CN109052989A - 茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基板，在所述玻璃基板一表面贴合设置的第一介质复合层，设置在所述第一介质复合层背离所述玻璃基板表面的第一金属复合层，设置在所述第一金属复合层背离所述第一介质复合层表面的第二介质复合层，设置在所述第二介质复合层背离所述第一金属复合层表面的第二金属复合层，设置在所述第二金属复合层背离所述第二介质复合层表面的第三介质复合层，其中，所述第一介质复合层、第二介质复合层、第三介质复合层的材料选自为透明介质材料，所述第一金属复合层、第二金属复合层的总辐射率低于0.15。

Description

茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃及其制备方法

技术领域

本发明属于建筑节能玻璃技术领域，尤其涉及一种茶色基片效果的低辐射 镀膜玻璃。

背景技术

低辐射玻璃，又称Low-E玻璃，是在玻璃表面镀制包括银层在内的多层金 属或其它化合物组成的膜系产品。由于银层具有低辐射的特性，低辐射玻璃对 可见光有较高的透射率，对红外线有很高的反射率，具有良好的隔热性能。

茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃随着建筑市场对玻璃颜色多样性的需求运 用而生。为做到类似茶色基片效果的低辐射镀膜产品，业内一般采用茶色基片 来镀膜，但存在以下问题：茶色基片生产周期和库存时间非常长，导致茶色基 片成本较高；原片新鲜度和表面质量不如白玻，在镀膜过程中容易报废；由于 低辐射镀膜工艺对反射颜色调整范围比较大，而透过颜色一般都会变成绿色或 蓝色，很少能调制成茶色，加之在一些特殊的光环境下，外观色调会发生变化， 因此，使用茶色基片的产品颜色较深，反射率和透过率非常低，对阳光吸收非 常大；热工性能较差等等。

发明内容

本发明的目的在于提供一种茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，旨在解决现 有的类似茶色基片效果的低辐射镀膜产品颜色较深，反射率和透过率非常低， 对阳光吸收非常大等问题。

为实现上述发明目的，本发明采用的技术方案如下：

本发明一方面提供一种茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板， 在所述玻璃基板一表面贴合设置的第一介质复合层，设置在所述第一介质复合 层背离所述玻璃基板表面的第一金属复合层，设置在所述第一金属复合层背离 所述第一介质复合层表面的第二介质复合层，设置在所述第二介质复合层背离 所述第一金属复合层表面的第二金属复合层，设置在所述第二金属复合层背离 所述第二介质复合层表面的第三介质复合层，其中，所述第一介质复合层、第 二介质复合层、第三介质复合层的材料选自为透明介质材料，所述第一金属复 合层、第二金属复合层的总辐射率低于0.15。

优选的，所述第一介质复合层为单层的透明介质材料层，或第一介质复合 层为多层叠合设置、且相邻层材料组成不同的透明介质材料层组成的复合结构 层，且用于所述第一金介质复合层的透明介质材料选自Si₃N₄、SiO₂、TiO₂、ZnO、 SnO₂中的至少一种；所述第一介质复合层的厚度为25纳米-65纳米。

优选的，所述第一金属复合层为单层的金属材料层，或第一金属复合层为 多层叠合设置、且材料组成不同的金属材料层组成的复合结构层，且用于所述 第一金属复合层的金属材料选自Ag、Cu、NiCr、Nb中的至少一种；所述第一 金属复合层的厚度为3纳米-15纳米。

优选的，所述第二介质复合层为单层的透明介质材料层，或第二介质复合 层为多层叠合设置、且相邻层材料组成不同的透明介质材料层组成的复合结构 层，且用于所述第二金介质复合层的透明介质材料选自Si₃N₄、SiO₂、TiO₂、ZnO、 SnO₂中的至少一种；所述第二介质复合层的厚度为15纳米-55纳米。

优选的，所述第二金属复合层单层的金属材料层，或第二金属复合层为多 层叠合设置、且材料组成不同的金属材料层组成的复合结构层，且用于所述第 二金属复合层的金属材料选自Ag、Cu、NiCr、Nb中的至少一种；所述第二金 属复合层的厚度为5纳米-20纳米。

优选的，所述第三介质复合层为单层的透明介质材料层，或第三介质复合 层为多层叠合设置、且相邻层材料组成不同的透明介质材料层组成的复合结构 层，且用于所述第三金介质复合层的透明介质材料选自Si₃N₄、SiO₂、TiO₂、ZnO、SnO₂中的至少一种；所述第三介质复合层的厚度为25纳米-65纳米。

