CN108982378A - 基于光谱成像的等离子体组分空间分布实时测量方法及其装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种基于光谱成像的等离子体组分空间分布实时测量方法及其装置,针对观测微纳制造过程中的等离子体加工问题。利用声光可调谐滤波器AOTF的扫频,获取特定波长下的光谱图像,结合光纤光谱仪的高分辨率光谱数据流,完成系统分辨率的优化。相比传统的等离子体加工检测方法,本发明基于仪器采集到的光谱图像,通过指定等离子体组分空间的任意位置,实时感知到该位置处组分的浓度变化;具有自动化程度高,实时性等特点。

Description

基于光谱成像的等离子体组分空间分布实时测量方法及其 装置
技术领域
本发明涉及一种等离子体组分空间分布测量方法,尤其涉及一种采用光谱成像技术测量的方法,适用于半导体等离子体蚀刻工艺过程中组分空间分布实时测量,属于工业传感检测领域。
背景技术
微纳制造依托纳米技术的发展广泛应用于电子、材料、机械、生物、医药、军事等诸多领域,全球市场规模超过一万亿美元,推动超过十万亿美元的相关市场,是推动高新技术产业发展最为重要的先进制造领域之一。而等离子蚀刻微纳加工工艺是一种极为关键且非常典型的微纳制造工艺,典型的应用主要包括等离子体蚀刻和等离子体化学气相沉积。在广义半导体制造(包括集成电路、平板显示器、光伏、LED照明等)中,等离子蚀刻装备占所有装备总量的约20%,因此,等离子体加工技术具有极其重要的意义。
然而,绝大多数微纳制造的工艺环节仍属开环执行,等离子蚀刻亦是如此。随着器件尺度微细化逼近物理极限,开环执行的工艺过程已经无法支持日趋严苛的工艺精准度需求,亟待引入实时反馈控制机制提升工艺质量。但是,和多数微纳制造工艺存在的问题一样,等离子蚀刻过程的反馈控制研究,因为缺乏适用于控制的有效感知手段而长期得不到发展。因此,解决等离子蚀刻微纳加工过程的微纳尺度实时感知问题,不仅为反馈控制在等离子蚀刻中的应用奠定了基础,也对其它微纳制造过程中的实时感知问题的解决、乃至微纳制造行业的整体工艺水平的提升提供了极具现实意义的参考。
有效解决微纳制造过程的实时感知问题,是推动实时反馈控制乃至众多实时控制、动态优化及相关方法在微纳制造领域广泛应用的必由之路,也是微纳制造工艺质量大幅度提升的必然选择之一。我们旨在等离子体加工过程的光学信号中,实时捕获尽可能多的与微纳过程密切相关的信息,特别是近表物质能量场信息,则有希望准确的观测加工过程的微纳尺度特性。
本发明针对该难题,提出了一种等离子体组分空间分布实时测量仪器及方法,基于仪器采集到的光谱图像,通过指定等离子体组分空间的任意位置,实时感知到该位置处组分的浓度变化。
光谱成像按照光谱通道数和光谱分辨率的不同,可分为多光谱、高光谱和超光谱三类。其中,高光谱成像具有高空间分辨率和较多的光谱通道数。本发明考虑采用基于声光可调滤光器(Acoustic-Optic Tunable Filter或AOTF)的高光谱成像技术为基础。尽管AOTF本身的技术含量很高,但是AOTF光谱成像的基本原理和硬件结构都相对简单,通过即时调节AOTF滤光片的滤过波长,所需波长范围内的光谱将和位置信息一起记录下来成为光谱图像集或称图像立方(image cube)。
光谱分析是一种根据物质的光谱来鉴别物质及确定它的化学组成和相对含量的方法。其优点是灵敏,迅速。历史上曾通过光谱分析发现了许多新元素,如铷,铯,氦等。本发明旨在基于特定的光谱分析方法,测量等离子体加工过程中的等离子体组分浓度。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高效快捷地实现等离子体组分空间分布实时感知的方法及装置,通过测量到等离子体腔内任意位置处组分的浓度,用以解决等离子体加工过程中不可实时精细观测的问题。
本发明是这样来实现的:
本发明首先提供了一种基于光谱成像的等离子体组分空间分布实时测量装置,包括等离子体反应腔体、AOTF高光谱成像系统、光纤光谱系统、上位机控制终端;等离子体反应腔体的侧壁上设有石英窗口,石英窗口处设置转接环连接器,AOTF高光谱成像系统与转接环连接器相连;AOTF高光谱成像系统和光纤光谱系统分别与上位机控制终端相连。
