CN108427226A - 一种显示基板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示基板及显示装置，通过在黑矩阵外围区域的周边区域中设置环形的遮光层，以通过遮光层遮挡透过空白区域的光线，从而可以改善显示面板的白边亮线的问题。并且，在遮光层接触外界带电体而引入静电时，由于黑矩阵与遮光层间隔设置，即黑矩阵与遮光层之间未接触而相互绝缘，从而可以避免静电传入黑矩阵中，进而避免显示区域异常，提高产品的显示品质。

Description

一种显示基板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板及显示装置。

背景技术

液晶显示面板(Liquid Crystal Display，LCD)一般具有显示区域和包围显示区域的周边区域；其中，在显示区域和周边区域中设置有用于遮挡光线的黑矩阵(BlackMatrix)。然而，由于形成黑矩阵的材料具有一定的导电性能，使得黑矩阵在接触外界带电体(例如切割工具、人体)时会引入静电，在黑矩阵带电后会导致液晶层具有其他电场分量，从而对液晶偏转造成不利影响，进而导致显示区域异常，影响产品的显示品质。

发明内容

本发明实施例提供一种显示基板及显示装置，用以解决现有技术中由于黑矩阵引入静电导致的显示区域异常的问题。

因此，本发明实施例提供了一种显示基板，包括：显示区域、包围所述显示区域的周边区域，以及位于所述周边区域的黑矩阵，所述显示基板还包括：位于所述周边区域且环形设置于所述黑矩阵外围区域的遮光层；所述黑矩阵与所述遮光层间隔设置。

可选地，在本发明实施例提供的显示基板中，所述遮光层包括：多个间隔设置的遮光结构。

可选地，在本发明实施例提供的显示基板中，在沿第一方向上，所述遮光结构之间的第一间隙错位排列；和/或，

在沿第二方向上，所述遮光结构之间的第二间隙错位排列，所述第一方向和所述第二方向不同。

可选地，在本发明实施例提供的显示基板中，各所述遮光结构包括：多个间隔设置的第一子遮光结构；同一所述遮光结构中，至少部分第一子遮光结构的图案不同。

可选地，在本发明实施例提供的显示基板中，沿所述显示基板的显示区域指向边缘的方向，所述第一子遮光结构在所述显示基板上所占的面积依次减小。

可选地，在本发明实施例提供的显示基板中，至少部分所述遮光结构的图案相同。

可选地，在本发明实施例提供的显示基板中，各所述遮光结构的图案相同。

可选地，在本发明实施例提供的显示基板中，每一所述遮光结构环形设置于所述黑矩阵外围区域。

可选地，在本发明实施例提供的显示基板中，各所述遮光结构包括多个间隔设置的第二子遮光结构；其中，

每一圈所述遮光结构中相邻两个第二子遮光结构之间的第三间隙与相邻圈遮光结构中的第二子遮光结构相对设置。

可选地，在本发明实施例提供的显示基板中，沿所述显示基板的显示区域指向边缘的方向，所述第二子遮光结构在所述显示基板上所占的面积依次减小。

可选地，在本发明实施例提供的显示基板中，属于同一圈所述遮光结构的第二子遮光结构的图案相同。

可选地，在本发明实施例提供的显示基板中，在各所述遮光结构包括多个间隔设置的第一子遮光结构时，所述第一子遮光结构的图案包括：圆形、矩形、多边形以及马赛克形中之一或组合；

在各所述遮光结构包括多个间隔设置的第二子遮光结构时，所述第二子遮光结构的图案包括：圆形、矩形、多边形以及马赛克形中之一或组合。

可选地，在本发明实施例提供的显示基板中，所述黑矩阵在背离所述显示区域的一侧具有间隔排列的多个内凹结构。

可选地，在本发明实施例提供的显示基板中，沿所述内凹结构的底端指向开口端的方向，所述内凹结构的两侧中的至少一侧呈阶梯式向所述遮光层延伸。

相应地，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示基板。

本发明有益效果如下：

本发明实施例提供的显示基板及显示装置，通过在黑矩阵外围区域的周边区域中设置环形的遮光层，以通过遮光层遮挡透过空白区域的光线，从而可以改善显示面板的白边亮线的问题。并且，在遮光层接触外界带电体而引入静电时，由于黑矩阵与遮光层间隔设置，即黑矩阵与遮光层之间未接触而相互绝缘，从而可以避免静电传入黑矩阵中，进而避免显示区域异常，提高产品的显示品质。

