，其特征在于，在根据所述目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数的步骤之后，所述酿造方法还包括以下步骤：

控制所述发光器件按照所述运行参数运行，并接收所述光源组件的出射光谱；

比对所述出射光谱和所述目标光谱；

当所述出射光谱和所述目标光谱之间的匹配度小于预设匹配度时，调节所述发光器件的运行参数，直至所述出射光谱和所述目标光谱之间的匹配度大于或等于所述预设匹配度。

3.如权利要求1所述的酿造方法，其特征在于，所述光源组件包括至少两种发光器件，且所述发光器件呈阵列排布；

根据所述目标光谱，确定光源组件中发光器件的运行参数的步骤包括：

根据所述发光器件的出射光谱，在频域上将所述目标光谱划分成至少一个子目标光谱；

根据各所述子目标光谱的光谱成分和强度，确定对应的所述发光器件的运行参数。

4.如权利要求1所述的酿造方法，其特征在于，所述光源组件包括第一发光器件和第二发光器件，所述第一发光器件和所述第二发光器件相邻设置，且所述第一发光器件和所述第二发光器件的出射光谱一致；

控制所述发光器件按照所述运行参数运行，以使所述光源组件出射与所述目标光谱相符的酿造光的步骤包括：

累计所述第一发光器件的连续运行时长；

比对所述连续运行时长和预设时长；

当所述连续运行时长大于或等于所述预设时长时，控制所述第一发光器件由运行转换为关闭，控制所述第二发光器件由关闭转换为按照所述第一发光器件的运行参数运行。

5.一种实现如权利要求1所述酿造方法的酿造装置，其特征在于，所述酿造装置包括光源组件，所述光源组件包括：

发光器件，所述发光器件呈阵列排布；

控制器，所述控制器与所述发光器件电连接，所述控制器控制所述发光器件按照所述运行参数运行，以使所述光源组件出射与所述目标光谱相符的酿造光。

6.如权利要求5所述的酿造装置，其特征在于，所述发光器件包括发光二极管，所述发光二极管的中心出射波长为200nm～1000nm，所述发光二极管的出射半波宽小于40nm。

7.一种酿造系统，其特征在于，所述酿造系统包括：

储存容器，所述储存容器中空以形成酿造腔；

如权利要求5或6所述的酿造装置，所述酿造装置设于所述酿造腔的上方，且所述酿造装置与所述储存容器密封连接。

8.一种酿造系统，其特征在于，所述酿造系统包括：

储存容器，所述储存容器中空以形成酿造腔；

密封盖，所述密封盖与所述储存容器密封连接；

如权利要求5或6所述的酿造装置，所述酿造装置设于所述密封盖朝向所述酿造腔的一侧。

Images