CN108447404B - 柔性阵列基板、显示装置及柔性阵列基板的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种柔性阵列基板、一种显示装置和一种柔性阵列基板的制造方法。所述柔性阵列基板的一部分能够沿着弯折方向绕弯折区域弯折。所述柔性阵列基板至少包括第一层和形成在所述第一层上的第二层，其中，在所述弯折方向所在的截面上，所述第一层和所述第二层的界面在所述弯折区域处具有曲线的形状。本发明通过对柔性阵列基板结构的设计，改善了柔性阵列基板的弯折性能。

Description

柔性阵列基板、显示装置及柔性阵列基板的制造方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种柔性阵列基板、显示装置及柔性阵列基板的制造方法。

背景技术

柔性阵列基板由于其可以弯曲，被广泛地用于制造在市场上受到广泛欢迎的柔性显示装置以及窄边显示装置。例如，在窄边显示装置中，可以将柔性阵列基板上位于边缘的非显示区域弯折到柔性阵列基板不出光的背面，使得显示装置具有尽可能大的显示区域和尽可能窄的边缘。

然而，阵列基板在弯折时会在弯折区域产生较大的应力，特别是在柔性阵列基板的相对于弯曲曲率中心而言的外侧部分，其材料受到很大的拉应力。如果处于外侧部分的功能层和/或其中的功能结构拉伸强度高或者不容易变形，特别是该功能层和/或功能结构相对于与其接触的、更靠近弯曲曲率中心的内侧部分或层而言更不容易延展的情况下，阵列基板弯折时可能导致阵列基板中该功能层和/或功能结构受到损坏，进而影响显示功能。

在本背景技术部分公开的上述信息仅用于加强对本发明背景的理解，因此本背景技术部分公开的信息可能包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本发明内容部分旨在提供本申请公开内容的简化概述，以使阅读者对本申请公开内容具备基本的理解。本发明内容部分的内容并非本申请公开内容的完整描述，且其用意并非在于指出本申请实施例的重要/关键元件，也不是在于界定本申请要求保护的范围。

本发明提供了一种柔性阵列基板、显示装置及柔性阵列基板的制造方法，以期通过对柔性阵列基板结构的设计，有效地改善其弯折性能。

根据本发明的一个方面，提供了一种柔性阵列基板，所述柔性阵列基板的一部分能够沿着弯折方向绕弯折区域弯折，所述柔性阵列基板至少包括第一层和形成在所述第一层上的第二层，其中，在所述弯折方向所在的截面上，所述第一层和所述第二层的界面在所述弯折区域处具有曲线的形状。

在本发明的一个实施例中，所述曲线可以包括在所述第一层的与所述第二层接触的表面上形成的凹槽。所述凹槽可以由线段构成，例如可以为三角形、四边形等形状；或者由光滑曲线构成，例如可以为圆弧、正弦曲线等形状；或者由线段和光滑曲线组合的线型构成。优选的是，所述曲线可以包括多个凹槽。所述多个凹槽可以具有相同的形状，也可以具有不同的形状。

在本发明的一个实施例中，在所述弯折方向所在的截面上，所述第一层和所述第二层的界面还可以在所述弯折区域外、所述弯折区域附近的区域处具有曲线的形状。

在本发明的一个实施例中，所述柔性阵列基板可以包括柔性衬底和形成在柔性衬底上的功能层。

在本发明的一个进一步实施例中，所述第一层可以为所述柔性阵列基板的衬底，所述第二层可以为所述柔性阵列基板的功能层。

在本发明的一个进一步实施例中，所述第一层和所述第二层均可以为所述柔性阵列基板的功能层。

特别是，所述功能层可以包括位于所述弯折区域上的功能结构，所述功能结构可以在所述弯折方向所在的截面上至少部分地沿着所述曲线延伸。优选的是，所述功能结构可以在所述弯折方向所在的截面上沿着整个所述曲线延伸。

在所述曲线包括一个以上凹槽的情况中，所述功能结构可以在所述弯折方向所在的截面上至少部分地沿着所述凹槽或者所述多个凹槽延伸。优选的是，所述功能结构可以在弯折方向所在的截面上沿着整个所述凹槽或者全部所述多个凹槽延伸。

