CN108436744A - 一种电场不断变化的液态金属抛光装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种电场不断变化的液态金属抛光装置，包括操作台、固定装置、叶片、第一永磁体、多个电极片、第二永磁体、液态金属抛光液、抛光腔体、抛光容器、支撑架和工作平台；所述抛光容器的内壁贴有多个电极片且每个电极片均与操作台连接并受到控制台的独立控制，多个电极片呈圆周排布在抛光容器的内壁上，电极片的高度设置在叶片的最低点与最高点之间；本发明采用抛光装置的内壁面安装多块电极片，呈圆周排布，操作台每次控制一对相对的电极片一个为正电极，一个为负电极，并按一个方向旋转，转无序的电场造成液态金属在抛光槽内做旋转、湍流运动，进而造成液态金属抛光液中携带的磨粒对叶片抛光区进行无序的撞击，以达到抛光的目的。

Description

一种电场不断变化的液态金属抛光装置
技术领域
本发明涉及液态金属抛光技术领域，更具体的说，尤其涉及一种电场不断变化的液态金属抛光装置。
背景技术
液态金属通常是指在常温下呈液态的合金功能材料，如熔点在30℃以下的金属及其合金材料，也包括在40℃～300℃工作温区内呈液态的低熔点合金材料。液态金属抛光液抛光技术指当混有磨料的液态金属抛光液在磁场的作用下与工件抛光表面发生相对运动时，液态金属抛光液丝带上的柔性磨头对抛光表面产生大的切削力，从而对工件抛光表面进行抛光。
对于复杂曲面的加工，例如对叶片进行加工，无法使用传统的抛光来进行，因此，类似磨粒流加工和液态金属加工的方法应运而生，然而，单纯的液态金属抛光或磨粒流加工的效率较低，且加工质量也有着一定的局限性，且对工人自身的技艺依赖性很强，且生产效率低、加工周期长、易使表面产生破坏层和变质层，加工质量不容易得到保证，对加工的表面有很大的影响。
发明内容
本发明的目的在于解决现有的技术单纯利用磨粒流抛光或单纯利用液态金属进行抛光导致的加工效率低、技艺依赖性强、加工周期长的问题，提出了一种电场不断变化的液态金属抛光装置。
本发明通过以下技术方案来实现上述目的：一种电场不断变化的液态金属抛光装置，包括操作台、固定装置、叶片、第一永磁体、多个电极片、第二永磁体、液态金属抛光液、抛光腔体、抛光容器、支撑架和工作平台；所述操作台和支撑架均安装在工作平台上，抛光容器固定在支撑架上，抛光容器内部设置有容纳液态金属抛光液的抛光腔体，抛光腔体的上下两端分别安装有第一永磁体和第二永磁体，且第一永磁体和第二永磁体均水平平行设置，第一永磁体和第二永磁体相靠近的两个面的磁极相反；所述叶片的上端固定在固定装置上，固定装置固定在抛光腔体上端的第一永磁体的底面上，叶片整体浸没在抛光腔体的液态金属抛光液中；所述抛光容器的内壁贴有多个电极片且每个电极片均与操作台连接并受到操作台的独立控制，多个电极片呈圆周排布在抛光容器的内壁上，电极片的高度设置在叶片的最低点与最高点之间。
进一步的，所述液态金属抛光液为包含有磨粒的液态金属抛光液。
进一步的，所述液态金属抛光液中的液态金属为镓离子、铷离子、铯离子中的一种或几种的化合物。所述液态金属通常是指在常温下呈液态的合金功能材料，如熔点在30℃以下的金属及其合金材料，也包括在40℃～300℃工作温区内呈液态的低熔点合金材料，并混有磨粒。
进一步的，所述电极片的数量为偶数，且相对的一组电极片构成共同工作的一组，操作台控制每次控制一组相对的电极片通电，一组电极片共同工作时一个为正电极，一个为负电极，一组电极片在持续通电时间内形成简谐波电场。