作为本发明的一个优选方案,所述的AOTF高光谱成像系统包括前置广角成像镜头、AOTF高光谱成像仪、工业黑白面阵相机、RF驱动器;
AOTF高光谱成像仪的一端与前置广角成像镜头相连,另一端与工业黑白面阵相机相连,AOTF高光谱成像仪与RF驱动器通过信号线连接;RF驱动器、工业黑白面阵相机分别与上位机控制终端相连。
作为本发明的一个优选方案,所述的光纤光谱系统包括光纤光谱仪和光纤;所述光纤一端固定在光纤探头口上,所述的光纤探头口设置在石英窗口外沿上;光纤的另一端与光纤光谱仪连接,光纤光谱仪通过USB接口与上位机控制终端相连。
本发明还公开了一种所述装置的基于光谱成像的等离子体组分空间分布实时测量方法,包括如下步骤:
1)入射信号光首先透过石英窗口进入广角成像镜头,随后入射至AOTF高光谱成像仪的声光可调谐滤波器的滤光片上,滤光片在RF驱动器(204)的作用下,将入射光线中特定波长的光线以固定的角度折射出来;
2)指定波长下的光线生成的目标影像由工业黑白面阵相机捕捉记录;
3)入射信号光通过设置在石英窗口外沿的光纤探头口进入光纤,经光纤再由光纤光谱仪采集光谱数据集;并传输给上位机控制终端;
4)上位机控制终端实时更新声光可调谐滤波器对应的RF驱动器的驱动频率值,控制工业黑白面阵相机的工作状态,实时显示采集到的光谱图像,同时通过高速网络端口完成采集数据的接收;
5)由于光纤光谱仪和AOTF高光谱成像仪的采样频率不同,以光纤光谱仪采集的光谱数据集的采集时间为索引,与AOTF高光谱目标影像的像素值进行数据对齐,进行插值增强。
6)上位机控制终端存储目标影像的同时,进行像素的合并和滤波;之后,经过处理的目标影像被整理成光强I有关位置(x,y)和波长λ的数值函数I(x,y,λ),通过锁定位置(x,y)得到Ix,y(λ),就可获得在该位置处的反应物浓度、粒子能量场信息;
7)通过多元统计方法从光谱数据集中提取出提取蕴含有效动态信息的特征峰位,与统计分析获得的光谱峰进行对比,完成对光谱数据的定性分析。
进一步的优选的,所述的步骤5)中的像素的合并和滤波的方法具体为:将目标像素值和周围邻近的2*2或者4*4个像素值进行加权合成,减小图像的同时,在一定程度上达到去噪和图像增强的目的;
进一步的优选的,所述的上位机控制终端存储AOTF高光谱成像系统和光纤光谱系统采集到的数据,同时接有显示屏,方便实时观测。
由于石英在近紫外到红外范围内均无显著吸收光谱,等离子体的发射光线能完整的通过石英窗口传送出来。而且,观察窗的尺寸通常足够大,可以看到整个等离子体鞘壳,配合相应的物镜,可以完整的采集整个晶圆上方的等离子发光体信息。
光纤光谱仪的光谱分辨率高(0.1nm)和时间响应速度快的优点,可弥补AOTF高光谱在光效利用上的损失,完成系统光谱分辨率的优化。
上位机控制终端可以在单频和扫频两种模式下进行数据采集工作,以实现对单一目标图像和全波段的目标图像序列的采集。目标的特征光谱波段内可以反映目标特性,利用AOTF高光谱成像仪可以很容易得到任一波长处的单色光谱图像,并分析在该波波长处的等离子体组分浓度。
通过工程实验为主要反应组分生成较为单纯的等离子体气,采集其光谱,进而应用统计方法建立主要反应组分的光谱签名(spectral signature)。由于用于蚀刻或者其他等离子体加工过程的反应气体是较为有限的,所以在本发明中一次性建立完成的光谱签名(主要是特征峰位),在后续工作中无需重新采集。表1中是较为常见的蚀刻气体的特征峰,这里需要注意的是,表中包含的仅为部分特征峰,实际包含的特征峰远多于此,在具体实施中将选取不同的特征峰组合来独立跟踪不同组分浓度。
通过多元统计方法(如主元分析类算法)从光谱数据集中提取出提取蕴含有效动态信息的特征峰位。这样做的目的是在极大的数据集中排除与动态无关的数据,收缩特征峰标识范围,提高可信度。
