CN108508567A - 自动对焦调节装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种自动对焦调节装置。该自动对焦调节装置包括：基部，该基部形成有透光孔；架，该架插入到基部中并且构造成接纳由一个或更多个透镜构成的透镜筒；磁体，该磁体安装在架的一个表面中；线圈，该线圈安装在基部中以面向磁体；以及至少一个或更多个滚珠，所述至少一个或更多个滚珠位于架与基部之间，并且所述至少一个或更多个滚珠构造成对架进行支承以使架沿着透镜的光轴方向移动。

Description

自动对焦调节装置

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年2月24日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2017-0024659的优先权，其全部公开内容通过参引并入本文。

技术领域

与示例性实施方式一致的装置和方法涉及一种自动对焦调节装置，并且更具体地，涉及一种能够通过可靠地调节焦距来对锐化的屏幕进行成像的自动对焦调节装置。

背景技术

如今，包括在比如移动通信终端的小型移动装置中的摄像头透镜组件可以在屏幕上显示1300万像素，并且像传统的数码相机一样实现高的分辨率。通过安装在移动通信终端上的高性能摄像头透镜组件，可以采用比如光学变焦功能以及自动对焦调节功能和图像稳定功能之类的各种功能。

摄像头透镜组件可以通过这些功能之中的自动对焦调节功能来根据摄像头与对象之间的距离来使清晰和锐化的图像成像。

然而，在具有自动对焦调节功能的相关摄像头透镜组件中，透镜架可能因摄像头透镜组件的部件的制造公差而偏离移动路径并且可能不能响应于透镜架在光轴方向前后移动而沿着移动路径准确地移动以用于自动对焦调节。

发明内容

示例性实施方式可以克服上述缺点以及以上未描述的其他缺点。另外，示例性实施方式不需要克服上述缺点，并且示例性实施方式可以不克服上述问题中的任何问题。

一个或更多个示例性实施方式涉及一种能够通过可靠地调节焦距来对锐化的屏幕进行成像的自动对焦调节装置。

根据示例性实施方式的一个方面，提供了一种自动对焦调节装置，包括：基部，该基部形成有透光孔；架，该架插入到基部中并且构造成接纳由一个或更多个透镜构成的透镜筒；磁体，该磁体安装在架的一个表面上；线圈，该线圈安装在基部中以面向磁体；以及至少一个或更多个滚珠，所述至少一个或更多个滚珠位于架与基部之间，并且所述至少一个或更多个滚珠构造成对架进行支承以使架沿着透镜的光轴方向移动。

