CN108726671B - 一种改良型奥贝尔氧化沟 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种改良型奥贝尔氧化沟,所述氧化沟包括从外向内依次布设的厌氧池、缺氧池和好氧池;厌氧池外壁上设有污水进口和回流污泥口;所述氧化沟还包括曝气机和可调节导流装置,曝气机装配在各池中,所述可调节导流装置位于曝气机的下游,且可调节导流装置装配在各池中。该氧化沟可适当增加水深、调节流速、溶氧效率高、无沉淀死角、结构可靠。
Description
技术领域
本发明属于环境保护技术领域,具体来说,涉及一种改良型奥贝尔氧化沟。
背景技术
奥贝尔氧化沟是由多个同心的椭圆形或圆形沟渠组成,污水与回流污泥均进入到最外一条沟渠,在不断循环的同时,依次进入下一个沟渠。它相当于一系列完全混合反应池串联而成,最后混合液从内沟渠排出至二沉池。各沟渠内装配有碟片数量和功率不等的曝气机,以进行污水充氧和推流之用。水平式的曝气机设备旋转方向与沟渠中水流方向同向,并且安装在氧化沟的直道上。由于转碟曝气机为表面曝气,主要存在以下不足之处:对表面水体进行充氧和推流,一般水深不大于3.6m,限制了氧化沟的深度;如果水深比较大,会产生池底污泥沉淀现象;水流速度恒定,调节余地小;在池壁底部的局部区域会产生污泥沉淀现象。
发明内容
本发明提供一种改良型奥贝尔氧化沟,以解决上述奥贝尔氧化沟污水处理工艺存在的不足,可适当增加水深、调节流速、溶氧效率高、无沉淀死角、结构可靠。
为解决上述技术问题,本发明实施例采用以下技术方案:
一种改良型奥贝尔氧化沟,所述氧化沟包括从外向内依次布设的厌氧池、缺氧池和好氧池;厌氧池外壁上设有污水进口和回流污泥口;所述氧化沟还包括曝气机和可调节导流装置,曝气机装配在各池中,所述可调节导流装置位于曝气机的下游,且可调节导流装置装配在各池中。
作为优选例,所述可调节导流装置包括两个固定环、两个调节环、第一导流板和两个第二导流板,固定环固定连接在池道的两侧壁面上,调节环与固定环连接,第一导流板的两端分别与一调节环固定连接;两个第二导流板位于第一导流板下方,且分别与第一导流板的底面固定连接。
作为优选例,所述固定环包括固定体和定位轴,定位轴与固定体固定连接,固定体设有第一固定孔、逆时针定位孔和顺时针定位孔。
作为优选例,所述顺时针定位孔的数量等于逆时针定位孔的数量,均为n个;两个相邻顺时针定位孔之间的角度为360°/n;两个相邻逆时针定位孔之间的角度为360°/n;顺时针定位孔和逆时针定位孔在不同方向上一一对应设置,且所有顺时针定位孔的中心位于同一圆上,所有逆时针定位孔的中心位于同一圆上;顺时针定位孔的中心所在的圆的圆心、逆时针定位孔的中心所在的圆的圆心和第一固定孔所在的圆的圆心重合。
作为优选例,所述调节环包括调节体,以及设置在调节体上的第二固定孔、逆时针调节孔、转动孔和顺时针调节孔;调节体通过转动孔套装在定位轴上,调节环可拆卸连接在固定环上。
作为优选例,所述顺时针定位孔中心圆的直径等于顺时针调节孔中心圆的直径;所述顺时针定位孔的数量等于顺时针调节孔的数量;逆时针定位孔中心圆的直径等于逆时针调节孔中心圆的直径;逆时针定位孔的数量等于逆时针调节孔的数量;所有顺时针调节孔的中心位于同一圆上,所有逆时针调节孔的中心位于同一圆上;顺时针调节孔的中心所在的圆的圆心、逆时针调节孔的中心所在的圆的圆心和调节体的第二固定孔所在的圆的圆心重合;第一固定孔所在的圆的圆心和第二固定孔所在的圆的圆心重合。
作为优选例,所述顺时针调节孔从调节环中心线开始,沿顺时针方向,与调节环中心线的间隔角度依次为360°/n-a°、2*360°/n-2 a°、3*360°/n-3 a°、……、360°-n a°;0<a≤3°;所述逆时针调节定位孔从调节环中心线开始,沿逆时针方向,与调节环中心线的间隔角度依次为360°/n- a °、2*360°/n-2 a°、3*360°/n-3 a°、……、360°-n a°。
作为优选例,所述第一导流板沿着水流方向向下倾斜,且第一导流板顶部距离水面150~250mm,第一导流板的垂直投影高度为1.5~2.0m。