在本发明的一个更进一步实施例中，至少所述第二层可以包括位于所述弯折区域上的功能结构，所述功能结构可以在所述弯折方向所在的截面上至少部分地沿着所述曲线延伸。

在本发明的一个更进一步实施例中，所述第一层可以是栅介质层，所述第二层可以是栅极层。

根据本发明的另一个方面，提供了一种显示装置，其包括如上所述任一项柔性阵列基板，其中，所述柔性阵列基板包括柔性衬底和形成在柔性衬底上的功能层。所述显示装置还包括设置于所述阵列基板的功能层上面的显示层。

在本发明的一个实施例中，所述显示装置可以是有机电致发光显示装置、液晶显示装置、等离子体显示装置或者电子墨水显示装置，等等。相应地，所述显示层可以是有机电致发光层、液晶层、等离子体层或者电子墨水层，等等。所述柔性阵列基板可以作为有机电致发光材料、液晶、等离子体或者电子墨水的载体和驱动单元。

在本发明的一个实施例中，所述显示装置可以是窄边显示装置，所述弯折区域可以位于所述柔性阵列基板的边缘部分。

在本发明的一个实施例中，所述柔性阵列基板的一部分能够沿着所述弯折方向绕所述弯折区域向所述柔性阵列基板的背离出光方向的一侧弯折。

根据本发明的另一个方面，提供了一种柔性阵列基板的制造方法，所述柔性阵列基板的一部分能够沿着弯折方向绕弯折区域弯折，所述制造方法包括：制备第一层；对所述第一层的表面进行处理，使得在所述弯折方向所在的截面上，所述第一层的表面在所述弯折区域处具有曲线的形状；在所述第一层的处理后表面上形成第二层，使得在所述弯折方向所在的截面上，所述第一层和所述第二层的界面在所述弯折区域处具有所述曲线的形状。

根据本发明的一个实施例，所述处理可以包括：在所述第一层的表面上涂覆光刻胶，对所述光刻胶进行曝光和显影，对暴露出来的第一层部分进行刻蚀，使得所述第一层在所述弯折方向所在的截面上的表面在所述弯折区域处具有曲线的形状。

根据本发明的一个进一步实施例，所述处理包括使用激光干涉光刻技术对所述光刻胶进行曝光。

根据本发明的柔性阵列基板、包括这种柔性阵列基板的显示装置和这种柔性阵列基板的制造方法，柔性阵列基板弯折时在弯折区域可能发生损坏的第一层(和/或第二层，以及/或者其中的功能结构)，因为同与其相邻接触的第二层(或第一层)一起形成了曲线形状的界面，所以增加了第一层(和第二层，以及/或者其中的功能结构)在弯折方向所在截面上在弯折区域的长度，使得第一层(和/或第二层)在弯折时，可以获得更大的延伸变形量，从而避免了第一层(和/或第二层，以及/或者其中的功能结构)的损坏，提高了柔性阵列基板的弯折性能，特别是在第一层(和/ 或第二层，以及/或者其中的功能结构)弯折性能较差时。

附图说明

本申请的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的部分实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。

图1A是根据本发明一个实施例的柔性阵列基板的弯折区域一部分的示意性俯视图。

图1B是沿图1A中A-A线截取的示意性剖面图。

图2A到图2D是根据本发明一个实施例的柔性阵列基板制造方法的过程示意图。

图3是根据本发明一个实施例的柔性阵列基板制造方法的流程图。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述本发明的示例性实施例。然而，本发明能够以多种形式实施，不应该被理解为仅限于说明书中具体描述的示例性实施例。本发明提供这些示例性实施例的目的仅仅是为了更加全面和完整地公开本发明，将本发明的构思全面地传达给本领域的技术人员。

本申请的附图仅仅是示意性的。附图中所示各结构或特征的大小被夸大了，而且不是按比例绘制的，目的是为了清楚解释本发明的原理。

附图中相同的附图标记表示相同或类似的部分，因而将省略对相同或类似部分的重复描述。

需要说明的是：在描述本申请公开的实施例时所使用的方位术语，例如“上”、“下”等，只是参考附图所示的方位而言，不代表真实使用环境下的方位。

另外，在本申请中，名词本身除非另有明确说明，不代表或者暗示具体数量，即既可以是一个，也可以是两个以上。数量词“多个”指的是两个以上。结合数量词使用的“以上”包含本数。

