CN108747795A - 液态金属抛光液回转内表面抛光系统 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种液态金属抛光液回转内表面抛光系统，包括外部驱动装置、主轴、抛光池、液态金属抛光液、输出管、温控循环装置、输入管、抛光工件、心轴、顶尖、水浴池和水，所述抛光工件固定在心轴上，心轴的轴心线与抛光工件上回转内表面的轴心线重合且心轴位于抛光工件的回转内表面中；所述心轴的一端与主轴连接，心轴的另一端与顶尖连接，主轴连接外部驱动装置；本发明通过液态金属抛光液中的金属离子对抛光工件的回转内表面进行抛光，金属抛光液可以抛光更加细微的表面，获得的抛光精度更高；液态金属离子中的金属离子运动时带动液态金属抛光液中的磨粒的运动，通过磨粒回转内表面的加工，提高了加工效率。
Description
技术领域
本发明涉及液态金属抛光领域，更具体的说，尤其涉及一种液态金属抛光液回转内表面抛光系统。
背景技术
液态金属通常是指在常温下呈液态的合金功能材料，如熔点在30℃以下的金属及其合金材料，也包括在8℃～300℃工作温区内呈液态的低熔点合金材料。液态金属抛光液抛光技术指当混有磨料的液态金属抛光液在磁场的作用下与工件抛光表面发生相对运动时，液态金属抛光液丝带上的柔性磨头对抛光表面产生大的切削力，从而对工件抛光表面进行抛光。经专利检索，虽然已经有学者提出利用抛光液抛光技术对工件表面进行抛光，但当前主要集中于对外圆面或者是平面进行抛光。然而回转内表面的抛光一直是机械制造加工领域的一个难点，尤其是对非回转体上的回转内表面进行抛光，很难采用一般的技术对回转内表面进行表面均匀而又超光滑的抛光。
发明内容
本发明的目的在于解决上述问题而提供一种液态金属抛光液回转内表面抛光系统，适用于对回转内表面有高精度加工要求的应用场合，尤其适用于对非回转体上回转内表面的抛光，以高效的完成对回转内表面的抛光，获得表面均匀一致而又粗糙度小的抛光回转内表面。
本发明通过以下技术方案来实现上述目的：一种液态金属抛光液回转内表面抛光系统，包括外部驱动装置、主轴、抛光池、液态金属抛光液、输出管、温控循环装置、输入管、抛光工件、心轴、顶尖、水浴池和水，所述抛光工件固定在心轴上，心轴的轴心线与抛光工件上回转内表面的轴心线重合且心轴位于抛光工件的回转内表面中；所述心轴的一端与主轴连接，心轴的另一端与顶尖连接，主轴连接外部驱动装置；抛光池中盛有液态金属抛光液，抛光工件浸没在抛光池的液态金属抛光液中；所述抛光池设置在水浴池中，且水浴池中盛有水；所述温控循环装置的出口和入口分别连接输出管和输入管，温控循环装置通过输入管连接抛光池，温控循环装置的输出管连接水浴池。
进一步的，所述温控循环装置控制液态金属抛光液的温度高于液态金属抛光液的熔点5～10℃。
进一步的，所述液态金属抛光液为包含有磨粒的液态金属抛光液。
进一步的，所述液态金属抛光液中的液态金属为镓离子、铷离子、铯离子中的一种或几种的化合物。所述液态金属通常是指在常温下呈液态的合金功能材料，如熔点在30℃以下的金属及其合金材料，也包括在40℃～300℃工作温区内呈液态的低熔点合金材料，并混有磨粒。
本发明的有益效果在于：
(1)本发明通过液态金属抛光液中的金属离子对抛光工件的回转内表面进行抛光，金属抛光液可以抛光更加细微的表面，获得的抛光精度更高。
(2)本发明通过混有磨粒的液态金属抛光液对抛光工件的回转内表面进行抛光，液态金属离子中的金属离子运动时带动液态金属抛光液中的磨粒的运动，通过磨粒回转内表面的加工，提高了加工效率。
