CN108672244A - 一种间隙涂布方法 - Google Patents

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杜涛
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Abstract

本发明提供一种间隙涂布方法，当所需间隙小于第一预设值时，采用刻蚀法实现间隙涂布，所述刻蚀法包括如下步骤：在基材上连续涂布形成涂层；待涂层干燥后，在预设位置进行激光刻蚀，以形成间隙。本发明提供一种间隙徒涂布的方法，在需要形成间隙的预设位置进行激光刻蚀，实现在高速涂布下窄空隙的宽度把控。

Description

一种间隙涂布方法
技术领域
本发明涉及锂电池加工领域，具体涉及一种间隙涂布方法。
背景技术
在锂电池的加工工艺中，必定需要经过涂布这一工序。涂布是一种把粘稠浆料以连续或间断的方式均匀地涂覆在基体上的工序，它对电池的安全性、一致性等各项性能起关键作用。在涂布的过程中，需要确保各个涂布位置的厚度一致性、并将涂布厚度控制在满足生产要求的范围内。
在现有技术中，主要以开关控制或后期机械刮除的方式实现间隙涂布。但在高速涂布的过程中，如果所需的间隙宽度较窄，开关控制难以把控间隙的宽度，单纯依靠开关控制的方式，则间隙的宽度受到限制；而后期机械刮除的方式则容易造成基材的损坏。
发明内容
本发明的目的在于，针对现有技术的不足，提供一种间隙涂布方法，以解决现有的涂布工序难以应付需要高速中涂布窄间隙的问题。
为实现上述目的，本发明提供以下的技术方案：
一种间隙涂布方法，当所需间隙小于第一预设值时，采用刻蚀法实现间隙涂布，所述刻蚀法包括如下步骤：
在基材上连续涂布形成涂层；
待涂层干燥后，在预设位置进行激光刻蚀，以形成间隙。
可选的，在预设位置进行激光刻蚀前预先设置激光刻蚀参数，使激光刻蚀的厚度与涂层厚度相匹配；
其中，所述第一预设值为5mm。
可选的，在所述基材的反面采用所述刻蚀法实现间隙涂布。
可选的，在进行激光刻蚀的过程中，以强力吸气的方式去除刻蚀过程中产生的粉尘。
可选的，在预设位置进行激光刻蚀时，通过感应器定位预设位置，以避免间隙位置误差。
可选的，当所需间隙大于第二预设值时，采用控制开关法实现间隙涂布，所述控制开关法包括：
在涂布至预设位置时，关闭涂布供料装置，以形成间隙。
可选的，在所述基材的反面采用所述控制开关法实现间隙涂布。
可选的，当所需间隙介于第一预设值与第二预设值之间时，采用预贴胶法实现间隙涂布，所述预贴胶法包括：
在基材的预设位置上贴设胶条；
在基材上连续涂布形成涂层；
待涂层干燥后，除去胶条，以形成间隙；
其中，在所述基材的预设位置上贴设胶条时，所述胶条的长度长于所述基材的宽度。
可选的，在所述基材的反面采用所述预贴胶法实现间隙涂布。
可选的，所述第二预设值为20mm。
与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：
本发明提供一种间隙徒涂布的方法，在需要形成间隙的预设位置进行激光刻蚀，实现在高速涂布下窄空隙的宽度把控。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为本发明实施例提供的一种采用刻蚀法实现间隙涂布的方法流程图；
图2为本发明实施例提供的一种采用控制开关法实现间隙涂布的方法流程图。
具体实施方式
本发明旨在于提供一种间隙涂布方法，解决现有的涂布方法难以在高速运作下把握窄间隙宽度的问题。
为使得本发明的目的、特征、优点能够更加的明显和易懂，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，下面所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而非全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
涂布工艺是一种将制成的浆料均匀地涂覆在金属箔表面的工艺，用于在锂电池生产工艺中制成正负极极片，其原理为：通过涂辊转动带动浆料，通过调整刮刀间隙来调整浆料转移量，并利用背辊或涂辊的转动转移到基材上。在加工过程中，需要控制涂布层的厚度以达到生产要求，同时，通过干燥加热除去平铺于基材浆料中的溶剂，以使涂布层稳固地粘结于基材上。
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
实施例一