下面参照图1A-2D 描述本发明的技术构思。

图1A是根据本发明一个实施例的柔性阵列基板的弯折区域一部分的示意性俯视图。图1B是沿图1A中A-A线截取的示意性剖面图。

柔性阵列基板一般包括由例如聚酰亚胺等柔性材料制成的柔性衬底以及在柔性衬底上形成的功能层。本发明的柔性阵列基板可以应用于有机发光二极管(Organic LightEmitting Diode，OLED)显示装置、液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)、等离子显示装置(Plasma Display Panel，PDP)或者电子墨水显示装置等多种显示装置。例如，柔性阵列基板可以作为有机电致发光材料、液晶、等离子体或者电子墨水的载体和驱动单元，在功能层上面形成有机电致发光材料层、液晶层、等离子体层或者电子墨水层等显示层，从而制造出相应的显示装置。柔性阵列基板既可以在包括显示区域在内的各种位置进行弯折，因此可以用来制造柔性显示装置；也可以主要在非显示区域例如边缘处弯折，因此可以例如用来制造窄边显示装置。

功能层可以是一层，也可以包括多层。在本申请说明书中具体涉及的显示技术的背景下，术语“功能层”是指为了使例如有机电致发光层、液晶层、等离子体层或者电子墨水层等显示层实现显示功能而构建的各种层，例如驱动电路层、金属连线层、栅极层、栅介质层、源/漏极层、半导体材料层，等等。功能层可能包括各种功能结构，即为实现相应功能层的作用而具体设计的各种结构或特征，例如，绝缘部、金属连线、栅极、源极、漏极、p区、n区、沟道区，等等。功能层可以通过本领域技术人员公知的半导体制造工艺形成在衬底上，例如但不限于光刻、刻蚀、涂覆、溅射、气相淀积、掺杂，等等。

衬底、功能层、功能结构、显示层的功能、作用、材料、基本实现方式等，对本领域技术人员来说都是公知的，它们在本申请被提及的唯一目的是用来解释本发明的原理。本发明的实现与衬底、功能层、功能结构和显示层的具体种类和形式无关。为了不影响对本发明技术方案的理解，本申请不再对衬底、功能层、功能结构和显示层作进一步具体的描述。

同时，本领域技术人员应该清楚，本发明的柔性阵列基板也可能应用在显示技术领域外的其他技术领域。这时，功能层是指为实现其他目标功能所需要的各种层。

柔性阵列基板弯折时，其相对于弯曲曲率中心而言的外侧部分的材料受到拉应力。传统柔性阵列基板中，衬底与功能层之间的界面以及相邻功能层之间的界面，大体为平面，因此，该界面在弯折方向所在的截面上基本为直线的形状。如果外侧部分中的功能层或者某个功能层的材料，或者功能层或者某个功能层中的功能结构，其拉伸强度高或者不容易变形，那么，该功能层材料或功能结构在弯折区域就会产生很大的应力，可能导致该功能层或功能结构的破坏。例如，栅极层中的栅极有时用金属钼(Mo) 制造，与其接触的栅介质层可能是二氧化硅(SiO₂)或氮化硅(SiN)。栅极层与栅介质层相比，不容易变形。于是，在弯折时，Mo可能因受到拉力而从SiO₂或SiN剥离，甚至可能被拉断。

图1A和图1B所示的根据本发明一个实施例的柔性阵列基板可以解决上述问题。如图所示，根据本实施例的柔性阵列基板100包括弯折区域 140，柔性阵列基板100的位于弯折区域140左、右两侧(图1A中X方向)的部分(未示出)，能够沿着图1B中箭头B所示的弯折方向绕着弯折区域140弯折。因此，弯折方向B所在的平面大体垂直于柔性阵列基板100的一个延伸方向Y。

在本发明中，术语“弯折”表示使柔性阵列基板的一个部分相对另一个部分围绕这两个部分的结合区域发生相对转动。该结合区域被称为“弯折区域”。敬请注意，具体的相对转动角度，即弯折角度，对弯折本身没有限制作用。本领域技术人员可以根据具体应用场合确定对应的弯折角度。特别是，不应该将“弯折”限制为一个部分经弯折后贴合在另一个部分上。

如图1B所示，在弯折方向B所在的截面上，可以更为清楚地看到，柔性阵列基板100包括第一层110和形成在第一层110上的第二层1120。在柔性衬底110包括柔性衬底和功能层的情况下，第一层110可以是柔性衬底，第二层120可以是功能层。作为一种替换实施例，第一层110和第二层120可以都是功能层。

在图1B所示实施例中柔性阵列基板100沿弯折方向B弯折的情况下，第二层120受到拉伸，或者受到的拉伸应力大于第一层110，因此，第二层120的材料或者第二层120中的功能结构122在弯折方向B所在的截面上需要产生更大的延伸变形量。