作为优选例,所述第一导流板与水平面的基准夹角为60°。
作为优选例,所述第二导流板轴向镜像分布在第一导流板下表面的两侧,所述每侧第二导流板与该侧第一导流板边缘的距离为500~1000mm;第二导流板与其所在池道的轴向中心线的夹角为1~5°,且第二导流板的下部向池道外侧倾斜。
与现有技术相比,本发明实施例可实现奥贝尔氧化沟污水处理工艺的改良,提供一种具有可适当增加水深、调节流速、无沉淀、结构可靠的奥贝尔氧化沟。
该实施例中的氧化沟包含导流装置。导流装置包括两个固定环、两个调节环、第一导流板和两个第二导流板。汽水混合液由于受到第一导流板的导流作用,流体顺着第一导流板的方向流动,即向池底流动,增加池底流动速度,不会产生池底沉淀现象,因此,氧化沟的水深可适当增加。同时,水流由于受到第一导流板的导流,其运动方向也随之改变,因此其流速随之改变。 第二导流板对混合液也起到导流作用。第二导流板轴向镜像分布在第一导流板下表面的两侧。第二导流板可对部分污水导流后对池壁进行冲刷,避免在池壁产生沉淀。
附图说明
图1是本发明实施例的结构示意图;
图2是本发明实施例中的氧化沟断面示意图;
图3为本发明实施例中的导流装置结构示意图;
图4为本发明实施例中的固定环结构示意图;
图5为本发明实施例中的调节环结构示意图。
图中有:厌氧池1、污泥回流口2、曝气机3、缺氧池4、污水进口5、好氧池6、可调节导流装置7、固定环71、第一固定孔711、固定体712、定位轴713、逆时针定位孔714、顺时针定位孔715、调节环72、第二固定孔721、逆时针调节孔722、调节体723、转动孔724、顺时针调节孔725、第一导流板73、第二导流板74、定位销75、紧固件76。
具体实施方式
以下的说明本质上仅仅是示例性的而并不是为了限制本公开、应用或用途。应当理解的是,在全部附图中,对应的附图标记表示相同或对应的部件和特征。
如图1和图2所示,本发明实施例的一种改良型奥贝尔氧化沟,包括从外向内依次布设的厌氧池1、缺氧池4和好氧池6。厌氧池1外壁上设有污水进口5和回流污泥口2。氧化沟还包括曝气机3和可调节导流装置7。曝气机3装配在各池的直道上。可调节导流装置7位于曝气机3的下游,且可调节导流装置7装配在各池的直道上。
上述实施例的奥贝尔氧化沟中,厌氧池1的容积为总容积的60%~70%,缺氧池4的容积为总容积的20%~30%,好氧池6的容积为总容积的10%。曝气机3安装在氧化沟各池的直道上,导流装置7安装在曝气机3下游2~3m距离内的水面下。该实施例设置了可调节导流装置7,通过该可调节导流装置7实现氧化沟的功能提升。该可调节导流装置7设置在曝气机3的下游,对经过曝气机3处理的污水进行导流,可以增加奥贝尔氧化沟中的污水深度,调节流速,在奥贝尔氧化沟中没有沉淀现象。
具体来说,如图3所示,所述导流装置7包括两个固定环71、两个调节环72、第一导流板73和两个第二导流板74,固定环71固定连接在池道的两侧壁面上,调节环72与固定环71连接,第一导流板73的两端分别与一调节环72固定连接;两个第二导流板74位于第一导流板73下方,且分别与第一导流板73的底面固定连接。
导流装置7设置在厌氧池1、缺氧池4和好氧池6中,对各池道中的污水都进行导流作用。该实施例中的导流装置7包括两个固定环71、两个调节环72、第一导流板73和两个第二导流板74。通过改变调节环72的位置,实现对第一导流板73和第二导流板74的倾斜角度的设置。不同倾斜角度的第一导流板73和第二导流板74,对污水的导流作用不同。
作为优选例,如图4所示,所述固定环71包括固定体712和定位轴713,定位轴713与固定体712固定连接,固定体712设有第一固定孔711、逆时针定位孔714和顺时针定位孔715。固定环71通过第一固定孔711连接在池壁上。例如,通过定位销75穿过第一固定孔711,将固定体712连接在池壁上。为加强连接的牢靠性,在通过紧固件76将将固定体712连接在池壁上。逆时针定位孔714和顺时针定位孔715的设置,是为了调节调节环72和固定环71之间的连接。调节环72连接在固定环71不同位置,第一导流板73的倾斜角度不同。逆时针定位孔714,是为了逆时针调节调节环72时,实现定位连接。顺时针定位孔715,是为了顺时针调节调节环72时,实现定位连接。