具体优选的，所述第一介质复合层包括依次贴合设置在所述玻璃基板上的 Si₃N₄层和ZnO层，所述第一金属复合层包括依次贴合设置在所述第一介质复 合层上的Cu层和NiCr层，所述第二介质复合层包括依次贴合设置在第一金属 复合层上的ZnO层、Si₃N₄层和ZnO层，所述第二金属复合层包括依次贴合设 置在所述第二介质复合层上的Ag层和NiCr层，所述第三介质复合层包括依次 贴合设置在第二金属复合层上的ZnO层、Si₃N₄层和TiO₂层。

具体优选的，所述第一介质复合层包括依次贴合设置在所述玻璃基板上的 Si₃N₄层和ZnO层，所述第一金属复合层包括依次贴合设置在所述第一介质复 合层上的Ag层、Cu层和NiCr层，所述第二介质复合层包括贴合设置在第一 金属复合层上的ZnO层，所述第二金属复合层包括依次贴合设置在所述第二介 质复合层上的Ag层和NiCr层，所述第三介质复合层包括依次贴合设置在第二 金属复合层上的ZnO层、Si₃N₄层和TiO₂层。

具体优选的，所述第一介质复合层包括依次贴合设置在所述玻璃基板上的 Si₃N₄层和ZnO层，所述第一金属复合层包括依次贴合设置在所述第一介质复 合层上的Ag层、Cu层和NiCr层，所述第二介质复合层包括依次贴合设置在 第一金属复合层上的ZnO/SnO₂混合层和ZnO层，所述第二金属复合层包括依 次贴合设置在所述第二介质复合层上的Ag层和NiCr层，所述第三介质复合层 包括依次贴合设置在第二金属复合层上的ZnO层、Si₃N₄层和TiO₂层。

相应的，一种茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括以下步骤：

提供玻璃基板，将所述玻璃基板进行表面清洁处理后烘干；

将烘干后的所述玻璃基板依次传送进入不同的磁控溅射区域，在所述玻璃 基板表面通过磁控溅射依次制备第一介质复合层、第一金属复合层、第二介质 复合层、第二金属复合层、第三介质复合层。

本发明提供的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，在玻璃基板上设置介质- 金属-介质-金属-介质材料层的层叠结构，并通过选择材料组合，调节合适厚度， 产品对光线的干涉及颜色的变化规律协同调控，使镀膜玻璃的颜色、化学性能 和机械性能达到预期效果，得到的产品的反射颜色为L*(37～69)a*(0～6)， b*(0～6)，透过率为20％～75％，颜色满足a*(-3～5)，b*(-3～10)(a*，b*都 是颜色的指标，a*是红绿越正越红，b*是黄蓝越正越黄)，室外颜色显示深茶、 浅茶，透过颜色接近灰色或茶色，辐射率低于0.15。

本发明提供的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃的制备方法，只需依次在玻 璃基板表面磁控溅射制备第一介质复合层、第一金属复合层、第二介质复合层、 第二金属复合层、第三介质复合层即可，流程简单，且可以直接调控参数制备， 适合大规模产业化生产，且得到的产品稳定性较好。

附图说明

图1是本发明实施例提供的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃的结构示意 图；

图2是本发明实施例1提供的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃的结构示意 图；

图3是本发明实施例2提供的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃的结构示意 图；

图4是本发明实施例3提供的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃的结构示意 图。

具体实施方式

为了使本发明要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以 下结合实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体 实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的， 而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。 由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个 该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确 具体的限定。

结合图1，本发明实施例提供了一种茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，包 括玻璃基板1，在玻璃基板1一表面贴合设置的第一介质复合层2，设置在第一 介质复合层2背离玻璃基板1表面的第一金属复合层3，设置在第一金属复合 层3背离第一介质复合层2表面的第二介质复合层4，设置在第二介质复合层4 背离第一金属复合层3表面的第二金属复合层5，设置在第二金属复合层5背 离第二介质复合层4表面的第三介质复合层6，其中，第一介质复合层2、第二 介质复合层4、第三介质复合层6的材料选自为透明介质材料，第一金属复合 层3、第二金属复合层5的总辐射率低于0.15。

本发明实施例提供的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，在玻璃基板1上设 置介质-金属-介质-金属-介质材料层的层叠结构，并通过选择材料组合，调节合 适厚度，使产品对光线的干涉及颜色的变化规律协同调控，最终使镀膜玻璃的 颜色、化学性能和机械性能达到预期效果，得到的产品的反射颜色为L*(37～69) a*(0～6)，b*(0～6)，透过率为20％～75％，颜色满足a*(-3～5)，b*(-3～10)， 室外颜色显示深茶、浅茶，透过颜色接近灰色或茶色，辐射率低于0.15。