下面，以主要保护第二层120和/或其中的功能结构122在弯折时不受破坏为例进行讨论。本领域技术人员应该理解，同样的结构或原理也可以用来保护第一层110和/或其中的功能结构，或者用来同时保护第二层和/或其中的功能结构以及第一层和/或其中的功能结构。

继续参见图1B。在弯折方向B所在的截面上，在第一层110和第二层120之间相互接触或结合的地方形成了一个接触面或结合面130，该接触面或结合面在本申请中被称为第一层110和第二层120的“界面”。

根据本发明，如图1B所示，第一层110和第二层120的界面130在弯折区域140处具有曲线132的形状。在本发明中，术语“曲线”是相对于直线而言的，只要不是直线，不论是否光滑，都属于“曲线”。

根据弯折所引起的变形范围，第一层110和第二层120的界面130也可以在弯折区域140之外的附近区域具有曲线的形状。

在图1B所示的实施例中，曲线132是由在第一层110的与第二层120 接触的表面上的凹槽134形成的，或者说，曲线132包括在第一层110的与第二层120接触的表面上形成的凹槽134。在图示实施例中，凹槽134 为圆弧形状。在一个替换实施例中，凹槽134可以由其他光滑曲线构成，例如可以为正弦曲线或抛物线等形状。在另一个替换实施例中，凹槽134可以由线段构成，例如可以为三角形、四边形等形状。在另一个实施例中，凹槽134可以由线段和光滑曲线的组合线型构成。

总的来说，本发明对界面曲线或者凹槽的具体形状没有限制，界面曲线或者凹槽可以是各种形状。本领域技术人员在实践过程中，可以根据具体工艺，选择合适的界面曲线或者凹槽形状。

在本实施例中，曲线132包括多个凹槽134，这些凹槽134可以具有相同的形状。作为一个替换方式，这些凹槽134可以具有不同的形状。作为另一个替换方式，曲线132可以只包括一个凹槽134。

应该注意，上述曲线或凹槽134的形状都是基于弯折方向B所在的截面讨论的。

根据本发明，第一层110和第二层120在弯折方向B所在截面上的界面130在弯折区域140处具有曲线132的形状或者包括凹槽134形式的曲线132，增加了界面130在弯折区域140处在弯折方向所在截面上的长度，因此，本发明的柔性阵列基板100在绕弯折区域140弯折时，与界面为直线的现有技术相比，第二层120可以获得更大的延伸变形量，使得第二层120能够更容易地延展，保护第二层120不因受到拉伸而损坏。

进一步，参见下面的一个示例性例子，其中，第一层110可以是栅介质层，材料例如为SiO₂或SiN，而第二层120可以是栅极层，其中包括作为功能结构的栅极122，其材料例如为Mo。在柔性阵列基板100沿弯折方向B弯折的情况下，上层中的Mo与下层中的材料SiO₂或SiN相比受到更大的拉伸应力。然而，因为Mo与SiO₂或SiN相比相比更加不容易变形，所以，Mo可能因受到拉力而从SiO₂或SiN剥离，甚至可能被拉断。

参见图1A，在弯折区域140，作为栅极层120的功能结构的栅极122 在弯折方向B所在的截面(A-A截面)上，或者在大体垂直于弯折区域 140的方向X上，沿着栅介质层(第一层)110和栅极层(第二层)120 之间界面130的整个曲线延伸。因为在本发明的实施例中，在弯折方向B 所在的截面上，栅极122在弯折区域140为曲线的形状，所以，与现有技术中栅极为直线的情况相比，本发明中的栅极122虽然强度没有改变，但是获得了更大的延伸变形量，因此防止了栅极122因受到拉力而从栅介质层剥离，甚至被拉断。

虽然在图1A所示的实施例中，功能结构(栅极)122在弯折方向B 所在的截面上在弯折区域140沿着栅介质层(第一层)110和栅极层(第二层)120之间界面130的整个曲线延伸，但是，本领域技术人员应该明白，在其他情形下，根据例如要保护的功能结构的材料特点和弯折角度等因素，可以部分地具有曲线的形状。因此，根据本发明，功能结构122在弯折区域140只需至少部分地沿着第一层110和第二层120之间界面130 的曲线延伸。

类似于上面针对曲线132所作的讨论，可以在栅极122和栅介质层 110之间的界面上形成一个以上的凹槽134，使得栅极122在弯折方向B 所在的截面上在弯折区域140可以包括一个以上的凹槽134。凹槽134可以具有与形成栅极122的具体工艺相适应的任何形状。

