CN108968993A - X射线机曝光控制方法、装置及电子设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及医疗器械技术领域,尤其涉及一种X射线机曝光控制方法、装置及电子设备。该方法包括:获取正常曝光参数;获取所述X射线机的曝光距离,所述曝光距离为X射线源的焦点与所述X射线机的成像器件的距离;判断所述X射线机的当前的曝光模式是否是低剂量曝光模式;若是,根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找预设的低剂量技术表,以获取与所述正常曝光参数对应的低剂量曝光参数;采用所述低剂量曝光参数控制所述X射线机进行曝光。该实施方式能够在不增加设备成本的基础上降低X射线剂量。
Description
【技术领域】
本发明涉及医疗器械技术领域,尤其涉及一种X射线机曝光控制方法、装置及电子设备。
【背景技术】
随着医疗技术的不断发展,X射线成像技术被广泛应用于临床医学中。X射线剂量用于衡量曝光过程中产生的辐射数量或程度。由于X射线会产生电离辐射,医生和患者若长期暴露在高剂量的X射线中,会对其身体造成伤害,特别是儿童、孕妇等敏感人群,因此有必要降低X射线剂量。
目前,一种是提倡技师或医生使用手动模式,在每次曝光前人为地提高电压值,减小电流或者曝光时间,从而降低X射线剂量;另一种是通过自动化的曝光控制流程来控制X射线剂量,比如通过一系列的传感器获取患者的体征信息,然后根据体征信息选择适合患者的曝光剂量。
发明人在实现本发明过程中发现相关技术至少存在以下问题:第一种方式虽然能降低X射线剂量,但需要人为控制,且不够准确,第二种方式虽然能自动化地降低X射线剂量,但需要增加额外的测量装置,造成设备的成本增加。
【发明内容】
本发明要解决的技术问题是提供一种X射线机曝光控制方法、装置及电子设备,解决如何在不增加设备成本的基础上,降低X射线剂量的技术问题。
本发明实施例的一个方面,提供一种X射线机曝光控制方法,所述方法包括:
获取正常曝光参数;
获取所述X射线机的曝光距离,所述曝光距离为X射线源的焦点与所述X射线机的成像器件的距离;
判断所述X射线机的当前的曝光模式是否是低剂量曝光模式;
若是,根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找预设的低剂量技术表,以获取与所述正常曝光参数对应的低剂量曝光参数;
采用所述低剂量曝光参数控制所述X射线机进行曝光。
可选地,所述正常曝光参数和所述低剂量曝光参数均包括电压、电流以及曝光时间。
可选地,所述正常曝光参数是通过采集患者的体征信息,并且根据所述患者的体征信息确定的;或者,所述正常曝光参数是接收用户输入得到的。
可选地,所述方法还包括:
根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找所述预设的低剂量技术表,以获取所述X射线机的成像器件的增益;
根据所述增益调节所述X射线机的成像器件,并控制增益调节后的所述X射线机的成像器件采集所述曝光的图像。
可选地,所述方法还包括:
根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找所述预设的低剂量技术表,以获取噪声指示;
根据所述噪声指示,对采集的所述图像进行噪声过滤处理。
本发明实施例的另一个方面,提供一种X射线机曝光控制装置,所述装置包括:
第一获取模块,用于获取正常曝光参数;
第二获取模块,用于获取所述X射线机的曝光距离,所述曝光距离为X射线源的焦点与所述X射线机的成像器件的距离;
判断模块,用于判断所述X射线机的当前的曝光模式是否是低剂量曝光模式;
第一查找模块,用于若是,根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找预设的低剂量技术表,以获取与所述正常曝光参数对应的低剂量曝光参数;
曝光模块,用于采用所述低剂量曝光参数控制所述X射线机进行曝光。
可选地,所述正常曝光参数和所述低剂量曝光参数均包括电压、电流以及曝光时间。
可选地,所述正常曝光参数是通过采集患者的体征信息,并且根据所述患者的体征信息确定的;或者,所述正常曝光参数是接收用户输入得到的。
可选地,所述装置还包括:
第二查找模块,用于根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找所述预设的低剂量技术表,以获取所述X射线机的成像器件的增益;