相较于传统的在两层介质层中夹设一层或多层含银镀层，本发明实施例采 用在玻璃基板1上设置的介质-金属-介质-金属-介质材料层的层叠结构，结合材 料和厚度的选择，赋予镀膜玻璃低辐射和茶色基片效果，从而满足建筑市场对 玻璃颜色多样性的需求。

具体的，玻璃基板1为常规普通的透明浮法玻璃，经过去离子水漂洗、烘 干后作为基底使用。

第一介质复合层2用于调整目标镀膜玻璃的颜色，同时，发挥将整体膜层 (介质-金属-介质-金属-介质材料层的层叠结构)与玻璃基板1粘接的作用。第 一介质复合层2可以为单层的透明介质材料层，也可以为多层叠合设置、且相 邻层材料组成不同的透明介质材料层组成的复合结构层，即复合结构层由多层 叠合设置的透明介质材料层组成，且相邻的透明介质材料层的材料组成不同。 具体的，用于第一金介质复合层的透明介质材料选自Si₃N₄、SiO₂、TiO₂、ZnO、 SnO₂中的至少一种，包括Si₃N₄与SiO₂的混合材料层，Si₃N₄与ZnO的混合材 料层。优选的，第一介质复合层2设置为多层叠合结合的透明介质材料层组成 的复合结构层，从而有利于更好地调控目标镀膜玻璃的颜色。

本发明实施例中，第一介质复合层2的厚度为25纳米-65纳米，当第一介 质复合层2为多层叠合结合的透明介质材料层组成的复合结构层，各层透明介 质材料层的厚度结合不同的材料性质进行调整。具体优选的，第一介质复合层 2包括在玻璃基板1上依次设置的Si₃N₄层和ZnO层，其中，所述Si₃N₄层的厚 度为24-39纳米，所述ZnO层的厚度为10纳米，由此获得的第一介质复合层2 不仅具有较好的粘接效果，而且能够更好地在介质-金属-介质-金属-介质材料层 的层叠结构发挥调整颜色的作用，有利于最终获得茶色基片效果的镀膜玻璃。

本发明实施例中，第一金属复合层3为低辐射金属材料层，有助于提高镀 膜玻璃的透过率。此外，第一金属复合层3在介质-金属-介质-金属-介质材料层 的层叠结构中可以提高玻璃透光的同时降低近红外透过，即提高近红外过滤能 力，同时调整目标镀膜玻璃的颜色。第一金属复合层3可以为单层的金属材料 层，也可以为多层叠合设置、且材料组成不同的金属材料层组成的复合结构层， 即复合结构层由多层叠合设置的金属材料层组成，且相邻的技术材料层的材料 组成不同。具体的，用于第一金属复合层3的金属材料选自Ag、Cu、NiCr、 Nb中的至少一种。进一步的，当第一金属复合层3的金属材料为NiCr时，Ni、 Cr两者的摩尔比为75:25，从而能满足本发明实施例第一金属复合层3“提高玻 璃性能和调整目标镀膜玻璃的颜色”的要求。优选的，第一金属复合层3设置为 多层叠合结合的金属材料层组成的复合结构层，从而有利于更好地调控目标镀 膜玻璃的颜色，并提高玻璃性能。

本发明实施例中，第一金属复合层3的厚度为3纳米-15纳米。当第一金 属复合层3为多层叠合结合的金属材料层组成的复合结构层，各层金属材料层 的厚度结合不同的材料性质进行调整。优选的，第一金属复合层3包括在玻璃 基板1上设置的Ag层、Cu层、NiCr层中的至少两层，且NiCr层设置在背离 第一介质复合层2的一侧，从而更好地提高玻璃的性能，同时也更好地调整层 叠结构的颜色，有利于最终获得茶色基片效果的镀膜玻璃。

本发明实施例中，第二介质复合层4设置在两层金属复合层(第一金属复 合层3和第二金属复合层5之间)，用于干涉，并通过干涉作用发挥调整整体 膜层(介质-金属-介质-金属-介质材料层的层叠结构)颜色的功能。第二介质复 合层4可以为单层的透明介质材料层，也可以为多层叠合设置、且相邻层材料 组成不同的透明介质材料层组成的复合结构层，即复合结构层由多层叠合设置 的透明介质材料层组成，且相邻的透明介质材料层的材料组成不同。具体的， 用于第二金介质复合层的透明介质材料选自Si₃N₄、SiO₂、TiO₂、ZnO、SnO₂中 的至少一种，包括Si₃N₄与SiO₂的混合材料层，Si₃N₄与ZnO的混合材料层。 优选的，第二介质复合层4至少包括一层ZnO层，从而使处于两层金属复合层 之间的第二介质复合层4更好地干涉，调整层叠结构的颜色。第二介质复合层 4中，当选用Si₃N₄与SiO₂的混合材料层时，Si₃N₄与SiO₂按质量比为1:1复合； 当选用Si₃N₄与ZnO的混合材料层时，Si₃N₄与ZnO按质量比为1:1复合，从而 更好地发挥干涉作用，调整层叠结构的颜色。