优选的,所述顺时针定位孔715的数量等于逆时针定位孔714的数量,均为n个;两个相邻顺时针定位孔715之间的角度为360°/n;两个相邻逆时针定位孔714之间的角度为360°/n;顺时针定位孔715和逆时针定位孔714在不同方向上一一对应设置。所有顺时针定位孔715的中心位于同一圆上,所有逆时针定位孔714的中心位于同一圆上。顺时针定位孔715的中心所在的圆的圆心、逆时针定位孔714的中心所在的圆的圆心和第一固定孔711所在的圆的圆心重合。例如,顺时针定位孔715在顺时针方向转动270°,逆时针定位孔714在逆时针方向转动-90°,两者对应设置。其中,符号-表示逆时针方向。顺时针定位孔715和逆时针定位孔714在固定体712上均匀分布。
作为优选例,如图5所示,所述调节环72包括调节体723,以及设置在调节体723上的第二固定孔721、逆时针调节孔722、转动孔724和顺时针调节孔725;调节体723通过转动孔724套装在定位轴713上,调节环72可拆卸连接在固定环71上。调节体723通过第二固定孔721和固定体712连接,例如,通过紧固件穿过第二固定孔721实现连接。由于在工作过程中,需要调节调节体723的位置,所以优选的,第二固定孔721为腰形孔。这样,即使调节体723在一定范围内转动后,仍然可通过第二固定孔721实现调节体723和固定体712的连接。第二固定孔721为腰形孔,用于正反两个方向的旋转。所述调节环72用紧固件76固定,并用定位销75定位。
作为优选例,所述顺时针定位孔715中心圆的直径等于顺时针调节孔725中心圆的直径;所述顺时针定位孔715的数量等于顺时针调节孔725的数量;逆时针定位孔714中心圆的直径等于逆时针调节孔722中心圆的直径;逆时针定位孔714的数量等于逆时针调节孔722的数量。所有顺时针调节孔725的中心位于同一圆上,所有逆时针调节孔722的中心位于同一圆上;顺时针调节孔725的中心所在的圆的圆心、逆时针调节孔722的中心所在的圆的圆心和第二固定孔721所在的圆的圆心重合。第一固定孔711所在的圆的圆心和第二固定孔721所在的圆的圆心重合。这样,调节体723绕固定体712的中心转动,易于调节角度。在工作时,一顺时针定位孔715和一顺时针调节孔725连接,或者一逆时针定位孔714和一逆时针调节孔722连接。
为便于调节,所述顺时针调节孔725从调节环72中心线开始,沿顺时针方向,与调节环72中心线的间隔角度依次为360°/n-a°、2*360°/n-2 a°、3*360°/n-3 a°、……、360°-na°;0<a≤3°。所述逆时针调节定位孔722从调节环72中心线开始,沿逆时针方向,与调节环72中心线的间隔角度依次为360°/n-a°、2*360°/n-2 a°、3*360°/n-3 a°、……、360°-n a°;0<a≤3°。这样,在调节调节体723时,根据需要调节的方向,旋转调节环72。例如,设置5个顺时针调节孔725和5个逆时针调节孔722。a =1°。5个顺时针调节孔725与调节环72中心线的间隔角度依次为71°、142°、213°、284°、355°。5个顺时针定位孔715与调节环72中心线的间隔角度依次为72°、144°、216°、288°、360°。5个顺时针调节孔725与对应的顺时针定位孔715之间的相差依次为1°、2°、3°、4°、5°。5个逆时针调节孔722与调节环72中心线的间隔角度依次为-71°、-142°、-213°、-284°、-355°。5个逆时针定位孔714与调节环72中心线的间隔角度依次为-72°、-144°、-216°、-288°、-360°。其中,符号-表示逆时针方向。5个逆时针调节孔722与对应的逆时针定位孔714之间的相差依次为-1°、-2°、-3°、-4°、-5°。