第一处理模块,用于根据所述增益调节所述X射线机的成像器件,并控制增益调节后的所述X射线机的成像器件采集所述曝光的图像。
可选地,所述装置还包括:
第三查找模块,用于根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找所述预设的低剂量技术表,以获取噪声指示;
第二处理模块,用于根据所述噪声指示,对采集的所述图像进行噪声过滤处理。
本发明实施例的又一个方面,提供一种电子设备,包括:至少一个处理器;以及,与所述至少一个处理器通信连接的存储器;其中,所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的指令,所述指令被所述至少一个处理器执行,以使所述至少一个处理器能够执行如上所述的方法。
本发明实施例的再一个方面,提供一种非易失性计算机可读存储介质,所述非易失性计算机可读存储介质存储有计算机可执行指令,所述计算机可执行指令用于使计算机执行如上所述的方法。
本发明实施例的有益效果是,该方法通过获取正常曝光参数和X射线机的曝光距离,在判断到X射线机当前的曝光模式是低剂量曝光模式时,根据获取到的正常曝光参数和曝光距离查找预设的低剂量技术表,从而获取与该正常曝光参数对应的低剂量曝光参数,然后根据该低剂量曝光参数控制X射线机进行曝光。由于直接根据预设的低剂量技术表获取正常曝光参数对应的低剂量曝光参数,不需要增加其他额外的测量装置,从而能够在不增加设备成本的基础上降低X射线剂量。
【附图说明】
一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明,这些示例性说明并不构成对实施例的限定,附图中具有相同参考数字标号的元件表示为类似的元件,除非有特别申明,附图中的图不构成比例限制。
图1是本发明实施例的运行环境示意图;
图2是本发明实施例提供的一种X射线机曝光控制方法的流程示意图;
图3是本发明另一实施例提供的一种X射线机曝光控制方法的流程示意图;
图4是本发明又一实施例提供的一种X射线机曝光控制方法的流程示意图;
图5是本发明实施例提供的一种X射线机曝光控制装置的结构示意图;
图6是本发明实施例提供的执行X射线机曝光控制方法的电子设备30的硬件结构示意图。
【具体实施方式】
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
需要说明的是,如果不冲突,本发明实施例中的各个特征可以相互组合,均在本发明的保护范围之内。另外,虽然在装置示意图中进行了功能模块的划分,在流程图中示出了逻辑顺序,但是在某些情况下,可以以不同于装置示意图中的模块划分,或流程图中的顺序执行所示出或描述的步骤。
为了方便读者更好地理解本发明,在对本发明的发明思想进行描述之前,先对本发明的运行环境进行描述,请参阅图1,图1是本发明实施例的运行环境示意图。该运行环境包括主控100、高压发生器200、X射线源300、限束器400、患者500、滤线栅600、X射线成像器件700以及图像工作站800。
主控100的一端通过串口与图像工作站800连接,主控100的另一端通过信号线分别与高压发生器200、限束器400、滤线栅600以及X射线成像器件700连接。所述主控100用于通过发送控制信号控制该运行环境中的各模块,通过接收信号监控各模块的运行情况,从而确保各模块能够正常工作,其主要实现图像工作站800对其他硬件模块的控制。
所述高压发生器200用于产生发射X摄线所需的高压信号。对于连续式的高压信号,X射线源300会持续进行曝光;对于脉冲式的高压信号,X射线源300会间歇式进行曝光。在本实施例中,间歇式曝光采用窄脉冲控制信号,相比较于连续曝光,相同时间内的X射线辐射剂量会显著降低,而且还可以提高X射线源300的寿命。
所述X射线源300与上述高压发生器200连接,其用于接收高压发生器200产生的高压信号从而产生X射线。所述X射线源300具体可以是X射线球管。
所述限束器400分别连接主控100和X射线源300,其用于控制X射线的照射野,减少射线的投射范围,为射线增加一定的滤过。所述限束器400具体可以是矩形光野,具有滤片切换功能,通过在限束器光野区域增加不同厚度的铜片或铝片,滤掉散射线。限束器400在主控100的控制下,可以实现对光野大小的调节和滤片的切换,以及控制光野至X射线成像器件700接收面大小,避免无用的射线。
所述患者500即待进行X射线检测的患者,其具体包括患者本身和承载患者的装置部分。其中,承载患者的装置部分具体可以是碳纤维床,由于碳纤维的吸收系数低,有利于X射线的穿透,从而避免了影响被照射对象的成像质量。