本发明实施例中，第二介质复合层4的厚度需设置较薄，才能最终实现镀 膜玻璃的茶色基片效果。具体的，第二介质复合层4的厚度为15纳米-55纳米。 当第二介质复合层4为多层叠合结合的透明介质材料层组成的复合结构层，各 层透明介质材料层的厚度结合不同的材料性质进行调整。

本发明实施例中，第二金属复合层5设置在两层介质复合层(第二介质复 合层4和第三介质复合层6之间)，在介质-金属-介质-金属-介质材料层的层叠 结构中可以提高玻璃透光的同时降低近红外透过，即提高近红外过滤能力，同 时调整目标镀膜玻璃的颜色。同时，第二金属复合层5为低辐射金属材料层， 有助于提高镀膜玻璃的透过率，最终获得低辐射镀膜玻璃。第二金属复合层5 可以为单层的金属材料层，也可以为多层叠合设置、且材料组成不同的金属材 料层组成的复合结构层，即复合结构层由多层叠合设置的金属材料层组成，且 相邻的技术材料层的材料组成不同。具体的，用于第二金属复合层5的金属材料选自Ag、Cu、NiCr、Nb中的至少一种。进一步的，当第二金属复合层5的 金属材料为NiCr时，Ni、Cr两者的摩尔比为75:25，从而能满足本发明实施例 第二金属复合层5“提高玻璃性能和调整目标镀膜玻璃的颜色”的要求。优选的， 第二金属复合层5设置为多层叠合结合的金属材料层组成的复合结构层，从而 有利于更好地调控目标镀膜玻璃的颜色，并提高玻璃性能。

本发明实施例中，第二金属复合层5的厚度为5纳米-20纳米。当第二金 属复合层5为多层叠合结合的金属材料层组成的复合结构层，各层金属材料层 的厚度结合不同的材料性质进行调整。优选的，第二金属复合层5包括在第二 介质复合层4上依次设置的Ag层和NiCr层，且Ag层的厚度为3.5纳米-6.5 纳米，NiCr层的厚度为1.7纳米-4纳米，且第二金属复合层5的总厚度小于10 纳米，从而更好地提高玻璃的性能，同时也更好地调整层叠结构的颜色，有利 于最终获得茶色基片效果的镀膜玻璃。

本发明实施例中，第三介质复合层6用于调整目标镀膜玻璃的颜色，同时， 作为整体膜层的保护层。第三介质复合层6可以为单层的透明介质材料层，也 可以为多层叠合设置、且相邻层材料组成不同的透明介质材料层组成的复合结 构层，即复合结构层由多层叠合设置的透明介质材料层组成，且相邻的透明介 质材料层的材料组成不同。具体的，用于第三金介质复合层的透明介质材料选 自Si₃N₄、SiO₂、TiO₂、ZnO、SnO₂中的至少一种，包括Si₃N₄与SiO₂的混合材 料层，Si₃N₄与ZnO的混合材料层。优选的，第三介质复合层6设置为多层叠 合结合的透明介质材料层组成的复合结构层，从而有利于更好地调控目标镀膜 玻璃的颜色。

第三介质复合层6的厚度为30纳米-70纳米，当第三介质复合层6为多层 叠合结合的透明介质材料层组成的复合结构层，各层透明介质材料层的厚度结 合不同的材料性质进行调整。具体优选的，第三介质复合层6包括在第二金属 复合层5上依次设置的ZnO层、Si₃N₄层和TiO₂层，其中，所述ZnO层的厚度 为10纳米，所述Si₃N₄层的厚度为18-39纳米，所述TiO₂层的厚度为3纳米， 由此获得的第三介质复合层6能够更好地在介质-金属-介质-金属-介质材料层 的层叠结构发挥调整颜色的作用，有利于最终获得茶色基片效果的镀膜玻璃。

