CN108565354B - 一种显示面板及其制备方法和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示面板及其制备方法和显示装置。该显示面板包括阳极层，所述阳极层包括多个像素点，至少一个像素点上形成有成像孔。这样，本发明实施例通过在阳极层的像素点上开设成像孔，能够实现通过该显示面板进行屏下指纹识别，同时，由于在制备显示面板过程中，形成各半导体结构时，不需要使用特定的光罩，能够简化生产工艺。

Description

一种显示面板及其制备方法和显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法和显示装置。

背景技术

为了减少指纹传感器所占用的空间，屏下指纹识别成为一种可选的指纹识别模式，现有的屏下指纹识别主要包括超声指纹识别和光学指纹识别两种，其中，现有的光学指纹识别是在显示面板的薄膜晶体管层或源/漏电极层上开设成像孔，通过小孔成像的原理，在指纹传感器上生成指纹图像，从而实现屏下指纹识别。这种显示面板在制备过程中，由于形成有成像孔的区域与其他区域的差异，需要通过特定的光罩来实现，所以现有的通过光学屏下指纹识别显示面板的工艺复杂。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板及其制备方法和显示装置，以解决现有的通过光学屏下指纹识别显示面板的工艺复杂的问题。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括阳极层，所述阳极层包括多个像素点，至少一个像素点上形成有成像孔。

可选的，所述成像孔贯穿所述阳极层。

可选的，还包括透明基板，所述透明基板上形成有像素界定层、阴极层和所述阳极层，其中，所述像素界定层形成于所述阳极层和所述阴极层之间。

可选的，所述多个像素点之间形成狭缝，所述显示面板还包括金属层，所述金属层在所述阳极层上的投影与所述狭缝存在重合区域。

可选的，所述阳极层和所述透明基板之间还包括缓冲层、栅极绝缘层、间隔层和平坦化层，所述金属层包括活性层、栅极层和源/漏电极层，

其中，所述缓冲层形成于所述透明基板上，所述栅极绝缘层形成于所述缓冲层远离所述透明基板的一侧，所述间隔层形成于所述栅极绝缘层远离所述缓冲层的一侧，所述平坦化层形成于所述间隔层远离所述栅极绝缘层的一侧，

所述活性层形成于所述缓冲层与所述栅极绝缘层之间、所述栅极层形成于所述栅极绝缘层与所述间隔层之间，所述源/漏电极层形成于所述间隔层与所述平坦化层之间。

第二方面，本发明实施例提供了一种显示面板的制备方法，包括形成阳极层的步骤，所述阳极层包括多个像素点，至少一个像素点上形成有成像孔。

可选的，所述成像孔贯穿所述阳极层。

可选的，还包括在透明基板上形成像素界定层和在所述透明基板上形成阴极层的步骤，所述像素界定层形成于所述阳极层和所述阴极层之间。

可选的，还包括形成金属层的步骤，所述多个像素点之间形成狭缝，所述金属层在所述阳极层上的投影与所述狭缝存在重合区域。

第三方面，本发明实施例提供了一种显示装置，其特征在于，包括指纹传感器和上述任一项所述的显示面板，所述指纹传感器对应所述成像孔设置。

这样，本发明实施例通过在阳极层的像素点上开设成像孔，能够实现通过该显示面板进行屏下指纹识别，同时，由于在制备显示面板过程中，形成各半导体结构时，不需要使用特定的光罩，能够简化生产工艺。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。

图1是本发明一实施例提供的显示面板的结构图；

图2是本发明一实施例提供的显示面板的阳极层的结构图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供了一种显示面板。

如图1和图2所示，在一个实施例中，该显示面板包括阳极层(Anode)110，该阳极层110包括多个像素点，至少一个像素点上形成有成像孔113。该成像孔113能够在需要进行指纹识别时，使指纹的图像通过该成像孔113成像。

本实施例的技术方案适用于各种OLDE(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)的显示面板，例如可以是LTPS(Low Temperature Poly-silicon，低温多晶硅)背板显示面板、Oxide(氧化物)背板显示面板、AMOLED(Active-matrix organic light-emitting diode，有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体)显示面板等，此外，该技术方案可以应用于柔性的OLED显示面板，还可以应用于非柔性的OLED显示面板。

在具体实施时，成像孔113在平行于显示面板的方向上的截面形状可以根据具体情况选择的，例如可以是圆形、椭圆形、矩形、梯形或菱形等，本实施例中对成像孔113的具体形状不作限制。

而成像孔113的数量和分布位置是可以根据情况设置的，例如可以仅有一个成像孔113，也可以设置多个成像孔113。例如，如果需要实现通过显示面板的右下角实现屏下指纹识别功能，则可以在屏幕的右下角部分对应的像素层上形成成像孔113；而如果需要在显示面板的左下角部分实现屏下指纹识别功能，则可以在屏幕的左下角部分对应的像素层上形成成像孔113。

使工作过程中，在需要识别指纹屏幕上的指纹时，阳极层110发出的光照亮指纹，根据小孔成像的原理，光线经指纹反射后，穿过成像孔113，能够到达指纹传感器，并在指纹传感器上形成指纹图像。

