CN108763662A

CN108763662A - 一种异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法

Info

Publication number: CN108763662A
Application number: CN201810442523.XA
Authority: CN
Inventors: 张亚东; 杨祖声; 陆涛涛
Original assignee: Beijing CEC Huada Electronic Design Co Ltd
Current assignee: Beijing Empyrean Technology Co Ltd
Priority date: 2018-05-10
Filing date: 2018-05-10
Publication date: 2018-11-06
Anticipated expiration: 2038-05-10
Also published as: CN108763662B

Abstract

一种异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法，包括以下步骤：1）划分子区域、设置中转端口；2）确定像素区端口的引导折线；3）对中转端口和像素区端口进行匹配；4）确定第一对匹配端口对的中心线；5）基于第一对匹配端口对的中心线，确定当前对匹配端口对的中心线；6）生成布线轮廓。本发明的布线技术方案可以解决异形面板U型槽区域内栅极信号之间的布线问题，通过双层布线部分重叠，进一步节省了面板空间。

Description

一种异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法

技术领域

本发明涉及平板显示EDA设计工具领域，特别涉及一种异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法。

背景技术

在异形手机面板设计领域，U型槽设计（也称Notch设计）逐渐成为全面屏设计方案的热点，苹果公司最新的iPhoneX就采用了此种设计手段，也就是它的前刘海。苹果公司在这块U型区域内放置了原深感摄像头系统，从左到右分为是红外镜头、泛光感应元件、距离感应器、环境光传感器、扬声器、麦克风、700万像素摄像头、点阵投射器。U型槽区域除了放置这些传感器之后，还要连接左右像素区的栅极信号。为了腾出足够的空间放置传感器，设计要尽可能压缩布线空间。为了达到这个目标，设计工程师使用两种金属进行栅极信号的连接，不同层金属之间可以有一定的重叠，这样的布线空间相比单层布线又得到进一步的压缩。

为了帮助设计工程师自动完成U型槽栅极信号双层金属走线的设计，我们开发出了支持多工艺层、多宽度、允许重叠的轨道布线器。

发明内容

为了解决现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法，在异形面板的U型槽区域使用双层金属进行布线，不同层金属之间可以允许一定的重叠。

为实现上述目的，本发明提供的一种异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）划分子区域、设置中转端口；

2）确定像素区端口的引导折线；

3）对中转端口和像素区端口进行匹配；

4）确定第一对匹配端口对的中心线；

5）基于第一对匹配端口对的中心线，确定当前对匹配端口对的中心线；

6）生成布线轮廓。

进一步地，所述步骤5）进一步包括，采用多工艺层和多宽度进行布线，工艺层选取M1、M2、M3…Mn，最小宽度选取W1、W2、W3…Wn，多工艺层之间最小间距为S12、S23、S34…Sn(n+1)，其中布线层数n大于等于2。

进一步地，在所述步骤1）中，将异形版图的布线区域按照几何关系切分为两个子区域，在中间设置有一组中转端口。

进一步地，所述步骤2）进一步包括，确定布线所用的轨道。

进一步地，所述步骤2）确定像素区端口的引导折线，是将像素区端口的法向量引出射线与所述轨道相交的线段定义为每个像素区端口的引导折线。

进一步地，所述步骤3）中对中转端口和像素区端口进行匹配的具体方式为：对中转端口和像素区端口分别进行y方向升序排序匹配。

进一步地，所述步骤4）中确定第一对匹配端口对的中心线，是将中转端口和像素区端口中心延长线和像素区端口的引导折线相交，得到第一对匹配端口对的中心线。

进一步地，所述步骤5）基于第一对匹配端口对的中心线，确定当前对匹配端口的中心线，进一步包括，平移前一对匹配端口对的中心线，得到当前对匹配端口对的中心线的一部分，然后与像素区端口的引导折线及中点延长线求交，得到当前对匹配端口对的布线的中心线。

进一步地，所述平移前一对匹配端口对的中心线的距离的计算公式为：0.5×W(i-1)+S(i-1)i+0.5Wi；其中，W（i-1）为前一对匹配端口对的布线宽度；Wi为当前一对匹配端口对的布线宽度，且W（i-1）不等于Wi；S(i-1)i是两工艺层的间距，S(i-1)i为负值，从而使得不同层布线部分重叠。

本发明的布线技术方案可以解决异形面板U型槽区域内栅极信号之间的布线问题，通过双层布线部分重叠，进一步节省了面板空间。

本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。

附图说明

附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，并与本发明的实施例一起，用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：

图1为根据本发明的一种异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法的工作流程图；

图2为根据本发明的实施方式的子区域划分和设置中转端口的示意图；

图3为根据本发明的实施方式的布线效果示意图；

图4为根据本发明的实施方式的布线工艺层设置示意图；

图5为根据本发明的实施方式的高级约束条件选项示意图；

图6为根据本发明的实施方式的端口选择页面示意图；

图7为根据本发明的实施方式的端口之间的预连线示意图；

图8为根据本发明的实施方式的整体布线效果示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。

图1为根据本发明的一种异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法的工作流程图。下面将参考图1，对本发明的一种异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法进行描述。

首先，在步骤101，划分子区域，设置中转端口。

在该步骤中，首先将U型槽布线区域按照几何关系切分为两个子区域，在中间放置一组中转端口将两部分隔开，如图2所示。这样U型槽布线就可以由两次轨道布线完成。

在步骤102，确定像素区端口的引导折线。

在该步骤中，首先确定布线所用的轨道，一般选取像素区端口的包络线作为布线所用的轨道。像素区端口的法向量引出射线与轨道相交的线段被定义为每个像素区端口的引导折线（Guide Line）。