操作台通过控制不同的电极片工作以及每个电极片的电流频率或电压频率来改变每组电极片产生的电场的状态。由于通电的电极片一直会变化，从而在抛光容器内部产生旋转、无序电场，利用这旋转无序电场可以使得液态金属抛光液带动磨粒进行无序运动，进而对叶片上的抛光区进行无序撞击，从而达到抛光的目的。
本发明的有益效果在于：
1.本发明通过抛光金属液中的金属离子对工件进行抛光，金属抛光液可以抛光更加细微的表面，获得的抛光精度更高。
2.本发明通过混有磨粒的液态金属抛光液对叶片进行抛光，液态金属离子在电场和磁场的作用下进行运动，进而带动液态金属抛光液中的磨粒的运动，通过磨粒对叶片表面进行加工，提高了加工效率。
3.本发明采用抛光装置的内壁面安装多块电极片，呈圆周排布，操作台每次控制一对相对的电极片一个为正电极，一个为负电极，并按一个方向旋转，转无序的电场造成液态金属在抛光槽内做旋转、湍流运动，进而造成液态金属抛光液中携带的磨粒对叶片抛光区进行无序的撞击，以达到抛光的目的。
4.本发明无需特定的机械对工件进行抛光，而是采用电场和磁场对液态金属抛光液的直接控制，控制方式简单，且整体结构简单，容易维护。
5.本发明通过正电极和负电极形成电场，两块电磁铁形成磁场，电场和磁场控制相结合，能够实现曲面任意角度的无死角抛光。
附图说明
图1是本发明一种电场不断变化的液态金属抛光装置的轴测图。
图2是本发明一种电场不断变化的液态金属抛光装置的局部剖视结构示意图。
图中，，1-支撑架、2-电极片、3-第一永磁体、4-固定装置、5-叶片、6-抛光容器、7-抛光腔体、8-工作平台、9--第二永磁体、10-操作台。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步说明：
如图1和图2所示，一种电场不断变化的液态金属抛光装置，包括操作台10、固定装置4、叶片5、第一永磁体3、多个电极片2、第二永磁体9、液态金属抛光液、抛光腔体7、抛光容器6、支撑架1和工作平台8；所述操作台10和支撑架1均安装在工作平台8上，抛光容器6固定在支撑架1上，抛光容器6内部设置有容纳液态金属抛光液的抛光腔体7，抛光腔体7的上下两端分别安装有第一永磁体3和第二永磁体9，且第一永磁体3和第二永磁体9均水平平行设置，第一永磁体3和第二永磁体9相靠近的两个面的磁极相反；所述叶片5的上端固定在固定装置4上，固定装置4固定在抛光腔体7上端的第一永磁体3的底面上，叶片5整体浸没在抛光腔体7的液态金属抛光液中；所述抛光容器6的内壁贴有多个电极片2且每个电极片2均与操作台10连接并受到操作台的独立控制，多个电极片2呈圆周排布在抛光容器6的内壁上，电极片2的高度设置在叶片5的最低点与最高点之间。
所述液态金属抛光液为包含有磨粒的液态金属抛光液。所述液态金属抛光液中的液态金属为镓离子、铷离子、铯离子中的一种或几种的化合物。
所述电极片2的数量为偶数，且相对的一组电极片2构成共同工作的一组，操作台控制每次控制一组相对的电极片2通电，一组电极片2共同工作时一个为正电极，一个为负电极，一组电极片2在持续通电时间内形成简谐波电场。
上述实施例只是本发明的较佳实施例，并不是对本发明技术方案的限制，只要是不经过创造性劳动即可在上述实施例的基础上实现的技术方案，均应视为落入本发明专利的权利保护范围内。

Claims (4)