当调节环72逆时针旋转时,旋转角度越大,第一导流板73倾斜角度越大。第一导流板73可改变的水流水平速度和垂直速度。例如,当需要逆时针旋转3°时,将第三个逆时针调节孔722与对应的逆时针定位孔714对齐连接。当调节环72顺时针旋转时,旋转角度越大,第一导流板73倾斜角度越小。第一导流板73同样可改变的水流水平速度和垂直速度。例如,当需要顺时针旋转2°时,将第二个顺时针调节孔725与对应的顺时针定位孔715对齐连接。上述优选例中,通过合理设置逆时针定位孔714、顺时针定位孔715、逆时针调节孔722和顺时针调节孔725,实现对第一导流板73倾斜角度的调整。
上述优选例中,转动角度为顺时针或者逆时针1°、2°、3°、···、n°。当然也可以是其他角度,例如,2°、4°、6°、···、2n°。旋转角度大小和孔的数量都根据实际情况而定。该优选例中,通过调节环72的旋转,实现第一导流板73和第二导流板74的角度调节。同时,调节环72上设置逆时针调节孔722和顺时针调节孔725,固定环71上设置逆时针定位孔714和顺时针定位孔715。当顺时针调节时,角度合适后,将一顺时针调节孔725和对应的一顺时针定位孔715连接;当逆时针调节时,角度合适后,将一逆时针调节孔722和对应的一逆时针定位孔714连接。
作为优选例,所述第一导流板73沿着水流方向向下倾斜,且与水平面的基准夹角为60°。第一导流板73倾斜布设,才能起到导流作用。将第一导流板73与水平面的基准夹角设为60°。如果可调节范围为5°,那么第一导流板73与水平面的夹角为60°-5°和60°+5°之间。
作为优选例,所述第二导流板74轴向镜像分布在第一导流板73下表面的两侧,所述每侧第二导流板74与该侧第一导流板73边缘的距离为500~1000mm;第二导流板74与其所在池道的轴向中心线的夹角为1~5°,且第二导流板74的下部向池道外侧倾斜。第二导流板74位于第一导流板73下方,可对部分污水导流后对池壁进行冲刷,避免在池壁产生沉淀。第一导流板73和第二导流板74可以保证污水在池底及池壁底部的充分混合。第一导流板73与轴向中心线的夹角根据曝气机下游的池壁长度确定,保证水流对前方池壁底部的有效作用,避免池壁底部的沉淀。
上述实施例的奥贝尔氧化沟的工作过程为:进入厌氧池1的污水和回流污泥在循环流体带动下迅速混合,各池上运行的曝气机3具有供氧、充分混合、推动混合液不停地进行循环作用,在不断循环的同时,混合液依次进入到缺氧池4和好氧池6。由于在曝气机3的下游设置了导流装置7,此时,水面下的汽水混合液在第一导流板73的导流下,沿着基准a角度的斜面向前下方运动。其作用是:一方面增加了汽水混合液的路径,增加溶氧效率;另一方面,对池底的污泥进行稀释混合,保证池中污水的均匀性,不产生池底沉淀现象。第一导流板73两侧局部范围内的汽水混合液在第二导流板74的导流下,向池壁方向运动,保证前方一定距离的池壁底部不产生沉淀现象。该装置可保持通过导流装置的混合液的沟底流速为(0.3~0.9)m/s。在运行时,使厌氧池1、缺氧池4、好氧池6的溶解氧分别处于厌氧、缺氧和好氧状态,使溶解氧保持较大的梯度,有利于有机物的去除和脱氮除磷。同时保证好氧池6的出水有足够的溶解氧进入到二沉池,抑制磷的释放。
当因工艺需要对流体流速进行适当调整、或配合曝气机的充氧效果进行调整、或对池底污泥状况进行稀释混合时,此时可通过调节环来调节第一导流板73的倾斜角度,实现对流体的速度调整、流体途径的调整。
根据工艺需求确定导流装置角度调整方向和调整范围,首先,停止曝气机运行,拆除紧固件76和定位销75,使第一导流板73绕定位轴713旋转,旋转的方向和旋转所需的角度应满足工艺的要求,分别用定位销75固定和紧固件76固定。重新启动曝气机3,使得汽水混合液通过调整后的第一导流板73,沿着新的途径和方向流动,从而改变水流的速度和对池底的混合效果,实现工艺新的要求。
本发明中所述具体实施案例仅为本发明的优选实施案例而已,并非用来限定本发明的实施范围。即凡依本发明申请专利范围的内容所作的等效变化与修饰,都应作为本发明的技术范畴。