所述滤线栅600用于过滤散射线,其具体可以是自动可拆卸式滤线栅。在进行高剂量曝光过程中,由于被照射对象的厚度可能中等偏厚,甚至更厚,从而造成散射线较多,为了对散射线进行过滤,因此增加滤线栅600,以提高低剂量曝光下的成像质量。当然,在实际应用中,可以根据被照射对象的厚度相应地移除该滤线栅600。
所述X射线成像器件700与所述图像工作站800连接,其用于接收X射线,并且将接收到的X射线转换成数字图像信号,以供所述图像工作站800处理所述数字图像信号。所述X射线成像器件700具体可以是CMOS平板探测器,使用CMOS平板探测器可以在较低剂量的X射线下即可有效成像,保证图像质量。
所述图像工作站800用于实现曝光控制,以及图像后处理、显示等。所述图像工作站800包括:用户输入,其用于手动设置曝光参数;自动曝光控制,其用于对不同被照射对象进行曝光参数的自适应调节;低剂量曝光控制,其用于对用户输入或自动曝光控制获得的曝光参数进行低剂量调节,使X射线曝光符合低剂量要求,同时影响成像和后处理环节,确保成像质量;图像后处理,用于产生满足诊断要求的图像;显示屏,用于诊断图像的呈现。其中,所述自动曝光控制、低剂量曝光控制、图像后处理均以软件的形式安装于图像工作站800中。所述显示屏以无线或有线连接的方式与图像工作站800连接。
需要说明的是,本发明实施例提供的运行环境并不仅限于图1中所示的运行环境。本领域技术人员可以理解的是,根据实际应用情况,还可以相应地减少相关地硬件模块,或者增加其他硬件模块。
下面提供一种应用于上述运行环境的X射线机曝光控制方法,请参阅图2,图2是本发明实施例提供的一种X射线机曝光控制方法的流程示意图,该方法包括:
步骤11、获取正常曝光参数。所述正常曝光参数指的是所述X射线机未经过预处理的当前的曝光参数,所述正常曝光参数包括电压、电流、曝光时间等。所述电压和电流分别指的是X射线机工作时的电压和电流。所述曝光时间指的是X射线机从开启到关闭的时间间隔。
在本实施例中,所述正常曝光参数可以通过采集患者的体征信息,然后根据所述患者的体征信息来进行确定。所述患者的体征信息包括患者的重量、组织密度等,根据患者的重量和组织密度确定所述正常曝光参数,比如重量大、组织密度高的患者对应的正常曝光参数大于重量小、组织密度低的患者所对应的正常曝光参数。
可选地,在根据患者的体征信息确定所述正常曝光参数时,可以先采集所述患者的照片或者视频,然后基于采集的照片或者视频获取所述患者的体征信息,将获取到的体征信息与预设数据库中的体征信息进行匹配,获取匹配一致的所述体征信息对应的曝光参数,该曝光参数即所述患者的正常曝光参数。其中,将获取到的体征信息与预设数据库中的体征信息进行匹配时,体征信息可以不必完全一致,预设数据库中的体征信息可以是一个数值范围,只要所述获取到的体征信息在所述数值范围内即可。
所述正常曝光参数还可以是接收用户输入得到的,所述用户可以是医护工作人员,其根据经验输入所述正常曝光参数。本实施例对所述用户输入正常曝光参数的方式不做具体限定,其包括:通过键盘和鼠标手动输入、语音输入等。
步骤12、获取所述X射线机的曝光距离,所述曝光距离为X射线源的焦点与所述X射线机的成像器件的距离。
在本实施例中,所述曝光距离也即是上述X射线源300的焦点到X射线成像器件700的距离,该距离即摄影距离,该距离可以通过查询设备信息获得。
步骤13、判断所述X射线机的当前的曝光模式是否是低剂量曝光模式。
在本实施例中,所述X射线机包括正常曝光模式和低剂量曝光模式。所述正常曝光模式指的是在所述正常曝光参数下发射X射线,X射线的剂量与正常曝光参数相关。所述低剂量曝光模式指的是在低剂量曝光参数下发射X射线,X射线的剂量与低剂量曝光参数相关。其中,所述低剂量曝光模式的X射线剂量低于所述正常曝光模式的X射线剂量。
在其他一些实施例中,可以根据患者所属的群体对所述低剂量曝光模式进一步划分出不同等级的低剂量曝光模式。比如,低剂量曝光模式包括A级低剂量曝光模式、B级低剂量曝光模式以及C级低剂量曝光模式,A级低剂量曝光模式对应的患者群体是普通成年人,B级低剂量曝光模式对应的患者群体是老人和儿童,C级低剂量曝光模式对应的患者群体是孕妇。其中,A级低剂量曝光模式对应的X射线剂量高于B级低剂量曝光模式对应的X射线剂量,B级低剂量曝光模式对应的X射线剂量高于C级低剂量曝光模式对应的X射线剂量。在这里,在保证低剂量前提下,进一步根据患者群体的特点预设不同的低剂量曝光模式,从而更加符合患者的需求。