作为一个具体优选实施例，茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基 板1，在玻璃基板1一表面贴合设置的第一介质复合层2，设置在第一介质复合 层2背离玻璃基板1表面的第一金属复合层3，设置在第一金属复合层3背离 第一介质复合层2表面的第二介质复合层4，设置在第二介质复合层4背离第 一金属复合层3表面的第二金属复合层5，设置在第二金属复合层5背离第二 介质复合层4表面的第三介质复合层6；

第一介质复合层2包括依次贴合设置在玻璃基板1上的Si₃N₄层和ZnO层， 第一金属复合层3包括依次贴合设置在第一介质复合层2上的Cu层和NiCr层， 第二介质复合层4包括依次贴合设置在第一金属复合层3上的ZnO层、Si₃N₄层和ZnO层，第二金属复合层5包括依次贴合设置在第二介质复合层4上的 Ag层和NiCr层，第三介质复合层6包括依次贴合设置在第二金属复合层5上 的ZnO层、Si₃N₄层和TiO₂层。

作为另一个具体优选实施例，茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃 基板1，在玻璃基板1一表面贴合设置的第一介质复合层2，设置在第一介质复 合层2背离玻璃基板1表面的第一金属复合层3，设置在第一金属复合层3背 离第一介质复合层2表面的第二介质复合层4，设置在第二介质复合层4背离 第一金属复合层3表面的第二金属复合层5，设置在第二金属复合层5背离第 二介质复合层4表面的第三介质复合层6；

第一介质复合层2包括依次贴合设置在玻璃基板1上的Si₃N₄层和ZnO层， 第一金属复合层3包括依次贴合设置在第一介质复合层2上的Ag层、Cu层和NiCr层，第二介质复合层4包括贴合设置在第一金属复合层3上的ZnO层， 第二金属复合层5包括依次贴合设置在第二介质复合层4上的Ag层和NiCr层， 第三介质复合层6包括依次贴合设置在第二金属复合层5上的ZnO层、Si₃N₄层和TiO₂层。

作为再一个具体优选实施例，茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃 基板1，在玻璃基板1一表面贴合设置的第一介质复合层2，设置在第一介质复 合层2背离玻璃基板1表面的第一金属复合层3，设置在第一金属复合层3背 离第一介质复合层2表面的第二介质复合层4，设置在第二介质复合层4背离 第一金属复合层3表面的第二金属复合层5，设置在第二金属复合层5背离第 二介质复合层4表面的第三介质复合层6；

第一介质复合层2包括依次贴合设置在玻璃基板1上的Si₃N₄层和ZnO层， 第一金属复合层3包括依次贴合设置在第一介质复合层2上的Ag层、Cu层和 NiCr层，第二介质复合层4包括依次贴合设置在第一金属复合层3上的 ZnO/SnO₂混合层和ZnO层，第二金属复合层5包括依次贴合设置在第二介质 复合层4上的Ag层和NiCr层，第三介质复合层6包括依次贴合设置在第二金 属复合层5上的ZnO层、Si₃N₄层和TiO₂层。

本发明实施例提供的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，可以通过下述方法 制备获得。

相应的，本发明实施例还提供了一种茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃的制 备方法，包括以下步骤：

S01.提供玻璃基板，将所述玻璃基板进行表面清洁处理后烘干；

该步骤中，优选将玻璃基板经过清洗剂清洗后，再用纯水漂洗，最后烘干 处理。

S02.将烘干后的所述玻璃基板依次传送进入不同的磁控溅射区域，在玻璃 基板表面通过磁控溅射依次制备第一介质复合层、第一金属复合层、第二介质 复合层、第二金属复合层、第三介质复合层。

该步骤中，将所述玻璃基板依次传送进入各级真空室，逐步从大气环境传 送进入高真空区域。

磁控溅射采用分别设置有第一介质复合层、第一金属复合层、第二介质复 合层、第二金属复合层、第三介质复合层材料的阴极钯依次镀制。

镀制完成各层后，将产品传送进入依次进入各级真空室，逐步从高真空区 域进入大气环境。

本发明实施例提供的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃的制备方法，只需依 次在玻璃基板表面磁控溅射制备第一介质复合层、第一金属复合层、第二介质 复合层、第二金属复合层、第三介质复合层即可，流程简单，且可以直接调控 参数制备，适合大规模产业化生产，且得到的产品稳定性较好。

下面结合具体实施例进行说明。

实施例1

如图2所示，一种茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，包括依次叠加设置的普 通白玻璃基板1、Si₃N₄层21、ZnO层22、Cu层31、NiCr层32、ZnO层41、Si₃N₄层42、ZnO层43、Ag层51、NiCr层52、ZnO层61、Si₃N₄层62、TiO₂层63，其中，