这样，本发明实施例通过在阳极层110的像素点上开设成像孔113，能够实现通过该显示面板进行屏下指纹识别，同时，由于在制备显示面板过程中，形成各半导体结构时，不需要使用特定的光罩，能够简化生产工艺。

本实施例中，阳极层110也称作像素层或透明电极层，该阳极层110形成于透明基板101(Substrate)上，在一个具体实施方式中，该透明基板101可以由聚酰亚胺(Polyimide，缩写为PI)制成，显然，还可以由其他材料制成，例如玻璃等。

具体的，透明基板101上形成有阳极层110、像素界定层109(Pixel definitionlayer，缩写为PDL)和阴极层111(Cathode Layer)，本实施例中，形成阳极层110之后，像素界定层109形成于阳极层110上，在形成像素界定层109的同时，还会形成隔垫物114(PostSpacer，PS)等结构，阴极层111形成于像素界定层109和隔垫物114上。

该成像孔113是可以贯穿阳极层110，即由阳极层110的一侧延伸至另一侧的；也是可以仅向阳极层110内延伸一部分，例如，通过控制阳极层110的上一个像素点上某一部分的厚度，使其厚度薄于其他部分从而形成该成像孔113。

在具体实施时，显示面板还包括金属层，金属层在阳极层110上的投影与狭缝112存在重合区域。

金属层具体可以包括金属层包括活性层105(Active layer)、栅极层106(Gatelayer)和源/漏电极层107(S/D层)，其中，源/漏电极层107由漏极(Drain，D极)和源极(Source，S极)组成。

如图2所示，阳极层110中各像素点并非直接接触的，而是多个像素点之间形成狭缝112。该狭缝112的宽度越小。则透过狭缝112的杂散光会越少，从而使得形成的指纹图像质量越高，所以在形成阳极层110的过程中，应当使该狭缝112尽可能小，能够进一步提高成像效果。

这里金属层在阳极层110上的投影指的是金属层在沿垂直于显示面板表面的方向的投影，由于各种杂散光能够通过狭缝112，所以可能对指纹图像的成像产生干扰，为了降低可能产生的干扰，在实施时，在形成金属层时，通过设计金属层的走线，使得金属层在阳极层110上的投影与狭缝112存在重合区域，这样，能够通过金属层来遮挡杂散光，以提高成像效果。应当注意的是，如果金属层的投影与成像孔113重合了，那么仍然是能够生成指纹的图像的，只是图像的清晰度会降低，如果金属层的投影是与成像孔113不存在重合区域的，那么光穿过成像孔113的光纤与孔的轴线的夹角相对较小，则能够提高成像的清晰度。

可以理解为，金属层的投影与狭缝112的重合区域越多，则能够遮挡的杂散光就越多，指纹的图像的成像效果就越好。

由于金属层存在的区域仅为显示面板的部分区域，在一个具体实施方式中，通过控制金属层的走线，在成像孔113周围的预设区域内，例如可以以成像孔113为圆心，半径为预设值的区域内，使狭缝112与金属层投影重合的比例大于其他区域狭缝112与金属层投影重合的比例。

在一个具体实施方式中，例如对于显示面板上的全部狭缝112来说，有30％的狭缝112与金属层的投影是重合的，那么可以通过控制金属层的走线，使得在以成像孔113为圆心，半径为预设值的区域内，60％以上的狭缝112与金属层的投影相重合。

显然，该与金属层的投影重合的狭缝112比例是可以根据实际情况调整的，例如可以是50％、70％等各种数值，本实施例中对具体的数值不作进一步限制，而该区域的半径也是可选择的，例如可以是1毫米，也可以是5毫米等各种数值，本实施例中对此不作具体限制。

由图1所示的显示面板的截面图可以发现，大部分杂散光被阻挡在阳极层以上，同时通过设置金属层的排布，能够进一步减少杂散光。

在一个具体实施方式中，阳极层110和透明基板101之间还包括缓冲层102(BufferLayer、栅极绝缘层103(Gate Insulator Layer，缩写为GI Layer)、间隔层104(或称层间电介质层，Inter Layer Dielectric Layer，缩写为ILD Layer)和平坦化层108(Planarization Layer，缩写为PLN Layer)。

实施时，缓冲层102形成于透明基板101上，栅极绝缘层103形成于缓冲层102上，具体的，形成于缓冲层102远离透明基板101的一侧，间隔层104形成于栅极绝缘层103远离缓冲层102的一侧，平坦化层108形成于间隔层104远离栅极绝缘层103的一侧，进一步的，在平坦化层108上形成阳极层110、像素界定层109及隔垫物114、阴极层111等结构。此外，该显示面板还可以包括封装层、钝化层(Passivation Layer)、发光层(或称电致发光层，ElectroLuminescence Layer，缩写为EL Layer)等其他膜层，本实施例中对此不作限制。