需要说明的是,还可以根据其他方法来预先设定所述X射线机的的曝光模式,其曝光模式并不仅限制于上述正常曝光模式和低剂量曝光模式。
上述曝光模式都是预先设定好的,可以由用户选择当前具体采用哪种曝光模式,在选择其中一种模式后,设备通过查询获取当前的曝光模式。所述用户可以是医护工作人员或者患者。其中,用户在选择哪种曝光模式时,可以通过操作X射线源上的物理按键来手动选择,也可以通过操作移动终端上的应用程序来选择,所述移动终端可以是上述图像工作站800或者是与执行本方法的系统所建立连接关系的其他终端设备,比如用户的手机等。
步骤14、若是,根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找预设的低剂量技术表,以获取与所述正常曝光参数对应的低剂量曝光参数。
在确定所述X射线机的曝光模式是低剂量曝光模式时,通过预设的低剂量技术表获取正常曝光参数对应的低剂量曝光参数。
其中,所述预设的低剂量技术表是预先通过对不同的衰减物进行照射实验后,所获得的经验值数据。例如,如下述表1所示,为一预设的低剂量技术表。
表1
上述表1中,衰减物是等效于人体的一种器具,其具体可以是一定厚度的铝片;正常曝光参数包括电压,以及电流与曝光时间的乘积;增益系数是指X射线机的成像器件的增益;噪声指示用于衡量曝光参数调节后的信噪比,供图像后处理使用。需要说明的是,上述表1仅仅只是一种示例,所述低剂量技术表还可以有其他表示形式,比如在上述表1的基础上进行简化设计,或者更加复杂的设计。
在本实施例中,可以通过如下步骤获取所述预设的低剂量技术表,包括:a)放置衰减物,调节曝光距离为某一固定值,利用手动调节或者自动曝光控制获得合适的曝光参数,进行曝光并测量衰减物表面的剂量值;b)先提高电压,然后降低电流或者降低曝光时间,进行曝光并测量衰减物表面的剂量值,使调节后的剂量值约为调节前的2/3;c)以预设电压阈值(比如10千伏)为间隔修改电压值,并在不同的电压值档位重复步骤a)和b);d)设置不同厚度的衰减物,重复步骤a)、b)和c);e)修改曝光距离,重复步骤a)、b)、c)和d),最终获得不同曝光参数组合构成的低剂量技术表。
在计算所述低剂量技术表中的相关参数时,可以以X射线经过衰减到达成像器件时的能量公式作为依据,具体地:
I=A(c,t)·e-K(d,v,sid)+C
其中,A代表X射线的光子能量,与电流c、时间t相关,如下所示:
A(c,t)=α·c·t
式中的α为常系数,根据不同的成像系统有所不同。
上述I代表成像亮度,其与衰减后的X射线能量成正比例关系;上述K为衰减系数,其与衰减物的厚度d、电压v以及曝光距离有关,如下所示:
式中的β为常系数,根据不同的成像系统有所不同;u为衰减体的衰减常量。
上述C代表偏置系数,根据不同的成像系统有所不同。上述公式为成像系统X射线衰减规律的近似表达,需要通过实验确定公式中各项参数。
以上述公式计算低剂量技术表格时,由于设备的曝光距离可调范围有限,可以先确定所述曝光距离,然后利用衰减物模拟实际中不同体厚的患者,从而确定衰减物的厚度。在保证低剂量的同时,为了提高成像亮度,也即是得到较佳的成像结果,可以通过增大电流或者曝光时间来获取,也可以通过增大电压来获取。由于通过增大电压可以比增大电流或者曝光时间获得更大的亮度变化,因此,采用高电压低电流或者高电压低曝光时间来进行曝光,以降低辐射剂量。
其中,根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找预设的低剂量技术表所获得的低剂量曝光参数也包括电压、电流以及曝光时间,该电压、电流以及曝光时间是基于所述正常曝光参数对应的电压、电流、曝光时间调节得到的。
步骤15、采用所述低剂量曝光参数控制所述X射线机进行曝光。
可以理解的是,X射线在低剂量条件下,信噪比会降低,从而导致影像的细节对比度下降,为了保持较佳的影像对比度,还需要对所述X射线机的成像器件的增益进行调节。因此,在其他一些实施例中,请参阅图3,上述X射线机曝光控制方法还包括:
步骤16、根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找所述预设的低剂量技术表,以获取所述X射线机的成像器件的增益;
步骤17、根据所述增益调节所述X射线机的成像器件,并控制增益调节后的所述X射线机的成像器件采集所述曝光的图像。
其中,在所述预设的低剂量技术表中,每一正常曝光参数和曝光距离会有其对应的增益,根据当前的正常曝光参数和曝光距离获取其对应的增益。X射线机的成像器件根据获得的所述增益采集图像,当低剂量曝光控制所获得的曝光剂量较低时,成像信噪比较低,此时成像器件的增益也较低,避免了对噪声进行增益,反之亦然。