基部可以形成有接纳槽和导引槽，该接纳槽构造成接纳架，该导引槽沿光轴方向联接至接纳槽且滚珠插入导引槽中。

导引槽可以包括位于磁体一个侧部的主导引槽；以及位于磁体另一个侧部的辅助导引槽。

这些滚珠可以以不同的数目堆叠在主导引槽和辅助导引槽中并且插入到主导引槽和辅助导引槽中。

插入主导引槽中的滚珠可以在X-Y方向对架进行支承，并且插入到辅助导引槽中的滚珠可以在Y方向对架进行支承。

插入主导引槽中的滚珠可以在架与基部之间呈三点接触状态，并且插入辅助导引槽中的滚珠可以在架与基部之间呈两点接触状态。

架可以包括导引突起，该导引突起突出成使得导引突起的至少一个端部被插入到主导引槽中。

主导引槽可以通过导引突起被分隔成第一主导引槽和第二主导引槽，并且滚珠可以堆叠在第一主导引槽和第二主导引槽中。

导引突起可以包括倾斜表面，倾斜表面与位于第一主导引槽和第二主导引槽中的滚珠接触。

位于第一主导引槽中的滚珠可以在倾斜表面与第一主导引槽之间呈三点接触状态，并且位于第二主导引槽中的滚珠可以在倾斜表面与第二主导引槽之间呈三点接触状态。

磁体中可以交替地形成有多种极性。

将在详细描述中对示例性实施方式的另外的方面和优点进行阐述，并且示例性实施方式的另外的方面和优点将从详细描述中变得明显或者可以通过实践示例性实施方式而被了解。

附图说明

通过参照附图对本发明的某些示例性实施方式进行描述，本发明的上述和/或其他方面将会更加清楚，在附图中：

图1是示出了根据示例性实施方式的自动对焦调节装置的立体图；

图2是示出了根据示例性实施方式的自动对焦调节装置的分解立体图；

图3是示出了将根据示例性实施方式的自动对焦调节装置中的盖省略的示例的平面图；

图4是示出了图3的自动对焦调节装置的A部分的放大图；

图5是示出了沿着图3的线B-B截取的自动对焦调节装置的截面图；

图6是示出了将根据另一示例性实施方式的自动对焦调节装置中的盖省略的示例的平面图；

图7是示出了将根据另一示例性实施方式的自动对焦调节装置中的盖省略的示例的平面图；以及

图8是示出了根据另一示例性实施方式的自动对焦调节装置的分解立体图。

具体实施方式

将对示例性实施方式中所使用的术语进行简要描述，并且将对示例性实施方式进行详细描述。

由于本文中所使用的术语是为了说明书和权利要求的描述的目的，因此一般术语是在考虑各个示例性实施方式中的功能的情况下而被选择的。应当理解的是，本文中所使用的术语可以根据本公开所属领域的技术人员的意图、法律或技术解释、新技术的出现等而改变。本文中所使用的术语的一部分可以是申请人任意选择的术语。

应当理解的是，本文中所使用的术语应该被解释为在本文中所定义的含义。除非以其他方式定义，否则本文中所使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明构思所属领域的普通技术人员通常所理解含义的相同的含义。

本文的附图中所使用的相同的参考标记或符号相同表示实质上执行相同功能的部件或元件。为了便于描述和理解，在其他示例性实施方式中使用相同的参考标记或符号。例如，尽管所有由相同的附图标记表示的元件在多个附图中被示出，但是所述多个附图可以不指代一个示例性实施方式。

应当理解的是，虽然可以在本文中参照本发明的元件而使用术语第一、第二等，但是这样的元件不应该被解释为受这些术语的限制。这些术语仅被用于将一个元件与另一元件进行区分。例如，与序号相关联的元件不应当根据数字而被限制到使用顺序或排列顺序。如果需要的话，第一元件可以指代第二元件，并且类似地，第二元件可以指代第一元件。

本文中所使用的用来对本发明的实施方式进行描述的术语并不意在限制本发明的范围。冠词“一”、“一个”和“该”是单数，因为它们具有单一的指示物；然而，在本文件中单数形式的使用不应当排除多于一个指示物的存在。换言之，除非上下文另有明确指示，否则以单数形式提及的本发明的元件可以是一个或更多个。还应当理解的是，术语“包括”、“包括有”、“包含”和/或“包含有”当在本文中使用时指定所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或其组合，但不排除一个或更多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或其组合的存在或添加。

在示例性实施方式中，任何部分到另一部分的短语“联接”可以包括“直接联接”以及其他元件介于其间的“间接联接”。术语“包括某个元件的某个部分”可以意味着不排除另一个元件而还包括另一元件，除非另有明确定义。

在下文中，将参照附图对本公开的示例性实施方式进行描述。

图1是示出了根据示例性实施方式的自动对焦调节装置的立体图，且图2是示出了根据示例性实施方式的自动对焦调节装置的分解立体图。图3是示出了将根据示例性实施方式的自动对焦调节装置中的盖省略的示例的平面图，且图4是示出了图3中的自动对焦调节装置的A部分的放大图。图5是示出了沿着图3中的线B-B截取的自动对焦调节装置的截面图。

参照图1至图5，根据示例性实施方式的自动对焦调节装置100可以包括：基部110，在基部110的中央部分中形成有透光孔115；架120，架120插入到基部110中且安装在基部110中；驱动单元130，驱动单元130构造成使架120沿着光轴方向移动；以及至少一个或更多个滚珠140，所述至少一个或更多个滚珠140位于基部110与架120之间。驱动单元130可以包括安装在架120的一个表面中的磁体133和安装在基部110中以面向磁体133的线圈135。

在基部110中可以形成有接纳槽112和导引槽G，其中，接纳槽112接纳架120，滚珠140插入到导引槽G中。接纳槽112可以具有与架120的外表面对应的形状，并且导引槽G可以联接至接纳槽112且导引槽G可以具有从基部110的内表面凹入的形状使得滚珠140被插入到导引槽G中。导引槽G的下端可以定位成相对于接纳槽112的下端成阶梯状。

导引槽G可以包括主导引槽113和辅助导引槽114，其中，主导引槽113位于基部110的基于线圈135(或磁体133)的一个侧部部分中，辅助导引槽114位于基部110的基于线圈135(或磁体133)的另一个侧部部分中。例如，滚珠140可以插入主导引槽113和辅助导引槽114中且可以位于与架120的相同的平面中，并且因此，架120可以通过滚动运动在光轴方向容易地滑动。