1.一种电场不断变化的液态金属抛光装置，其特征在于：包括操作台(10)、固定装置(4)、叶片(5)、第一永磁体(3)、多个电极片(2)、第二永磁体(9)、液态金属抛光液、抛光腔体(7)、抛光容器(6)、支撑架(1)和工作平台(8)；所述操作台(10)和支撑架(1)均安装在工作平台(8)上，抛光容器(6)固定在支撑架(1)上，抛光容器(6)内部设置有容纳液态金属抛光液的抛光腔体(7)，抛光腔体(7)的上下两端分别安装有第一永磁体(3)和第二永磁体(9)，且第一永磁体(3)和第二永磁体(9)均水平平行设置，第一永磁体(3)和第二永磁体(9)相靠近的两个面的磁极相反；所述叶片(5)的上端固定在固定装置(4)上，固定装置(4)固定在抛光腔体(7)上端的第一永磁体(3)的底面上，叶片(5)整体浸没在抛光腔体(7)的液态金属抛光液中；所述抛光容器(6)的内壁贴有多个电极片(2)且每个电极片(2)均与操作台(10)连接并受到操作台的独立控制，多个电极片(2)呈圆周排布在抛光容器(6)的内壁上，电极片(2)的高度设置在叶片(5)的最低点与最高点之间。
2.根据权利要求1所述的一种电场不断变化的液态金属抛光装置，其特征在于：所述液态金属抛光液为包含有磨粒的液态金属抛光液。
3.根据权利要求2所述的一种电场不断变化的液态金属抛光装置，其特征在于：所述液态金属抛光液中的液态金属为镓离子、铷离子、铯离子中的一种或几种的化合物。
4.根据权利要求3所述的一种电场不断变化的液态金属抛光装置，其特征在于：所述电极片(2)的数量为偶数，且相对的一组电极片(2)构成共同工作的一组，操作台控制每次控制一组相对的电极片(2)通电，一组电极片(2)共同工作时一个为正电极，一个为负电极，一组电极片(2)在持续通电时间内形成简谐波电场。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116276607A (zh) * 2023-05-04 2023-06-23 浙江湖磨抛光磨具制造有限公司 一种曲轴抛光设备

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4001111A1 (de) * 1990-01-17 1991-07-18 Thilo Frederking Verfahren und vorrichtung zur oberflaechenbehandlung von formteilen
JPH0871914A (ja) * 1994-06-29 1996-03-19 Shimizu Eisuke 非磁性体研磨方法および装置
CN201120584Y (zh) * 2007-04-30 2008-09-24 大连隆正光饰机制造有限公司 磁石回转式抛光机
CN203282283U (zh) * 2013-05-29 2013-11-13 浙江工业大学 基于介电泳效应的抛光设备
CN103551925A (zh) * 2013-09-13 2014-02-05 北京理工大学 一种叶片电极正负交替式电流变抛光装置
CN105522445A (zh) * 2015-12-04 2016-04-27 岭南师范学院 一种在线抛光微细工具的装置及方法
US20160375538A1 (en) * 2015-06-24 2016-12-29 Rolls-Royce Plc Polishing of complex internal geometries
CN206010641U (zh) * 2015-12-04 2017-03-15 岭南师范学院 一种在线抛光微细工具的装置
CN106602839A (zh) * 2015-10-20 2017-04-26 中国科学院理化技术研究所 一种双流体发电装置
CN208375015U (zh) * 2018-05-21 2019-01-15 浙江工业大学 电场不断变化的液态金属抛光装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4001111A1 (de) * 1990-01-17 1991-07-18 Thilo Frederking Verfahren und vorrichtung zur oberflaechenbehandlung von formteilen
JPH0871914A (ja) * 1994-06-29 1996-03-19 Shimizu Eisuke 非磁性体研磨方法および装置
CN201120584Y (zh) * 2007-04-30 2008-09-24 大连隆正光饰机制造有限公司 磁石回转式抛光机
CN203282283U (zh) * 2013-05-29 2013-11-13 浙江工业大学 基于介电泳效应的抛光设备
CN103551925A (zh) * 2013-09-13 2014-02-05 北京理工大学 一种叶片电极正负交替式电流变抛光装置
US20160375538A1 (en) * 2015-06-24 2016-12-29 Rolls-Royce Plc Polishing of complex internal geometries
CN106602839A (zh) * 2015-10-20 2017-04-26 中国科学院理化技术研究所 一种双流体发电装置
CN105522445A (zh) * 2015-12-04 2016-04-27 岭南师范学院 一种在线抛光微细工具的装置及方法
CN206010641U (zh) * 2015-12-04 2017-03-15 岭南师范学院 一种在线抛光微细工具的装置
CN208375015U (zh) * 2018-05-21 2019-01-15 浙江工业大学 电场不断变化的液态金属抛光装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116276607A (zh) * 2023-05-04 2023-06-23 浙江湖磨抛光磨具制造有限公司 一种曲轴抛光设备
CN116276607B (zh) * 2023-05-04 2024-05-10 浙江湖磨抛光磨具制造有限公司 一种曲轴抛光设备

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