本实施例提供了一种采用激光刻蚀实现间隙涂布的方法，用于在所需间隙小于第一预设值时准确控制间隙的宽度。在本实施例中，该第一预设值为5mm。
请参阅图1，图1为本发明实施例提供的一种间隙涂布方法中采用激光刻蚀进行间隙涂布的方法流程图，该刻蚀法包括如下步骤：
S101、在基材上连续涂布形成涂层。
该步骤中，首先将基材放置于放卷装置上，经过自动纠偏并调整放卷张力后，进入涂布区；浆料按照涂布系统的设定程序进行连续涂布。
S102、待涂层干燥后，在预设位置进行激光刻蚀，以形成间隙。
该步骤中，需要待涂层干燥后方可进行激光蚀刻。在本实施例的其中一个实施例中，可将涂布后的湿极片送入烘箱内进行干燥，以提高加工效率。当干燥完成后，通过在需要设置间隙的预设位置进行激光蚀刻，以激光精密蚀刻的方式去除该预设位置上的涂层材料，使基材暴露出来，形成间隙。
在本实施例中，为确保间隙位置的准确性，可通过感应器定位预设位置，以消除间隙的实际位置与预设位置之间的误差。
在激光刻蚀前预先设置激光刻蚀参数，使激光所能刻蚀的厚度与涂层厚度相匹配，以避免激光刻蚀的过程中损坏涂层底下的基材。其中，激光刻蚀的参数可根据涂层材料加以调整，例如，当涂层材料为金属银薄膜时，激光刻蚀机的激光波长为1060nm，激光器的额定输出频率为25～1000kHz。
在激光蚀刻的过程中，可采用除尘装置去除刻蚀过程中产生的粉尘。例如，可采用吸气除尘装置，以强力吸气的方式去除在刻蚀过程中产生的粉尘，一方面避免粉尘破坏涂层，另一方面也避免了粉尘对环境的污染。
此外，当需要进行双面涂布时，可通过在基材的反面重复步骤S101、S102，采用所述刻蚀法实现基材反面的间隙涂布，具体步骤为：在基材上连续涂布形成涂层，待涂层干燥后，在预设位置进行激光刻蚀，以形成间隙。
在本实施例中，通过激光刻蚀的方式实现非接触性的柔性间隙涂布，能够根据需求更改设计尺寸，并且不需要任何夹具，避免了在刻蚀过程中损坏基材，一定程度上也确保了产品的生产质量。
实施例二
本实施例二基于实施例一提供的刻蚀法，提供一种采用控制开关以实现间隙涂布的方法，用于在当所需间隙大于第二预设值时进行间隙涂布。在本实施例中，该预设值为20mm。
该控制开关法包括：在涂布至预设位置时，关闭涂布供料装置，以形成间隙。
在正常涂布时重复步骤S101，首先将基材放置于放卷装置上，经过自动纠偏并调整放卷张力后，进入涂布区；浆料按照涂布系统的设定程序进行连续涂布。
当需要实现间隙涂布时，则在涂布至预设位置关闭涂布供料装置，使涂布供料装置停止供应浆料，以实现间隙涂布。当预设位置运行完毕后，重新打开涂布供料装置，使涂布工料装置重新开始供应涂料，以恢复正常涂布功能。
在本实施的其中一个实施方式中，可通过设置高灵敏度控制阀以控制涂布供料装置的启停，进而实现间隙的精确涂布。
当需要进行双面涂布时，在基材的反面重复上述步骤即可，在此不再赘述。
实施例三
基于上述实施例提供的间隙涂布方法，本实施例提供一种预贴胶法，在所需间隙介于第一预设值与第二预设值之间时，实现间隙涂布。该预贴胶法通过物理预先占位的方式实现空隙涂布。
请参阅图2，图2为本发明实施例提供的一种间隙涂布方法中通过预先贴胶进行间隙涂布的方法流程图，具体地，该预贴胶法包括：
S201、在基材的预设位置上贴设胶条。
在基材需要设置空隙的预设位置上事先贴设胶条，该胶条的宽度与所需设置的空隙的宽度一致。
其中，胶条的长度长于所述基材的宽度，以便于后续胶条的去除，同时避免在去除胶条时损坏基材涂层。
S202、在基材上连续涂布形成涂层。
该步骤与步骤S101相同，首先将基材放置于放卷装置上，经过自动纠偏并调整放卷张力后，进入涂布区；而后将浆料按照涂布系统的设定程序进行连续涂布。
S203、待涂层干燥后，除去胶条，以形成间隙。
该步骤中，可将涂布后的湿极片送入烘箱内进行干燥，以提高加工效率。待涂层干燥后，撕下胶条，在涂层上形成与胶条宽度、间隔相同的间隙。
当需要进行反面涂布时，可在基材的反面重复上述步骤，采用预先贴胶的方式实现间隙涂布。
本发明提供的间隙涂布方法结合了激光刻蚀、开关控制以及预先贴胶的方式进行间隙涂布，当所需涂布的间隙小于20mm时，通过激光刻蚀进行精密间隙涂布；当所需涂布的间隙大于20mm时，可采用预先贴胶的方式进行间隙涂布；当所需涂布的间隙远大于20mm时，则通过开关控制的方式以高效率地涂布间隙。三种间隙涂布的方式相辅相成，从而在确保生产效率以及生产质量的同时，灵活应对各个宽度范围的间隙涂布需求，符合本领域的生产需求。
以上所述，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (10)