下面以在栅介质层上形成栅极层为例，描述根据本发明一个实施例的制造柔性阵列基板的方法。图2A到图2D是该柔性阵列基板制造方法的过程示意图。

图2A示意性地示出根据本实施例制备栅介质层的过程。例如，可以在包括源/漏区和沟道区的半导体材料层(图中未示出)上，使用PECVD 等沉积方法沉积出一层SiN。然后在这层SiN上涂覆光刻胶，并利用掩膜版对光刻胶进行曝光，接着进行显影和刻蚀，只保留在沟道区上与栅极相对应的SiN，从而形成栅介质层210，如图2A所示。栅介质层210具有上表面235。

在本发明中，可以应用本领域技术人员公知的淀积、光刻和刻蚀等半导体制作工艺。本发明对具体的工艺没有限制，所采用工艺的具体形式并非本发明实现所需的必要技术特征。因此，为了更加清楚的描述本发明内容，不再对本领域技术人员已经公知的技术内容作进一步的详细描述。

图2B和图2C示意性地示出根据本实施例对栅介质层210的上表面 235进行处理的过程。如图2B所示，在栅介质层210的上表面235上涂覆光刻胶236。然后，对光刻胶236进行曝光、显影，并对暴露出来的上表面235的部分进行蚀刻，使得在弯折方向B(见图1B)所在的截面上，上表面235在对应弯折区域140(见图1A)的部分上形成多个凹槽234，如图2C所示。上表面235经处理后，成为栅介质层210的处理后表面238。

栅介质层210的处理后表面238可以不限于弯折区域，而是还可以延伸到弯折区域附近的区域。

虽然图2C所示的处理后表面238在弯折方向所在的截面上在弯折区域呈现为由直线段和凹槽所构成的形状，但是，本发明对处理后表面238 在弯折方向所在的截面上在弯折区域呈现的具体形状没有限制，只要是非直线的曲线即可，可以是光滑的曲线，也可以是非光滑的曲线。而凹槽 234也可以是各种形状，可以由光滑曲线构成，例如可以为圆弧、正弦曲线或抛物线等形状；或者，可以由线段构成，例如可以为三角形、四边形等形状；或者，可以由线段和光滑曲线的组合线型构成。

另外，栅极尺寸一般很小。因此，为了使得后续形成的栅极能够至少沿着部分曲线延伸或者包括至少部分曲线，特别是包括一个以上凹槽，优选的是凹槽尺寸和/或凹槽间隔尽可能小。为此，上述处理过程中的光刻工艺可以采用激光干涉光刻技术。通过这种光刻技术，可以形成一定阵列排布的圆形，图形间距d可由激光的波长和激光照射角度决定：

其中，d为曝光图形间距，λ为激光波长，θ₁、θ₂分别是两干涉激光与法线的角度。激光干涉光刻技术的一个优点是可以形成尺寸更小的图形，因此可以用在本发明中形成栅极层和栅介质层之间的曲线形状。

图2D示意性地示出根据本实施例在栅介质层210上形成栅极层220 的过程。例如，可以在材料为SiN的栅介质层210的处理后表面238上，溅射出Mo材料层。然后，在Mo材料层上涂覆光刻胶，并进行光刻和显影，刻蚀掉不需要的Mo材料，形成位于栅介质上的栅极，从而形成了栅极层220。栅极层220与栅介质层210在处理后表面238处相接触，形成了栅极层220和栅介质层210的界面230。

在弯折方向B(参见图1B)所在的截面上，栅极232在弯折区域140 (参见图1A)处，可以至少部分地沿着栅极层220和栅介质层210的界面230延伸，因此可以包括一个以上凹槽234。于是，根据本发明形成的栅极232与传统技术中直线形式的栅极相比，可以获得更大的延伸变形量，避免了栅极由Mo等难变形金属形成时因弯折造成的破坏。

上面以举例的方式说明了根据本发明一个实施例制作第一层和第二层都是功能层的柔性阵列基板的方法。本发明的柔性阵列基板制造方法同样适用于制作第一层为衬底、第二层为功能层的柔性阵列基板。在这种情况下，本发明的柔性阵列基板制造方法包括如下的步骤。

首先，用例如聚酰亚胺等柔性材料制备柔性衬底。然后，对柔性衬底的表面进行例如光刻和刻蚀处理，使得在弯折方向所在的截面上，柔性衬底的表面在弯折区域处具有曲线的形状。最后，在柔性衬底的处理后表面上通过涂覆、溅射、气相沉积等淀积工艺形成功能层，功能层可以包括相应的功能结构，使得在柔性衬底和功能层在弯折方向所在的截面上，在所述弯折区域处形成具有曲线形状的界面，并使得功能结构至少部分地沿着界面中的曲线延伸。