在步骤103，对中转端口和像素区端口进行匹配。

在该步骤中，对中转端口和像素区端口分别进行y方向升序排序匹配。

在步骤104，确定第一对匹配端口对的中心线。

在该步骤中，确定第一对匹配端口的中心线，即进行第一根布线。中转端口和像素区端口中心延长线和像素区端口的引导折线（Guide Line）相交得到第一根中心线，即确定第一对匹配端口对的中心线。

此步骤与单层轨道布线器类似。

在步骤105，确定当前对匹配端口对的中心线。

在该步骤中，进行第2至第n根布线中心线的计算。将当前对端口对之间的布线记为第（i）根布线，则前一对端口之间的布线记为第(i - 1)根布线。首先，平移前一根(i -1)中心线，得到目标走线的中心线的一部分，然后与像素区端口的引导折线（Guide Line）及中点延长线求交，得到当前第（i）根布线的中心线。

本实施方式中以双层布线为例，其中双层布线分别为M1（Metal1）层和M2（Metal2）层。定义W1为M1（Metal1）层的最小宽度，W2为M2（Metal2）层的最小宽度。设第一根布线的工艺层为M1，宽度为W1，布线工艺层将按照M1、M2的顺序交替指定，宽度也按照W1、W2的顺序交替指定。定义S12为M1与M2的最小间距，则M1与M2之间间距不能小于S12。若后期进行扩展，工艺层可选取M1、M2、M3…Mn，最小宽度可选取W1、W2、W3…Wn，多工艺层之间最小间距为S12、S23、S34…Sn(n+1)。

考虑到是双层布线，每层的宽度并不相同，因此每次平移的距离也不同。可以使用以下公式进行平移距离的计算：0.5×W(i-1)+S(i-1)i+0.5Wi，此处W（i-1）和Wi数值不同。循环执行这个过程，得到第2至第n根布线的中心线点链。

为了达到不同层布线部分重叠的效果，S12可以指定为负值，这样S12就变成了M1与M2之间重叠距离的最大值。

在步骤106，生成布线轮廓。

根据每根布线的宽度Wi生成每根布线的轮廓。布线效果如图3所示。可以发现不同层之间布线有重叠现象，但是同层金属之间的距离仍然大于最小间距，保证了设计规矩检查通过。

下面结合具体的实施方式，详细地说明本发明的异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法的应用过程。

（1）启动轨道布线命令，并设置布线参数。

图4为根据本发明的实施方式的布线工艺层设置示意图，如图4所示，分别设置了两层金属的最小宽度和最小间距。

图5为根据本发明的实施方式的高级约束条件选项示意图，如图5所示，设置了两层金属之间的最小间距。

图6为根据本发明的实施方式的端口选择页面示意图，如图6所示，在Aether FPD工具中启动Rail Routing命令，在相应页面中设置参数。

（2）选择需要进行布线操作的两组端口。

图7为根据本发明的实施方式的端口之间的预连线示意图。

（3）选择Guide Line（引导折线）。

在选择好端口之后，再点击U型槽的轮廓，完成Guide Line的选择。

（4）根据设计需求，点击OK完成布线。

（5）在U型槽的另一边重复步骤（1）-（4），可完成另一侧的布线。

图8为根据本发明的实施方式的整体布线效果示意图，如图8所示，多层布线紧贴轨道，节省空间。

本领域普通技术人员可以理解：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims

1.一种异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）划分子区域、设置中转端口；

2）确定像素区端口的引导折线；

3）对中转端口和像素区端口进行匹配；

4）确定第一对匹配端口对的中心线；

6）生成布线轮廓。

2.根据权利要求1所述的异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法，其特征在于，所述步骤5）进一步包括，采用多工艺层和多宽度进行布线，工艺层选取M1、M2、M3…Mn，最小宽度选取W1、W2、W3…Wn，多工艺层之间最小间距为S12、S23、S34…Sn(n+1)，其中布线层数n大于等于2。

3.根据权利要求1所述的异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法，其特征在于，在所述步骤1）中，将异形版图的布线区域按照几何关系切分为两个子区域，在中间设置有一组中转端口。

4.根据权利要求1所述的异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法，其特征在于，所述步骤2）进一步包括，确定布线所用的轨道。

5.根据权利要求1所述的异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法，其特征在于，所述步骤2）确定像素区端口的引导折线，是将像素区端口的法向量引出射线与所述轨道相交的线段定义为每个像素区端口的引导折线。

6.根据权利要求1所述的异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法，其特征在于，所述步骤3）中对中转端口和像素区端口进行匹配的具体方式为：对中转端口和像素区端口分别进行y方向升序排序匹配。

7.根据权利要求1所述的异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法，其特征在于，所述步骤4）中确定第一对匹配端口对的中心线，是将中转端口和像素区端口中心延长线和像素区端口的引导折线相交，得到第一对匹配端口对的中心线。

8.根据权利要求1所述的异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法，其特征在于，所述步骤5）基于第一对匹配端口对的中心线，确定当前对匹配端口的中心线，进一步包括，平移前一对匹配端口对的中心线，得到当前对匹配端口对的中心线的一部分，然后与像素区端口的引导折线及中点延长线求交，得到当前对匹配端口对的布线的中心线。

9.根据权利要求8所述的异形版图中基于轨道的多层重叠布线方法，其特征在于，所述平移前一对匹配端口对的中心线的距离的计算公式为：0.5×W(i-1)+S(i-1)i+0.5Wi；其中，W（i-1）为前一对匹配端口对的布线宽度；Wi为当前一对匹配端口对的布线宽度，且W（i-1）不等于Wi；S(i-1)i是两工艺层的间距，S(i-1)i为负值，从而使得不同层布线部分重叠。