在该示例中，主导引槽113中可以堆叠和插入有多个滚珠，使得可以在X-Y方向对架120进行支承而不发生晃动。

架120的一个侧部可以通过被插入到主导引槽113中的多个滚珠140支承，并且插入到辅助导引槽114中的多个滚珠可以在架120与基部110之间仅呈两点接触状态，并且可以有效且稳定地支承架120的与其一个侧部相对的另一个侧部。

在基部110的一个侧部表面中可以形成有开口118，并且安装在架120的一个表面中的磁体133可以通过该开口暴露于外部。线圈135可以安装在基部110的形成有开口118的外表面中，并且线圈135的一个侧部可以被定位成面向磁体133。例如，线圈135可以具有圆环形状。

在线圈135的另一个侧部中可以定位有衬底160的一个表面，并且在衬底160中可以形成有被配置为向线圈135施加电力的端子部(未示出)。线圈135可以借助于通过端子部从衬底160接收电力而通过与磁体133的相互作用来产生驱动力。例如，衬底160可以是柔性印刷电路板(FPCB)，并且线圈135可以电联接至衬底160并且同时固定地安装在衬底160中。

在线圈135的另一表面中可以安装有轭部165并且轭部165固定至基部110的外表面。轭部165可以形成为具有比线圈135宽的宽度，并且因此可以使形成于线圈135与磁体133之间的磁场强度增加，并且同时磁场可以扩大。

在衬底160上可以安装有霍尔传感器(未示出)。霍尔传感器可以被安装成以间隔开的方式靠近磁体133的外周表面并且可以电联接至衬底160。霍尔传感器可以感测架120的位置(或者透镜的位置)，并且待移动的架120的移动方向和移动距离可以基于在自动对焦调节操作中通过霍尔传感器所感测的透镜的定位位置而被计算。

霍尔传感器的位置可以改变到如下的任何位置：其中霍尔传感器布置成与安装在架120侧部的磁体133平行且面向磁体133，例如线圈135的上侧部分、侧部部分、下侧部分等。

架120可以具有中空的形状以与形成在基部110中的透光孔115对应，并且架120的外表面可以具有与形成在基部110中的接纳槽112对应的形状。架120可以包括导引突起125，并且导引突起125可以突出到与主导引槽113对应的位置，并且导引突起125的至少一个端部可以被插入到主导引槽113中。

参照图4，导引突起125可以从架120的一个表面的中央部分偏心地定位到架的一个表面的一个侧部部分。

导引突起125在两侧部部分中可以具有倾斜表面126a和126b以与位于主导引槽113中的滚珠140接触，并且主导引槽113可以通过插入到主导引槽113中的导引突起125被分隔成第一主导引槽113a和第二主导引槽113b。因此，位于第一主导引槽113a和第二主导引槽113b中的滚珠140可以在第一主导引槽113和第二主导引槽113与倾斜表面126a和126b之间呈三点接触。

例如，滚珠140可以插入到第一主导引槽113a和第二主导引槽113b以及辅助导引槽114中，并且在导引槽113a、113b和114的每一者中都可以插入并堆叠有三个滚珠140。在该示例中，基部110的内表面和架120的外表面可以通过插入到主导引槽中的滚珠呈至少三点接触。

架120和基部110的联接位置可以通过形成于架120中的导引突起125来设定。插入到主导引槽113和辅助导引槽114中的滚珠140可以以彼此不同的数目堆叠。

响应于插入到主导引槽113中的滚珠140与倾斜表面126a和126b接触以在X-Y方向对架120的一个侧部部分进行支承，架120的另一侧部部分可能因磁体133的作用而在Y方向倾斜。被插入到辅助导引槽114中的滚珠140可以仅通过两点接触在Y方向对架120的另一侧部部分进行支承，并且因此可以以最小的摩擦力有效地支承架120。

在架120的一个表面中可以设置有联接构件128，其中，磁体133安装在联接构件128中且联接至联接构件128。例如，联接构件128可以位于与导引突起125相同的平面中且可以具有从架120的一个表面突出的形状。在联接构件128中可以形成有安装槽129，磁体133安装在安装槽129上。