邻近的光谱峰与峰之间会有一定的重叠,通过傅立叶退卷积法可以有效的将其分离。本发明将上述原始光谱数据集全部平均之后再进行退卷积,这是因为光谱的峰位是不会漂移的,是物质的本质属性,所以在不同光谱数据中都是一致的,通过平均,常见的噪声和不常见的信号会被抑制,退卷积的效果更好。
最后,将通过退卷积处理后获得的光谱峰与统计分析获得的光谱峰进行对比,将两者的交集再与前期获得的光谱签名库比对进行组分标定,即完成对光谱数据的定性分析。
对光谱分析的半定量,即获取主要组分的相对浓度,关键在于为测量所得的光强提供一个基准强度参考。半定量的方法一般先测得已知组分浓度下对应特征峰的光强,然后根据当前测得同一特征峰的光强与基准光强的比,得到相对浓度,进而换算出绝对浓度。
与现有技术相比本发明所具有的有益效果为:
1)利用AOTF实现光谱成像,主要优点包括:随机波长的快速访问,能够实时感知组分浓度变化;成像视场角宽,适用于等离子体反应腔内大视角范围的观测。
2)AOTF滤光和CCD图像采集均由控制计算机控制,实现光谱成像,并在计算机中完成光谱信息的提取,绘制光谱曲线。利用的数据不再仅仅是光纤光谱仪3采集到的集总(lumped)数据,而是包含空间信息,提取和微纳尺度特征关系最为密切的近表空间的信息;即通过指定等离子体组分空间的任意位置,感知到该位置处组分的浓度变化,便于工业自化集成应用。
3)将高光谱技术与等离子加工过程的光谱分析方法相结合,运用相对成熟的技术解决等离子体物质、能量场的实时检测的新问题,技术风险小而获得以往方案无法获得的场数据应用前景广阔。与目前工艺工程师利用历史数据进行建模研究相比,我们的测量方法能够实时、在线、精细地观测等离子体加工过程,可以捕获复杂的气相组分中与蚀刻对象表面微纳尺度动态密切相关的实时动态信息,加强了对于实际刻蚀过程的动态研究。
附图说明
下面通过附图对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。
图1为本发明的实时测量装置系统组成原理图。
图2为本发明的等离子体装置示意图。
图3为636nm特定波段下,采集到的等离子体蚀刻的图像。
具体实施方式
下面结合实施例和附图来详细说明本发明,但本发明并不仅限于此。本领域技术人员在无实质创造性工作而基于本发明改型形成的其他实施例,均在本发明的保护范围之内。
如图1和图2所示,以等离子体蚀刻过程为例,实时测量装置按以下步骤工作:
调节前置广角成像镜头201的焦距,保证等离子体蚀刻区能够清晰成像;调节光圈,尽量增大,但要防止因为光线衍射出现重影。
设定RF驱动器204输出信号的频率范围,每一次只允许特定波长的光通过,即不断调整晶体的折射率,开始扫频。
根据目标采样频率,通过上位机控制终端4设置工业黑白面阵相机203的基本参数,包括帧率、曝光时间等:若根据等离子体蚀刻要求,假设实际采样频率设定为1Hz,扫描的波段数为500,帧率为500fps,则曝光时间必须小于0.002s。
为提高图像的亮度,可增大增益值,但是会增大图像的噪声。
系统参数设置完成后,开始采集光谱图像。
人眼能感知的有效光谱范围为400nm~700nm,所以,AOTF声光可调滤波器光谱成像系统只需在400nm~700nm范围工作即可。AOTF声光可调滤波器光谱成像系统在声波的调制下,可以在工业黑白面阵相机203每曝光一帧图像时,限制参与成像的光波波长,即每一幅图像仅由1个纳米宽的窄波段光线形成,故本发明的光谱分辨率可达到1nm。通过AOTF声光可调滤波器光谱成像系统快速调谐,可以在极短时间内在可见光波段范围内形成多个图像,也相当于把一幅图像在可见光光谱范围分解成了多个分量图像,而这些图像都与成像波段是一一对应的。根据AOTF声光可调滤波器光谱成像系统获得的各窄带光谱图像的明暗程度,可以较为直观地判断出组分浓度的差异。
根据终端计算机采集的特定波长下的灰度图上某一指定位置的灰度值,生成光谱曲线,可以直观地观察到等离子体蚀刻过程的光谱特征峰。这里选取685nm、704nm、712nm处的特征峰组合来独立跟踪F原子浓度。