1.一种间隙涂布方法，其特征在于，当所需间隙小于第一预设值时，采用刻蚀法实现间隙涂布，所述刻蚀法包括如下步骤：
在基材上连续涂布形成涂层；
待涂层干燥后，在预设位置进行激光刻蚀，以形成间隙。
2.根据权利要求1所述的间隙涂布方法，其特征在于，在预设位置进行激光刻蚀前预先设置激光刻蚀参数，使激光刻蚀的厚度与涂层厚度相匹配；
其中，所述第一预设值为5mm。
3.根据权利要求1所述的间隙涂布方法，其特征在于，在所述基材的反面采用所述刻蚀法实现间隙涂布。
4.根据权利要求3所述的间隙涂布方法，其特征在于，在进行激光刻蚀的过程中，以强力吸气的方式去除刻蚀过程中产生的粉尘。
5.根据权利要求3所述的间隙涂布方法，其特征在于，在预设位置进行激光刻蚀时，通过感应器定位预设位置，以避免间隙位置误差。
6.根据权利要求1所述的间隙涂布方法，其特征在于，当所需间隙大于第二预设值时，采用控制开关法实现间隙涂布，所述控制开关法包括：
在涂布至预设位置时，关闭涂布供料装置，以形成间隙。
7.根据权利要求6所述的间隙涂布方法，其特征在于，在所述基材的反面采用所述控制开关法实现间隙涂布。
8.根据权利要求1所述的间隙涂布方法，其特征在于，当所需间隙介于第一预设值与第二预设值之间时，采用预贴胶法实现间隙涂布，所述预贴胶法包括：
在基材的预设位置上贴设胶条；
在基材上连续涂布形成涂层；
待涂层干燥后，除去胶条，以形成间隙；
其中，在所述基材的预设位置上贴设胶条时，所述胶条的长度长于所述基材的宽度。
9.根据权利要求8所述的间隙涂布方法，其特征在于，在所述基材的反面采用所述预贴胶法实现间隙涂布。
10.根据权利要求6或8所述的间隙涂布方法，其特征在于，所述第二预设值为20mm。
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