在一个具体实施方式中，活性层105形成于缓冲层102与栅极绝缘层103之间，即在形成缓冲层102之后，在缓冲层102上形成活性层105，然后缓冲层102和活性层105上形成栅极绝缘层103，栅极绝缘层103朝向缓冲层102的侧面，一部分是与缓冲层102相接触的，一部分则是与活性层105相接触的。类似的，栅极层106形成于栅极绝缘层103与间隔层104之间，源/漏电极层107形成于间隔层104与平坦化层108之间。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述的显示面板和指纹传感器，其中，指纹传感器对应成像孔113设置。

由于显示面板在阳极层110的像素点上开设成像孔113，能够实现通过该显示面板进行屏下指纹识别，同时，由于在制备显示面板过程中，形成各半导体结构时，不需要使用特定的光罩，能够简化生产工艺。这样，指纹的图像能够透过成像孔113在指纹传感器上形成指纹的图像，从而可以进一步通过指纹传感器完成指纹的识别。

本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法，用于制备上述的显示面板。

该显示面板的制备方法该包括形成阳极层110的步骤，其中，阳极层110包括多个像素点，至少一个像素点上形成有成像孔113。

实施时，可以通过在平坦化层108上通过磁控溅射、真空沉积、真空热蒸发、有机气相沉积、喷墨打印等方式形成阳极层110。本实施例中对具体的加工工艺不做进一步限定。

本实施例中以通过磁控溅射工艺形成阳极层110为例，在形成阳极层110过程中，像素点之间的区域由于未溅射阳极层110材料，例如为ITO(氧化铟锡)，而形成狭缝112，类似的，可以通过控制在特定区域不溅射ITO而形成成像孔113。显然，通过不同的加工工艺来形成阳极层110时，可以通过不同的加工手段来形成成像孔113。

这样，本发明实施例通过在阳极层110的像素点上开设成像孔113，能够实现通过该显示面板进行屏下指纹识别，同时，由于在制备显示面板过程中，形成各半导体结构时，不需要使用特定的光罩，能够简化生产工艺。

实施时，还包括在透明基板101上形成像素界定层109和在透明基板101上形成阴极层111的步骤，像素界定层109形成于阳极层110和阴极层111之间。本实施例中对形成像素界定层109以及阴极层111的工艺不作进一步限制。

本实施例中，成像孔113是可以贯穿阳极层110，例如以溅射工艺形成阳极层110的过程中，避开成像孔113对应区域的，则可形成成像孔113，在利用其他工艺形成阳极层110时，同样可参考形成狭缝112的过程来形成成像孔113；成像孔113也可以是不贯穿阳极层110的，例如，在一溅射工艺形成阳极层110的过程中，可以通过控制时间长短，使特定区域阳极层110的厚度变小以形成成像孔113，此外，还可以通过激光打孔等方式来形成成像孔113，本实施例中对形成成像孔113的具体工艺不作限制，只要能在指定的位置形成成像孔113即可。

可选的，还包括形成金属层的步骤，多个像素点之间形成狭缝112，金属层在阳极层110上的投影与狭缝112存在重合区域。其中，形成的金属层具体可参考上述显示面板实施例中的金属层，而形成金属层的工艺则均可参考现有技术，此处不再赘述。

以上，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (8)

1.一种显示面板，其特征在于，包括阳极层，所述阳极层包括多个像素点，至少一个像素点上形成有成像孔，所述多个像素点之间形成狭缝，所述显示面板还包括金属层，所述金属层包括活性层、栅极层和源/漏电极层，所述金属层在所述阳极层上的投影与所述狭缝存在重合区域。

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述成像孔贯穿所述阳极层。

3.如权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，还包括透明基板，所述透明基板上形成有像素界定层、阴极层和所述阳极层，其中，所述像素界定层形成于所述阳极层和所述阴极层之间。

4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述阳极层和所述透明基板之间还包括缓冲层、栅极绝缘层、间隔层和平坦化层，

其中，所述缓冲层形成于所述透明基板上，所述栅极绝缘层形成于所述缓冲层远离所述透明基板的一侧，所述间隔层形成于所述栅极绝缘层远离所述缓冲层的一侧，所述平坦化层形成于所述间隔层远离所述栅极绝缘层的一侧，

所述活性层形成于所述缓冲层与所述栅极绝缘层之间、所述栅极层形成于所述栅极绝缘层与所述间隔层之间，所述源/漏电极层形成于所述间隔层与所述平坦化层之间。

5.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括形成阳极层的步骤，所述阳极层包括多个像素点，至少一个像素点上形成有成像孔；

还包括形成金属层的步骤，所述金属层包括活性层、栅极层和源/漏电极层，所述多个像素点之间形成狭缝，所述金属层在所述阳极层上的投影与所述狭缝存在重合区域。

6.如权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述成像孔贯穿所述阳极层。

7.如权利要求5或6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，还包括在透明基板上形成像素界定层和在所述透明基板上形成阴极层的步骤，所述像素界定层形成于所述阳极层和所述阴极层之间。

8.一种显示装置，其特征在于，包括指纹传感器和权利要求1至4中任一项所述的显示面板，所述指纹传感器对应所述成像孔设置。

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