实例选用F原子做分析,如图3所示,可以明显地观察到一个亮度很大的圆形区域,该区域即代表F原子浓度较大的区域,为反应腔中放置晶片(wafer)的托盘。该圆形区域内部有一方形区域,即为晶片。在晶片外侧与圆形区域的内侧,这一区域内F原子强度相比较于背景波段有较大的增强,即为等离子体区域,该区域中存在8个强度较弱的楔形区域,为输入气体的导管或者电极。可以看到,排除8个强度较弱的楔形区域,等离子体在空间上的强度分布较为均匀。同时,在背景图中存在的强度较大区域,是由于所通入的气体在实验之前的过程中沉积在托盘上造成的。由此,可以看到使用光谱成像技术可以直观地观测到等离子体蚀刻过程中的等离子体以及其在空间上的分布。

Claims (6)

1.一种基于光谱成像的等离子体组分空间分布实时测量装置,其特征在于包括等离子体反应腔体(1)、AOTF高光谱成像系统(2)、光纤光谱系统、上位机控制终端(4);
等离子体反应腔体(1)的侧壁上设有石英窗口(101),石英窗口(101)处设置转接环连接器,AOTF高光谱成像系统(2)与转接环连接器相连;
AOTF高光谱成像系统(2)和光纤光谱系统分别与上位机控制终端(4)相连。
2.根据权利要求1所述基于光谱成像的等离子体组分空间分布实时测量装置,其特征在于所述的AOTF高光谱成像系统(2)包括前置广角成像镜头(201)、AOTF高光谱成像仪(202)、工业黑白面阵相机(203)、RF驱动器(204);
AOTF高光谱成像仪(202)的一端与前置广角成像镜头(201)相连,另一端与工业黑白面阵相机(203)相连,AOTF高光谱成像仪(202)与RF驱动器(204)通过信号线连接;RF驱动器(204)、工业黑白面阵相机(203)分别与上位机控制终端(4)相连。
3.根据权利要求1所述基于光谱成像的等离子体组分空间分布实时测量装置,其特征在于所述的光纤光谱系统包括光纤光谱仪(3)和光纤;所述光纤一端固定在光纤探头口上,所述的光纤探头口设置在石英窗口(101)外沿上;光纤的另一端与光纤光谱仪(3)连接,光纤光谱仪(3)通过USB接口与上位机控制终端(4)相连。
4.一种如权利要求2所述装置的基于光谱成像的等离子体组分空间分布实时测量方法,其特征在于包括如下步骤:
1)入射信号光首先透过石英窗口(101)进入广角成像镜头(201),随后入射至AOTF高光谱成像仪(202)的声光可调谐滤波器的滤光片上,滤光片在RF驱动器(204)的作用下,将入射光线中特定波长的光线以固定的角度折射出来;
2)指定波长下的光线生成的目标影像由工业黑白面阵相机(203)捕捉记录;
3)入射信号光通过设置在石英窗口(101)外沿的光纤探头口进入光纤,经光纤再由光纤光谱仪(3)采集光谱数据集;并传输给上位机控制终端(4);
4)上位机控制终端(4)实时更新声光可调谐滤波器对应的RF驱动器(204)的驱动频率值,控制工业黑白面阵相机(203)的工作状态,实时显示采集到的光谱图像,同时通过高速网络端口完成采集数据的接收;
5)由于光纤光谱仪(3)和AOTF高光谱成像仪(202)的采样频率不同,以光纤光谱仪(3)采集的光谱数据集的采集时间为索引,与AOTF高光谱目标影像的像素值进行数据对齐,进行插值增强;
6)上位机控制终端(4)存储目标影像的同时,进行像素的合并和滤波;之后,经过处理的目标影像被整理成光强I有关位置(x,y)和波长λ的数值函数I(x,y,λ),通过锁定位置(x,y)得到Ix,y(λ),就可获得在该位置处的反应物浓度、粒子能量场信息;
7)通过多元统计方法从光谱数据集中提取出提取蕴含有效动态信息的特征峰位,与统计分析获得的光谱峰进行对比,完成对光谱数据的定性分析。
5.根据权利要求4所述的基于光谱成像的等离子体组分空间分布实时测量方法,其特征在于所述的步骤5)中的像素的合并和滤波的方法具体为:将目标像素值和周围邻近的2*2或者4*4个像素值进行加权合成,减小图像的同时,在一定程度上达到去噪和图像增强的目的。
6.根据权利要求4所述的基于光谱成像的等离子体组分空间分布实时测量方法,其特征在于所述的上位机控制终端(4)存储AOTF高光谱成像系统(2)和光纤光谱系统采集到的数据,同时接有显示屏,方便实时观测。
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