Claims (1)
1.一种改良型奥贝尔氧化沟,其特征在于,所述氧化沟包括从外向内依次布设的厌氧池(1)、缺氧池(4)和好氧池(6);厌氧池(1)外壁上设有污水进口(5)和回流污泥口(2);所述氧化沟还包括曝气机(3)和可调节导流装置(7),曝气机(3)装配在各池中,所述可调节导流装置(7)位于曝气机(3)的下游,且可调节导流装置(7)装配在各池中;所述可调节导流装置(7)包括两个固定环(71)、两个调节环(72)、第一导流板(73)和两个第二导流板(74),固定环(71)固定连接在池道的两侧壁面上,调节环(72)与固定环(71)连接,第一导流板(73)的两端分别与一调节环(72)固定连接;两个第二导流板(74)位于第一导流板(73)下方,且分别与第一导流板(73)的底面固定连接;通过改变调节环(72)的位置,实现对第一导流板(73)和第二导流板(74)的倾斜角度的设置;不同倾斜角度的第一导流板(73)和第二导流板(74),对污水的导流作用不同;
所述固定环(71)包括固定体(712)和定位轴(713),定位轴(713)与固定体(712)固定连接,固定体(712)设有第一固定孔(711)、逆时针定位孔(714)和顺时针定位孔(715);
所述顺时针定位孔(715)的数量等于逆时针定位孔(714)的数量,均为n个;两个相邻顺时针定位孔(715)之间的角度为360°/n;两个相邻逆时针定位孔(714)之间的角度为360°/n;顺时针定位孔(715)和逆时针定位孔(714)在不同方向上一一对应设置,且所有顺时针定位孔(715)的中心位于同一圆上,所有逆时针定位孔(714)的中心位于同一圆上;顺时针定位孔(715)的中心所在的圆的圆心、逆时针定位孔(714)的中心所在的圆的圆心和第一固定孔(711)所在的圆的圆心重合;
所述调节环(72)包括调节体(723),以及设置在调节体(723)上的第二固定孔(721)、逆时针调节孔(722)、转动孔(724)和顺时针调节孔(725);调节体(723)通过转动孔(724)套装在定位轴(713)上,调节环(72)可拆卸连接在固定环(71)上;所述顺时针定位孔(715)中心圆的直径等于顺时针调节孔(725)中心圆的直径;所述顺时针定位孔(715)的数量等于顺时针调节孔(725)的数量;逆时针定位孔(714)中心圆的直径等于逆时针调节孔(722)中心圆的直径;逆时针定位孔(714)的数量等于逆时针调节孔(722)的数量;
所有顺时针调节孔(725)的中心位于同一圆上,所有逆时针调节孔(722)的中心位于同一圆上;顺时针调节孔(725)的中心所在的圆的圆心、逆时针调节孔(722)的中心所在的圆的圆心和第二固定孔(721)所在的圆的圆心重合;
第一固定孔(711)所在的圆的圆心和第二固定孔(721)所在的圆的圆心重合;
所述顺时针调节孔(725)从调节环(72)中心线开始,沿顺时针方向,与调节环(72)中心线的间隔角度依次为360°/n-a°、2*360°/n-2 a°、3*360°/n-3 a°、……、360°-n a°;0<a≤3°;
所述逆时针调节定位孔(722)从调节环(72)中心线开始,沿逆时针方向,与调节环(72)中心线的间隔角度依次为360°/n- a °、2*360°/n-2 a°、3*360°/n-3 a°、……、360°-n a°;
所述第一导流板(73)沿着水流方向向下倾斜;且第一导流板(73)的顶部距离水面150~250mm,第一导流板(73)的垂直投影高度为1.5~2.0m;
所述第一导流板(73)与水平面的基准夹角为60°;
所述第二导流板(74)轴向镜像分布在第一导流板(73)下表面的两侧,每侧第二导流板(74)与该侧第一导流板(73)边缘的距离为500~1000mm;第二导流板(74)与其所在池道的轴向中心线的夹角为1~5°,且第二导流板(74)的下部向池道外侧倾斜。
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