可以设置多个磁体133，使得磁体的极性交替布置。磁体133可以设置为彼此叠置，使得磁体具有不同的磁极。例如，可以在磁体133的内表面和外表面的一个侧部部分和另一侧部部分中磁化出N极和S极。在该示例中，可以在磁体133的面向线圈135的表面的一个侧部部分中磁化出N极，并且可以在磁体133的面向表面的另一侧部部分中磁化出S极。可以在磁体133的与磁体133的面向表面相对的表面的一个侧部部分中磁化出S极，并且可以在磁体133的相对表面的另一侧部部分中磁化出N极。

因此，例如，可以在磁体133的内表面和外表面的两个侧部部分磁化出N极和S极，四个极，并且因此，可以形成下述磁场部分：其中，通过霍尔传感器检测到磁场的强度均匀地增大和减小。

在架120的形成有中空部的内周表面可以联接有透镜筒150。例如，在架120的内周表面和透镜筒150的外周表面中可以形成有相互对应的螺纹123、153，并且因此，透镜筒150可以被螺纹紧固至架120。

在根据示例性实施方式的自动对焦调节装置100中，架120可以滑动至基部110并且可以联接至基部110。因此，即使在透镜筒150联接至架120之后，透镜筒150也可以与架120分开。

因此，在替换有缺陷的透镜筒150时，可以仅使透镜筒150与架120分开并仅修理透镜筒150，并且响应于包括在透镜筒150中的有缺陷的透镜，自动对焦调节装置100可以未必被丢弃。

透镜筒150和架120的联接不限于螺纹紧固，透镜筒150和架120也可通过压配合、粘接联接以及它们的组合等以可拆卸的方式联接。

例如，在根据示例性实施方式的上述自动对焦调节装置100中，通过导引突起125被插入到主导引槽113中并且架通过所述多个滚珠140被支承的结构，透镜架120可以沿着预设路径在光轴方向被驱动而不会晃动。因此，即使在出现零件的制造公差的情况下，透镜架120仍能够准确且稳定地在前后方向进行驱动。

基部110可以联接有盖170以覆盖基部110的侧表面和顶表面。盖170可以屏蔽来自外部的电磁效应，并且例如，有利于屏蔽电磁波的材料比如铁等可以被用于盖170。

盖170可以具有与基部110的尺寸和形状对应的尺寸和形状。

下文中，将对根据示例性实施方式的自动对焦调节装置的驱动过程进行描述。随后将被描述的架的术语“向前方向”为如下的方向：其中，架向基部的一个表面与架的面向基部的该表面的一个表面之间的间隙增大的方向移动，并且随后将被描述的架的术语“向后方向”为如下的方向：其中，架向基部的一个表面与架的面向该表面的一个表面之间的间隙的缩小方向移动。

例如，响应于在一个方向上施加至线圈135的电流，在磁体133与线圈135之间可以产生电磁力，并且因此磁体133可以被推向向前方向。因此，架120可以在光轴方向上向前驱动。架120可以向前驱动，并且因此基部110的底表面与架的面向该底表面的下表面之间的间隙可以增大。

多个滚珠140可以以可滑动的方式支承架120并可导引架120以使架120被稳定地向前驱动。滚珠140可以堆叠并位于主导引槽113和辅助导引槽114中。霍尔传感器可以检测磁体133的根据磁体133的位置的改变而改变的磁强度，且将所检测的信号发送至安装有自动对焦调节装置100的便携式装置(未示出)的控制器(未示出)。

控制器可以通过霍尔传感器的所检测的信号来控制架120的向前移动距离。例如，控制器可以响应于所设定的架120的移动距离通过控制驱动单元130的线圈135的电流来控制向前或向后的移动距离。

当施加至线圈135的电流被施加为与架120的向前操作中的电流的施加方向相反的方向时，在线圈135与磁体133之间生成与架120的向前操作相反的方向上的电磁力并处于架的向后操作中，并且因此磁体133可以被推向磁体133的与架120的向前方向相反的向后方向。因此，架120可以向后驱动。

架120可以向后驱动，并且因此基部110的底表面与架120的面向该底表面的下表面之间的间隙可以减小。

因此，架可以通过多个滚珠140被以可滑动的方式支承，并且可以稳定地向后驱动。

如上所述，在架120的用于近和远对焦的驱动中，架120可以通过多个滚珠140而相对于基部110被以可滑动的方式导引。因此，所述多个滚珠体140可以通过基部110与架120之间的多点接触来支承架120，并且因此可以防止由于外部冲击或各种振动而引起的晃动。可以减少制造过程中的公差的维护点，并且因此尺寸维护可能是容易的。