图3是示出了在一个根据本发明的更一般的实施例中，柔性阵列基板制造方法的流程图。如图3所示，对于一部分能够沿着弯折方向绕弯折区域弯折的柔性阵列基板，根据本发明的柔性阵列基板制造方法包括：

步骤S210：制备第一层；

步骤S220：对所述第一层的表面进行处理，使得在所述弯折方向所在的截面上，所述第一层的表面在所述弯折区域处具有曲线的形状；

步骤S230：在所述第一层的处理后表面上形成第二层，使得在所述弯折方向所在的截面上，所述第一层和所述第二层的界面在所述弯折区域处具有所述曲线的形状。

本领域技术人员在阅读了本发明的上述教导之后，可以理解，通过在柔性阵列基板中，使得其所包括的第一层和第二层的界面在弯折方向所在的截面上在所述弯折区域处具有曲线的形状，不仅可以如上所述那样当柔性阵列基板沿图1B所示的弯折方向B弯折时，防止第二层因弯折受到破坏；而且，也可以在柔性阵列基板沿与图1B所示的弯折方向B相反的弯折方向弯折时，防止第一层因弯折受到破坏。在后一种情形中，为了进一步保护第一层中的功能结构，可以在在弯折方向所在的截面上，同样使第一层的功能结构在弯折区域至少部分地沿第一层和第二层的具有曲线形状的界面延伸。

作为本发明柔性阵列基板的一个应用，可以在实现显示驱动功能的功能层上形成有机电致发光材料层、液晶层、等离子体层或者电子墨水层等显示层，制造出相应的显示装置，因此能够增强显示装置在期望弯折区域处的弯折功能，或者在柔性阵列基板边缘处的结构不受破坏的情况下容易地将非显示区域弯折到显示区域不出光的一侧下面。

上面以举例的方式对本发明的具体实施例进行了描述。但是，本领域技术人员应该理解，上面所所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多个实施例中。上述描述中，提供许多具体细节的目的是为了对本申请公开的实施例进行充分理解。本领域技术人员将意识到，可以在省略一个以上具体细节的情况下实施本申请公开的技术方案，或者实施本申请公开的技术方案可以采用其它的方法、组元、装置、步骤等。

最后应说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制本发明的范围。尽管参照一些具体实施例子对本发明进行了详细说明，但是，本领域技术人员应当理解，按照需要可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本申请中未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由权利要求指出。

Claims (3)

1.一种柔性阵列基板，所述柔性阵列基板的一部分能够沿着弯折方向绕弯折区域弯折，所述柔性阵列基板至少包括栅介质层和形成在所述栅介质层上的栅极层，其中，

在所述弯折方向所在的截面上，所述栅介质层和所述栅极层的界面在所述弯折区域处具有曲线的形状；

所述栅极层在所述弯折方向所在的截面上至少部分地沿着所述曲线延伸；

所述曲线包括在所述栅介质层的与所述栅极层接触的表面上形成的凹槽，所述凹槽为圆弧形状，所述凹槽通过激光干涉光刻形成，所述凹槽间距d由激光的波长和激光照射角度决定：

其中，d为所述凹槽间距，λ为激光波长，θ1、θ2分别是两干涉激光与法线的角度。

2.一种显示装置，其包括如权利要求1所述的柔性阵列基板。

3.一种柔性阵列基板的制造方法，所述柔性阵列基板的一部分能够沿着弯折方向绕弯折区域弯折，所述制造方法包括：

制备栅介质层；

对所述栅介质层的表面进行激光干涉光刻处理，使得在所述弯折区域处所述栅介质层的表面形成阵列排布的凹槽，所述凹槽间距d由激光的波长和激光照射角度决定：

其中，d为所述凹槽间距，λ为激光波长，θ1、θ2分别是两干涉激光与法线的角度；所述凹槽为圆弧形状，所述凹槽在所述弯折方向所在的截面上形成曲线的形状；

在所述栅介质层的处理后表面上形成栅极层，使得在所述弯折方向所在的截面上，所述栅介质层和所述栅极层的界面在所述弯折区域处具有所述曲线的形状；

其中，所述栅极层在所述弯折方向所在的截面上至少部分地沿着所述曲线延伸。

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