在根据所述增益,所述X射线机的成像器件采集所述曝光的图像后,所述X射线机的成像器件将当前采集的图像传输至图像工作站,以便进行图像后处理。为了避免噪声影响图像对比度,在其他一些实施例中,请参阅图4,上述X射线机曝光控制方法还包括:
步骤18、根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找所述预设的低剂量技术表,以获取噪声指示;
步骤19、根据所述噪声指示,对采集的所述图像进行噪声过滤处理。
在本实施例中,可以以下述公式为依据对上述增益和噪声指示进行调节。
Copt=k·gain·noise
其中,gain为成像器件增益,noise为图像后处理根据实际成像对比度的分析计算得到的噪声指示值,k为常系数,三者均视不同的成像系统而有所不同;Copt为取得最佳影像对比度下的gain和noise的乘积,可以通过放置低对比度分辨率测试卡,采用最佳曝光参数实测获得。
本发明实施例提供了一种X射线机曝光控制方法,该方法通过获取正常曝光参数和X射线机的曝光距离,在判断到X射线机当前的曝光模式是低剂量曝光模式时,根据获取到的正常曝光参数和曝光距离查找预设的低剂量技术表,从而获取与该正常曝光参数对应的低剂量曝光参数,然后根据该低剂量曝光参数控制X射线机进行曝光,进一步地,还根据所述正常曝光参数和曝光距离查找所述低剂量技术表获取X射线机的成像器件的增益,根据该增益调节成像器件,使调节后的成像器件采集曝光图像,最后基于获得的噪声指示对采集的图像进行噪声过滤处理。一方面,由于直接根据预设的低剂量技术表获取正常曝光参数对应的低剂量曝光参数,不需要增加其他额外的测量装置,从而能够在不增加设备成本的基础上降低X射线剂量。另一方面,在降低X射线剂量的同时保证了成像质量,从而维护了医务工作人员和患者的健康,并且保证了检测结果的可靠性。
请参阅图5,图5是本发明实施例提供的一种X射线机曝光控制装置的结构示意图。如图5所示,该装置20包括:第一获取模块21、第二获取模块22、判断模块23、第一查找模块24以及曝光模块25。
其中,第一获取模块21,用于获取正常曝光参数;第二获取模块22,用于获取所述X射线机的曝光距离,所述曝光距离为X射线源的焦点与所述X射线机的成像器件的距离;判断模块23,用于判断所述X射线机的当前的曝光模式是否是低剂量曝光模式;第一查找模块24,用于若是,根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找预设的低剂量技术表,以获取与所述正常曝光参数对应的低剂量曝光参数;曝光模块25,用于采用所述低剂量曝光参数控制所述X射线机进行曝光。
其中,所述正常曝光参数和所述低剂量曝光参数均包括电压、电流以及曝光时间。
其中,所述正常曝光参数是通过采集患者的体征信息,并且根据所述患者的体征信息确定的;或者,所述正常曝光参数是接收用户输入得到的。
在其他一些实施例中,同样请参阅图5,所述装置20还包括第二查找模块26和第一处理模块27。所述第二查找模块26,用于根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找所述预设的低剂量技术表,以获取所述X射线机的成像器件的增益;所述第一处理模块27,用于根据所述增益调节所述X射线机的成像器件,并控制增益调节后的所述X射线机的成像器件采集所述曝光的图像。
在其他一些实施例中,同样请参阅图5,所述装置20还包括第三查找模块28和第二处理模块29。所述第三查找模块28,用于根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找所述预设的低剂量技术表,以获取噪声指示;所述第二处理模块29,用于根据所述噪声指示,对采集的所述图像进行噪声过滤处理。
需要说明的是,本发明实施例中的X射线机曝光控制装置中的各个模块之间的信息交互、执行过程等内容,由于与本发明方法实施例基于同一构思,具体内容同样适用于X射线机曝光控制装置。本发明实施例中的各个模块能作为单独的硬件或软件来实现,并且可以根据需要使用单独的硬件或软件来实现各个单元的功能的组合。