图6是示出了将根据另一示例性实施方式的自动对焦调节装置中盖的省略的示例的平面图，且图7是示出了将根据另一示例性实施方式的自动对焦调节装置中的盖省略的示例的平面图。

在下文中，为了清楚起见，将基于与根据图1至图5中描述的示例性实施方式的自动对焦调节装置的区别来对根据其他示例性实施方式的自动对焦调节装置进行描述，并且用于该结构的所省略的说明也可以用上述说明来代替。

参照图6，根据另一示例性实施方式的自动对焦调节装置可以包括基部210、插入到基部中且安装在基部中的架220、被构造成使架220沿着光轴方向移动的驱动单元(未示出)以及位于基部210与架220之间的至少一个或更多个滚珠240。

在基部210中形成有接纳槽212和导引槽G1，其中，接纳槽212构造成接纳架220，滚珠240插入导引槽G1中。接纳槽212可以具有与架220的外表面对应的形状，并且导引槽G1可以联接至接纳槽212且导引槽G1可以具有从基部210的内表面凹入的形状使得滚珠240被插入到导引槽G1中。

在基部210的一个表面中可以形成有开口218，开口218将磁体233暴露到外部，并且可以通过开口218将磁体233和线圈(未示出)安装成面向彼此。导引槽G1可以包括位于磁体233的一个侧部中的主导引槽213和位于磁体233的另一个侧部中的辅助导引槽214。滚珠240可以堆叠并位于主导引槽213和辅助导引槽214中。

主导引槽213可以定位成与磁体233平行，并且插入到主导引槽213中的多个滚珠240可以对架220的一个表面进行支承。辅助导引槽214可以定位成相对于主导引槽213横穿(across)光轴方向，并且插入到辅助导引槽214中的多个滚珠240可以对架220的另一表面进行支承。例如，辅助导引槽214可以形成在基部210的与定位有磁体233的一个表面不同的任何一个表面中。

参照图7，架320可以包括尾部部分329，尾部部分329突出使得尾部部分329的至少一个部分被插入到辅助导引槽314中。插入到辅助导引槽314中的多个滚珠340可以与尾部部分329接触，从而沿着基部310以可滑动的方式支承架320。

根据图6和图7所描述的其他示例性实施方式的自动对焦调节装置200和300中的辅助导引槽214和314可以在相对于主导引槽213和313倾斜的方向上形成。插入主导引槽213和313以及辅助导引槽214和314中的多个滚珠340可以沿着光轴方向以可滑动的方式支承架220和320的一个表面和另一表面。

由于辅助导引槽214和314以及主导引槽213和313形成在与彼此不同的表面中，因此可以对构造成驱动架220和320的磁体233和333的尺寸和位置进行各种修改。安装在架220和320中的磁体233和333的尺寸可以增大，并且因此架220和320的驱动力可以增强。

在图6中，在详细描述中没有被描述的附图标记225指的是导引保护件，附图标记228指的是联接构件，并且附图标记250指的是透镜筒。在图7中，在详细描述中没有被描述的附图标记312指的是接纳槽，附图标记318指的是开口，附图标记325是导引保护件，并且附图标记328是指联接构件。

图8是示出了根据另一示例性实施方式的自动对焦调节装置的分解立体图。在下文中，为了清楚起见，将基于与根据图1至图7中描述的各种示例性实施方式的自动对焦调节装置的区别来对根据另一示例性实施方式的自动对焦调节装置进行描述，并且，用于该结构的所省略的说明可以用上述说明来代替。

根据另一示例性实施方式的自动对焦调节装置400可以包括：架420，架420插入到基部410中并安装在基部410中；驱动单元430，驱动单元430构造成使架420沿着光轴方向移动；以及至少一个或更多个滚珠440，所述至少一个或更多个滚珠440位于基部410与架420之间。驱动单元430可以包括安装在架420的一个表面中的磁体433和安装在基部410中以面向磁体433的线圈435。

在基部410中可以形成有接纳槽412和导引槽G2，其中，接纳槽412构造成接纳架420，滚珠440插入到导引槽G2中。接纳槽412可以具有与架420的外表面对应的形状，并且导引槽G2可以联接至接纳槽412且导引槽G2可以具有从基部410的内表面凹入的形状使得滚珠440被插入到导引槽G2中。