Si₃N₄层21的厚度为39nm，ZnO层22的厚度为10nm，组成第一介质复合层2 的厚度为49nm；

Cu层31的厚度为3.5nm，NiCr层32的厚度为7.7nm，组成带有保护功能的第 一金属复合层3(复合功能层)的厚度为11.2nm；

ZnO层41的厚度为10nm，Si₃N₄层42的厚度为10nm，ZnO层43的层厚度为 10nm，组成第二介质复合层4的厚度为30nm；

Ag层51的厚度为6.5nm，NiCr层52的厚度为4nm，组成带有保护功能的复合 功能层即第二金属复合层5的厚度为10.5nm；

ZnO层61的厚度为10nm，Si₃N₄层62的厚度为39nm，TiO₂层63的厚度为3nm， 组成第二介质复合层(介质保护)6的厚度为52nm。

所述茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃的制备方法为：

利用平板玻璃双端连续式磁控溅射镀膜机，采用下述表1中列出的工艺参 数，使用15个交流旋转阴极，4直流平面阴极，共19个阴极进行生产，制备 出茶色基片效果低辐射镀膜玻璃，其具体的阴极和工艺参数和见如下表1，工 艺走速600cm/min，其中13#平面阴极开口为120mm，其他平面阴极开口均为 220mm。

表1

实施例1提供的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃进行光学性能测试，其测 试结果如下：

第三介质复合层(介质保护)6面的可见光透过率：30％，透过颜色：a*＝ 2.5，b*＝9.0；

第三介质复合层(介质保护)6面的可见光反射率：19％，反射颜色：a*＝-8， b*＝-20；

普通白玻璃基板1的可见光光反射率：15％，反射颜色：a*＝2.5，b*＝0.5。

低辐射镀膜玻璃的颜色为茶色，辐射率0.12，产品性能达到 GB/T18915.2-2013要求。

实施例2

如图3所示，一种茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，包括依次叠加设置的普 通白玻璃基板1、Si₃N₄层21、ZnO层22、Ag层31、Cu层32、NiCr层33、ZnO层4、 Ag层51、NiCr层52、ZnO层61、Si₃N₄层62、TiO₂层63，其中，

Si₃N₄层21的厚度为32nm，ZnO层22的厚度为10nm，组成第一介质复合层2 的厚度为42nm；

Ag层31的厚度为3.5nm，Cu层32的厚度为5nm，NiCr层33的厚度为3.6nm， 组成带有保护功能的第一金属复合层3(复合功能层)的厚度为12.1nm；

ZnO层4的厚度为42nm，组成第二介质复合层4的厚度为42nm；

Ag层51的厚度为3.3nm，NiCr层52的厚度为2.7nm，组成带有保护功能的复 合功能层即第二金属复合层5的厚度为6nm；

ZnO层61的厚度为10nm，Si₃N₄层62的厚度为30nm，TiO₂层63的厚度为3nm， 组成第二介质复合层(介质保护)6的厚度为52nm。

所述茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃的制备方法为：

利用平板玻璃双端连续式磁控溅射镀膜机，采用下述表2中列出的工艺参 数，使用15个交流旋转阴极，5直流平面阴极，共19个阴极进行生产，制备出茶 色基片效果低辐射镀膜玻璃，其具体的阴极和工艺参数和见如下表2，工艺走速600cm/min，平面阴极开口均为220mm。

表2

实施例2提供的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃进行光学性能测试，其测 试结果如下：

第三介质复合层(介质保护)6面的可见光透过率：40％，透过颜色：a*＝ 1，b*＝6.0；

第三介质复合层(介质保护)6面的可见光光反射率：19％，反射颜色：a*＝-5，b*＝-25；

普通白玻璃基板1的可见光光反射率：18％，反射颜色：a*＝3，b*＝5.5。

颜色为茶色，辐射率0.1，产品性能达到GB/T18915.2-2013要求。

实施例3

如图4所示，一种茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，包括依次叠加设置的普 通白玻璃基板1、Si₃N₄层21、ZnO层22、Ag层31、Cu层32、NiCr层33、ZnOSnO2 (5：5)层41、ZnO层42、Ag层51、NiCr层52、ZnO层61、Si₃N₄层62、TiO2层 63，其中，