本发明实施例提供了一种X射线机曝光控制装置,该装置通过获取正常曝光参数和X射线机的曝光距离,在判断到X射线机当前的曝光模式是低剂量曝光模式时,根据获取到的正常曝光参数和曝光距离查找预设的低剂量技术表,从而获取与该正常曝光参数对应的低剂量曝光参数,然后根据该低剂量曝光参数控制X射线机进行曝光,进一步地,还根据所述正常曝光参数和曝光距离查找所述低剂量技术表获取X射线机的成像器件的增益,根据该增益调节成像器件,使调节后的成像器件采集曝光图像,最后基于获得的噪声指示对采集的图像进行噪声过滤处理。一方面,由于直接根据预设的低剂量技术表获取正常曝光参数对应的低剂量曝光参数,不需要增加其他额外的测量装置,从而能够在不增加设备成本的基础上降低X射线剂量。另一方面,在降低X射线剂量的同时保证了成像质量,从而维护了医务工作人员和患者的健康,并且保证了检测结果的可靠性。
请参考图6,图6是本发明实施例提供的执行X射线机曝光控制方法的电子设备30的硬件结构示意图,如图6所示,该电子设备30包括:
一个或多个处理器31以及存储器32,图6中以一个处理器31为例。
处理器31和存储器32可以通过总线或者其他方式连接,图6中以通过总线连接为例。
存储器32作为一种非易失性计算机可读存储介质,可用于存储非易失性软件程序、非易失性计算机可执行程序以及模块,如本发明实施例中的X射线机曝光控制方法对应的程序指令/模块(例如,附图5所示的各个模块)。处理器31通过运行存储在存储器32中的非易失性软件程序、指令以及模块,从而执行服务器的各种功能应用以及数据处理,即实现上述方法实施例X射线机曝光控制方法。
存储器32可以包括存储程序区和存储数据区,其中,存储程序区可存储操作系统、至少一个功能所需要的应用程序;存储数据区可存储根据X射线机曝光控制装置的使用所创建的数据等。此外,存储器32可以包括高速随机存取存储器,还可以包括非易失性存储器,例如至少一个磁盘存储器件、闪存器件、或其他非易失性固态存储器件。在一些实施例中,存储器32可选包括相对于处理器31远程设置的存储器,这些远程存储器可以通过网络连接至X射线机曝光控制装置。上述网络的实例包括但不限于互联网、企业内部网、局域网、移动通信网及其组合。
所述一个或者多个模块存储在所述存储器32中,当被所述一个或者多个处理器31执行时,执行上述任意方法实施例中的X射线机曝光控制方法,例如,执行以上描述的图2中的方法步骤11至步骤15,图3中的方法步骤11至步骤17,图4中的方法步骤11至步骤19,实现图5中的模块21-29的功能。
上述产品可执行本发明实施例所提供的方法,具备执行方法相应的功能模块和有益效果。未在本实施例中详尽描述的技术细节,可参见本发明实施例所提供的方法。
本发明实施例提供了一种非易失性计算机可读存储介质,所述非易失性计算机可读存储介质存储有计算机可执行指令,该计算机可执行指令被电子设备执行上述任意方法实施例中的X射线机曝光控制方法,例如,执行以上描述的图2中的方法步骤11至步骤15,图3中的方法步骤11至步骤17,图4中的方法步骤11至步骤19,实现图5中的模块21-29的功能。
本发明实施例提供了一种计算机程序产品,包括存储在非易失性计算机可读存储介质上的计算程序,所述计算机程序包括程序指令,当所述程序指令被计算机执行时时,使所述计算机执行上述任意方法实施例中的X射线机曝光控制方法,例如,执行以上描述的图2中的方法步骤11至步骤15,图3中的方法步骤11至步骤17,图4中的方法步骤11至步骤19,实现图5中的模块21-29的功能。
以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的,其中所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的,作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元,即可以位于一个地方,或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部模块来实现本实施例方案的目的。
通过以上的实施方式的描述,本领域普通技术人员可以清楚地了解到各实施方式可借助软件加通用硬件平台的方式来实现,当然也可以通过硬件。本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例方法中的全部或部分流程是可以通过计算机程序来指令相关的硬件来完成,所述的程序可存储于一计算机可读取存储介质中,该程序在执行时,可包括如上述各方法的实施例的流程。其中,所述的存储介质可为磁碟、光盘、只读存储记忆体(Read-Only Memory,ROM)或随机存储记忆体(RandomAccessMemory,RAM)等。