在基部410的一个表面中可以形成有开口418，开口418将磁体433暴露到外部，并且线圈435可以通过开口418被安装成面向磁体433。导引槽G2可以包括位于磁体433的一个侧部的主导引槽413和位于磁体433的另一个侧部的辅助导引槽414。滚珠440可以堆叠并位于主导引槽413和辅助导引槽414中。如图6和图7所描述的，可以对辅助导引槽414的位置进行各种修改。

在根据另一示例性实施方式的自动对焦调节装置400中，透镜筒450和架420一体地形成。响应于透镜筒450和架420的组合，透镜的光轴必须布置成与图像传感器的成像平面垂直，从而提高自动对焦的精度和分辨率。这是因为响应于透镜的光轴未布置成与图像传感器的成像平面垂直，透镜的分辨率可能会受到不利影响。

例如，响应于透镜的光轴因为自动对焦调节装置400的组装过程或制造过程的公差而未布置成与图像传感器的成像平面垂直，透镜的精度和分辨率均可能受到不利影响。因此，确定透镜的光轴是否布置与图像传感器的成像平面垂直可以对应自动对焦调节装置的非常重要的因素。

根据另一示例性实施方式的自动对焦调节装置400可以通过一体地制造透镜筒450和架420来满足自动对焦调节装置400的高标准。响应于透镜筒450被紧固至待被对焦的架420，可以提前防止由于透镜筒450与架420之间的联接而引起的摩擦所产生的异物产生。

在图8中，在详细描述中未被描述的附图标记415指的是透光孔，附图标记425指的是导引突起，附图标记428指的是联接构件，附图标记429指的是安装槽，附图标记460指的是衬底，并且附图标记465指的是轭部。

上述示例性实施方式和优点仅是示例性的并且不应当被解释为限制本发明。本教示可以被容易地应用于其他类型的装置。而且，本发明的示例性实施方式的描述旨在是说明性的，而不限制权利要求的范围，并且对于本领域技术人员来说许多替代方式、改型和变型将是显而易见的。

Claims (8)

1.一种自动对焦调节装置，包括：

基部，所述基部形成有透光孔；

架，所述架被插入到所述基部中并且构造成接纳由一个或更多个透镜构成的透镜筒；

磁体，所述磁体安装在所述架的一个表面中；

线圈，所述线圈安装在所述基部中以面向所述磁体；以及

至少一个或更多个滚珠，所述至少一个或更多个滚珠位于所述架与所述基部之间，并且所述至少一个或更多个滚珠构造成对所述架进行支承以使所述架沿所述透镜的光轴方向移动，

其中，所述基部包括导引槽，所述滚珠插入所述导引槽中，

所述导引槽包括主导引槽和辅助导引槽，所述主导引槽位于所述磁体的一个侧部中，并且从所述架突出的导引突起的至少一个端部插入到所述主导引槽中，所述辅助导引槽位于所述磁体的另一侧部中，

插入到所述主导引槽中的所述滚珠设置在所述导引突起的两侧，以在X-Y方向对所述架进行支承，以及

插入到所述辅助导引槽中的所述滚珠呈两点接触以在Y方向对所述架进行支承。

2.根据权利要求1所述的自动对焦调节装置，其中，在所述基部中形成有接纳槽，所述接纳槽构造成接纳所述架，以及

形成在所述基部中的所述导引槽沿着所述光轴方向联接至所述接纳槽。

3.根据权利要求1所述的自动对焦调节装置，其中，所述滚珠以不同数量堆叠且插入到所述主导引槽和所述辅助导引槽中。

4.根据权利要求2所述的自动对焦调节装置，其中，插入到所述主导引槽中的所述滚珠在所述架与所述基部之间呈三点接触，以及

插入到所述辅助导引槽中的所述滚珠在所述架与所述基部之间呈两点接触。

5.根据权利要求1所述的自动对焦调节装置，其中，所述主导引槽通过所述导引突起被分隔成第一主导引槽和第二主导引槽，以及

所述滚珠堆叠在所述第一主导引槽和所述第二主导引槽中。

6.根据权利要求5所述的自动对焦调节装置，其中，所述导引突起包括倾斜表面，所述倾斜表面与位于所述第一主导引槽和所述第二主导引槽中的所述滚珠接触。

7.根据权利要求6所述的自动对焦调节装置，其中，位于所述第一主导引槽中的所述滚珠在所述倾斜表面与所述第一主导引槽之间呈三点接触，并且位于所述第二主导引槽中的所述滚珠在所述倾斜表面与所述第二主导引槽之间呈三点接触。

8.根据权利要求1所述的自动对焦调节装置，其中，在所述磁体中交替地形成有多个极性。