Si₃N₄层21的厚度为24nm，ZnO层22的厚度为10nm，组成第一介质复合层2 的厚度为34nm；

Ag层31的厚度为3nm，Cu层32的厚度为8nm，NiCr层33的厚度为1.4nm，组 成带有保护功能的第一金属复合层3(复合功能层)的厚度为12.4nm；

ZnO/SnO₂(质量比5：5)层41的厚度为38nm，ZnO层42的厚度为10nm， 组成第二介质复合层4的厚度为48nm；

Ag层51的厚度为3.5nm，NiCr层52的厚度为1.7nm，组成带有保护功能的复 合功能层即第二金属复合层5的厚度为5.2nm；

ZnO层61的厚度为10nm，Si₃N₄层62的厚度为18nm，TiO₂层63的厚度为3nm， 组成第二介质复合层(介质保护)6的厚度为31nm。

所述茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃的制备方法为：

利用平板玻璃双端连续式磁控溅射镀膜机，采用下述表3中列出的工艺参 数，使用15个交流旋转阴极，5直流平面阴极，共19个阴极进行生产，制备出茶 色基片效果低辐射镀膜玻璃，其具体的阴极和工艺参数和见如下表3，工艺走速 500cm/min，平面阴极开口均为220mm。

表3

实施例3提供的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃进行光学性能测试，其测试 结果如下：

第三介质复合层(介质保护)6面的可见光透过率：50％，透过颜色：a*＝1.2， b*＝6.3；

第三介质复合层(介质保护)6面的可见光光反射率：6％，反射颜色：a*＝-4， b*＝-25；

普通白玻璃基板1的可见光光反射率：15％，反射颜色：a*＝0，b*＝7。

颜色为茶色，辐射率0.08，产品性能达到GB/T18915.2-2013要求。

对比例1

一种镀膜玻璃，所述镀膜玻璃包括玻璃基板和在玻璃基板上形成的第一介 质层-金属层-第二介质层的叠层结构，其中，中间的金属层包括三层结构，具 体的，包括依次叠加设置的普通白玻璃基板、Si₃N₄层(25-35纳米)、NiCr层 (4-12纳米)、Ag层(10-20纳米)和NiCr层(4-12纳米)、Si₃N₄层(22-30 纳米)，且NiCr层、Ag层和NiCr层构成金属复合层。

对比例1提供的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃进行光学性能测试，发现无 论其厚度如何调整，得到的镀膜玻璃的颜色为蓝色，且颜色随外界环境的变化 而变化，具体可参见下述两个对比例的结果。

对比例2

一种镀膜玻璃，所述镀膜玻璃包括玻璃基板和在玻璃基板上形成的第一介 质层(33纳米)-金属层(18纳米)-第二介质层(23纳米)的叠层结构，其中， 中间的金属层包括三层结构，具体的，包括依次叠加设置的普通白玻璃基板、 Si₃N₄层(33纳米)、NiCr层(4纳米)、Ag层(10纳米)和NiCr层(4纳米)、 Si₃N₄层(23纳米)，且NiCr层、Ag层和NiCr层构成金属复合层。

对比例2提供的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃进行光学性能测试，其测 试结果如下：

玻璃基板侧反射，反射率10％，颜色：a*＝5，b＝*8，玻璃基板侧透过颜色， 透射率40％，颜色：a*＝-3，b＝*-9；

第二介质层(Si₃N₄层)侧反射，反射率26％，颜色：a*＝1，b＝*15。

对比例2得到的镀膜玻璃与本发明实施例得到的低辐射镀膜玻璃的光学性 能明显不同，对比例2得到的镀膜玻璃，透过颜色值为类茶色的颜色差异巨大 的蓝色。

对比例3

一种镀膜玻璃，所述镀膜玻璃包括玻璃基板和在玻璃基板上形成的第一介 质层(30纳米)-金属层(20纳米)-第二介质层(30纳米)的叠层结构，其中， 中间的金属层包括三层结构，具体的，包括依次叠加设置的普通白玻璃基板、 Si₃N₄层(30纳米)、NiCr层(4纳米)、Ag层(14纳米)和NiCr层(4纳米)、 Si₃N₄层(30纳米)，且NiCr层、Ag层和NiCr层构成金属复合层。

对比例3提供的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃进行光学性能测试，其测 试结果如下：

玻璃基板侧反射，反射率8％，颜色：a*＝5，b＝*11，玻璃基板侧透过颜色， 透射率41％，颜色：a*＝-4，b＝*-12；

第二介质层(Si₃N₄层)侧反射，反射率17％，颜色：a*＝10，b＝*20。

对比例3得到的镀膜玻璃与本发明实施例得到的低辐射镀膜玻璃的光学性 能明显不同，对比例3得到的镀膜玻璃，透过颜色值为类茶色的颜色差异巨大 的蓝色。

以上仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的 精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保 护范围之内。