最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;在本发明的思路下,以上实施例或者不同实施例中的技术特征之间也可以进行组合,步骤可以以任意顺序实现,并存在如上所述的本发明的不同方面的许多其它变化,为了简明,它们没有在细节中提供;尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (12)
1.一种X射线机曝光控制方法,其特征在于,所述方法包括:
获取正常曝光参数;
获取所述X射线机的曝光距离,所述曝光距离为X射线源的焦点与所述X射线机的成像器件的距离;
判断所述X射线机的当前的曝光模式是否是低剂量曝光模式;
若是,根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找预设的低剂量技术表,以获取与所述正常曝光参数对应的低剂量曝光参数;
采用所述低剂量曝光参数控制所述X射线机进行曝光。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述正常曝光参数和所述低剂量曝光参数均包括电压、电流以及曝光时间。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述正常曝光参数是通过采集患者的体征信息,并且根据所述患者的体征信息确定的;
或者,
所述正常曝光参数是接收用户输入得到的。
4.根据权利要求1至3任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找所述预设的低剂量技术表,以获取所述X射线机的成像器件的增益;
根据所述增益调节所述X射线机的成像器件,并控制增益调节后的所述X射线机的成像器件采集所述曝光的图像。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找所述预设的低剂量技术表,以获取噪声指示;
根据所述噪声指示,对采集的所述图像进行噪声过滤处理。
6.一种X射线机曝光控制装置,其特征在于,所述装置包括:
第一获取模块,用于获取正常曝光参数;
第二获取模块,用于获取所述X射线机的曝光距离,所述曝光距离为X射线源的焦点与所述X射线机的成像器件的距离;
判断模块,用于判断所述X射线机的当前的曝光模式是否是低剂量曝光模式;
第一查找模块,用于若是,根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找预设的低剂量技术表,以获取与所述正常曝光参数对应的低剂量曝光参数;
曝光模块,用于采用所述低剂量曝光参数控制所述X射线机进行曝光。
7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述正常曝光参数和所述低剂量曝光参数均包括电压、电流以及曝光时间。
8.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述正常曝光参数是通过采集患者的体征信息,并且根据所述患者的体征信息确定的;
或者,
所述正常曝光参数是接收用户输入得到的。
9.根据权利要求6至8任一项所述的装置,其特征在于,所述装置还包括:
第二查找模块,用于根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找所述预设的低剂量技术表,以获取所述X射线机的成像器件的增益;
第一处理模块,用于根据所述增益调节所述X射线机的成像器件,并控制增益调节后的所述X射线机的成像器件采集所述曝光的图像。
10.根据权利要求9所述的装置,其特征在于,所述装置还包括:
第三查找模块,用于根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找所述预设的低剂量技术表,以获取噪声指示;
第二处理模块,用于根据所述噪声指示,对采集的所述图像进行噪声过滤处理。
11.一种电子设备,其特征在于,包括:
至少一个处理器;以及,
与所述至少一个处理器通信连接的存储器;其中,
所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的指令,所述指令被所述至少一个处理器执行,以使所述至少一个处理器能够执行权利要求1至5任一项所述的方法。
12.一种非易失性计算机可读存储介质,其特征在于,所述非易失性计算机可读存储介质存储有计算机可执行指令,所述计算机可执行指令用于使计算机执行权利要求1至5任一项所述的方法。
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