(3)本发明通过温控循环装置控制液态金属抛光液的温度高于液态金属抛光液的熔点5～10℃，使液态金属抛光液中的金属离子具有更好的活性，提高抛光效率。
(4)本发明通过抛光池和水浴池相结合，利用温控循环装置来实现液体的流通，可以保证磨粒及金属离子基本保持在抛光池内，避免因磨粒及金属离子的流失或浓度降低导致的抛光效率的降低。
附图说明
图1是本发明一种液态金属抛光液回转内表面抛光系统的结构示意图。
图中，1-主轴、2-抛光池、3-液态金属抛光液、4-输出管、5-温控循环装置、6-输入管、7-工件、8-心轴、9-顶尖、10-水浴池、11-水。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步说明：
如图1所示，一种液态金属抛光液回转内表面抛光系统，包括外部驱动装置、主轴1、抛光池2、液态金属抛光液3、输出管4、温控循环装置5、输入管6、抛光工件7、心轴8、顶尖9、水浴池10和水11，所述抛光工件7固定在心轴8上，心轴8的轴心线与抛光工件7上回转内表面的轴心线重合且心轴8位于抛光工件7的回转内表面中；所述心轴8的一端与主轴1连接，心轴8的另一端与顶尖9连接，主轴1连接外部驱动装置；抛光池2中盛有液态金属抛光液3，抛光工件7浸没在抛光池2的液态金属抛光液3中；所述抛光池2设置在水浴池10中，且水浴池10中盛有水11；所述温控循环装置5的出口和入口分别连接输出管4和输入管6，温控循环装置5通过输入管6连接抛光池2，温控循环装置5的输出管4连接水浴池10。
所述温控循环装置5控制液态金属抛光液3的温度高于液态金属抛光液3的熔点5～10℃。
所述液态金属抛光液3为包含有磨粒的液态金属抛光液3。
所述液态金属抛光液3中的液态金属为镓离子、铷离子、铯离子中的一种或几种的化合物。
上述实施例只是本发明的较佳实施例，并不是对本发明技术方案的限制，只要是不经过创造性劳动即可在上述实施例的基础上实现的技术方案，均应视为落入本发明专利的权利保护范围内。
Claims (4)
1.一种液态金属抛光液回转内表面抛光系统，其特征在于：包括外部驱动装置、主轴(1)、抛光池(2)、液态金属抛光液(3)、输出管(4)、温控循环装置(5)、输入管(6)、抛光工件(7)、心轴(8)、顶尖(9)、水浴池(10)和水(11)，所述抛光工件(7)固定在心轴(8)上，心轴(8)的轴心线与抛光工件(7)上回转内表面的轴心线重合且心轴(8)位于抛光工件(7)的回转内表面中；所述心轴(8)的一端与主轴(1)连接，心轴(8)的另一端与顶尖(9)连接，主轴(1)连接外部驱动装置；抛光池(2)中盛有液态金属抛光液(3)，抛光工件(7)浸没在抛光池(2)的液态金属抛光液(3)中；所述抛光池(2)设置在水浴池(10)中，且水浴池(10)中盛有水(11)；所述温控循环装置(5)的出口和入口分别连接输出管(4)和输入管(6)，温控循环装置(5)通过输入管(6)连接抛光池(2)，温控循环装置(5)的输出管(4)连接水浴池(10)。
2.根据权利要求1所述的一种液态金属抛光液回转内表面抛光系统，其特征在于：所述温控循环装置(5)控制液态金属抛光液(3)的温度高于液态金属抛光液(3)的熔点5～10℃。
3.根据权利要求1所述的一种液态金属抛光液回转内表面抛光系统，其特征在于：所述液态金属抛光液(3)为包含有磨粒的液态金属抛光液(3)。
4.根据权利要求1所述的一种液态金属抛光液回转内表面抛光系统，其特征在于：所述液态金属抛光液(3)中的液态金属为镓离子、铷离子、铯离子中的一种或几种的化合物。
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