Claims (10)

1.一种茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基板，在所述玻璃基板一表面贴合设置的第一介质复合层，设置在所述第一介质复合层背离所述玻璃基板表面的第一金属复合层，设置在所述第一金属复合层背离所述第一介质复合层表面的第二介质复合层，设置在所述第二介质复合层背离所述第一金属复合层表面的第二金属复合层，设置在所述第二金属复合层背离所述第二介质复合层表面的第三介质复合层，其中，所述第一介质复合层、第二介质复合层、第三介质复合层的材料选自为透明介质材料，所述第一金属复合层、第二金属复合层的总辐射率低于0.15。

2.如权利要求1所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质复合层为单层的透明介质材料层，或第一介质复合层为多层叠合设置、且相邻层材料组成不同的透明介质材料层组成的复合结构层，且用于所述第一金介质复合层的透明介质材料选自Si₃N₄、SiO₂、TiO₂、ZnO、SnO₂中的至少一种；所述第一介质复合层的厚度为25纳米-65纳米。

3.如权利要求1所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一金属复合层为单层的金属材料层，或第一金属复合层为多层叠合设置、且材料组成不同的金属材料层组成的复合结构层，且用于所述第一金属复合层的金属材料选自Ag、Cu、NiCr、Nb中的至少一种；所述第一金属复合层的厚度为3纳米-15纳米。

4.如权利要求1所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第二介质复合层为单层的透明介质材料层，或第二介质复合层为多层叠合设置、且相邻层材料组成不同的透明介质材料层组成的复合结构层，且用于所述第二金介质复合层的透明介质材料选自Si₃N₄、SiO₂、TiO₂、ZnO、SnO₂中的至少一种；所述第二介质复合层的厚度为15纳米-55纳米。

5.如权利要求1所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第二金属复合层单层的金属材料层，或第二金属复合层为多层叠合设置、且材料组成不同的金属材料层组成的复合结构层，且用于所述第二金属复合层的金属材料选自Ag、Cu、NiCr、Nb中的至少一种；所述第二金属复合层的厚度为5纳米-20纳米。

6.如权利要求1所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第三介质复合层为单层的透明介质材料层，或第三介质复合层为多层叠合设置、且相邻层材料组成不同的透明介质材料层组成的复合结构层，且用于所述第三金介质复合层的透明介质材料选自Si₃N₄、SiO₂、TiO₂、ZnO、SnO₂中的至少一种；所述第三介质复合层的厚度为25纳米-65纳米。

7.如权利要求1-6任一项所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质复合层包括依次贴合设置在所述玻璃基板上的Si₃N₄层和ZnO层，所述第一金属复合层包括依次贴合设置在所述第一介质复合层上的Cu层和NiCr层，所述第二介质复合层包括依次贴合设置在第一金属复合层上的ZnO层、Si₃N₄层和ZnO层，所述第二金属复合层包括依次贴合设置在所述第二介质复合层上的Ag层和NiCr层，所述第三介质复合层包括依次贴合设置在第二金属复合层上的ZnO层、Si₃N₄层和TiO₂层。

8.如权利要求1-6任一项所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质复合层包括依次贴合设置在所述玻璃基板上的Si₃N₄层和ZnO层，所述第一金属复合层包括依次贴合设置在所述第一介质复合层上的Ag层、Cu层和NiCr层，所述第二介质复合层包括贴合设置在第一金属复合层上的ZnO层，所述第二金属复合层包括依次贴合设置在所述第二介质复合层上的Ag层和NiCr层，所述第三介质复合层包括依次贴合设置在第二金属复合层上的ZnO层、Si₃N₄层和TiO₂层。

9.如权利要求1-6任一项所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质复合层包括依次贴合设置在所述玻璃基板上的Si₃N₄层和ZnO层，所述第一金属复合层包括依次贴合设置在所述第一介质复合层上的Ag层、Cu层和NiCr层，所述第二介质复合层包括依次贴合设置在第一金属复合层上的ZnO/SnO₂混合层和ZnO层，所述第二金属复合层包括依次贴合设置在所述第二介质复合层上的Ag层和NiCr层，所述第三介质复合层包括依次贴合设置在第二金属复合层上的ZnO层、Si₃N₄层和TiO₂层。

10.一种茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供玻璃基板，将所述玻璃基板进行表面清洁处理后烘干；

将烘干后的所述玻璃基板依次传送进入不同的磁控溅射区域，在所述玻璃基板表面通过磁控溅射依次制备第一介质复合层、第一金属复合层、第二介质复合层、第二金属复合层、第三介质复合层。