附图说明

图1为相关技术中的阵列基板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的显示基板的结构示意图之一；

图3为本发明实施例提供的显示基板的结构示意图之二；

图4为图2所示的显示基板的局部结构示意图之一；

图5为图2所示的显示基板的局部结构示意图之二；

图6为图3所示的显示基板的局部结构示意图。

具体实施方式

LCD一般包括相对设置的阵列基板和对向基板，以及位于阵列基板和对向基板之间的液晶层。黑矩阵可以设置于阵列基板面向液晶层的一侧，黑矩阵也可以设置于对向基板面向液晶层的一侧。下面以黑矩阵设置于阵列基板面向液晶层的一侧为例进行说明。如图1所示，阵列基板具有显示区域AA、包围显示区域AA的周边区域BB。其中，显示区域AA中一般设置多个像素区域PX，显示区域AA和周边区域BB中均设置有黑矩阵110，显示区域AA中的黑矩阵110为网格状结构，用于遮挡透过像素单元PX之间的间隙的光线。周边区域BB中的黑矩阵110一般为一整块设计，用于遮挡透过周边区域BB的光线。一般显示区域AA和周边区域BB中的黑矩阵110采用一体结构形式设置在衬底基板100上。

然而，由于形成黑矩阵的材料一般具有一定的导电特性，其具有低阻特性，使得黑矩阵在接触外界带电体(例如切割工具、人体)时会引入静电，在黑矩阵带电后会使液晶层具有其他电场分量，从而对液晶偏转造成不利影响，进而导致显示区域异常。并且，在工艺制备阵列基板时，一般是在面积较大的衬底基板母板上形成多个基板区域，并在各个基板区域中形成阵列基板所需的膜层，之后再通过切割(Cutting)工艺沿衬底基板母板上的切割线进行切割，以使基板区域形成独立的阵列基板。若黑矩阵覆盖到切割线时，由于切割设备与黑矩阵接触，也会导致黑矩阵引入静电。为了改善由于黑矩阵引入静电导致的显示区域异常的问题，可以将黑矩阵的材料设置为具有高阻特性的材料，但是高阻特性的材料相对于低阻特性的材料，其工艺制程的成本普遍偏高，一般大约偏高30％以上，从而不利于降低成本。因此，基于引入静电和成本的考虑，通常在黑矩阵110边缘与衬底基板100边缘之间保留空白区域cc，即黑矩阵110边缘与切割线之间具有空白区域cc。为了有效的避免引入静电，空白区域cc的宽度需要设置大约200μm。在采用该阵列基板形成的显示面板搭配背光源时，显示面板的边缘会出现漏光。这样在人眼观看时，显示面板的边缘会出现白边亮线，影响客户体验。

有鉴于此，本发明实施例提供了一种显示基板，通过设置与黑矩阵间隔的遮光层，可以避免引入静电以及降低白边亮线，改善显示效果。

为了使本发明的目的，技术方案和优点更加清楚，下面结合附图，对本发明实施例提供的显示基板及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。应当理解，下面所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。并且在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。并且附图中各层薄膜厚度、大小和形状均不反映显示基板的真实比例，目的只是示意说明本发明内容。

本发明实施例提供的显示基板，如图2与图3所示，可以包括：显示区域AA、包围显示区域AA的周边区域BB，位于周边区域BB的黑矩阵110，以及位于周边区域BB且环形设置于黑矩阵110外围区域的遮光层120。并且黑矩阵110与遮光层120间隔设置，即黑矩阵110与遮光层120之间具有间隔间隙b0。

本发明实施例提供的显示基板，通过在黑矩阵外围区域的周边区域中设置环形的遮光层，即在图1所示的空白区域cc中设置遮光层，以通过遮光层遮挡透过空白区域的光线，从而可以改善显示面板的白边亮线的问题。并且，在遮光层接触外界带电体而引入静电时，由于黑矩阵与遮光层间隔设置，即黑矩阵与遮光层之间未接触而相互绝缘，从而可以避免静电传入黑矩阵中，进而避免显示区域异常，提高产品的显示品质。

需要说明的是，本发明实施例中的黑矩阵外围区域即为图1中的空白区域cc。一般，为了有效改善白边亮线，可以使间隔间隙尽可能的小，一般可以为工艺能达到的极限值，例如可以为10μm。在具体实施时，为了遮光可以使遮光层采用一整面形式覆盖在黑矩阵外围区域的衬底基板上。然而由于间隔间隙的存在，从黑矩阵向遮光层进行过渡时，可能由于明暗对比度的因素，可能会使人眼觉察到间隔间隙产生的亮线。因此，可以将遮光层分割为独立的分离式的个体，以降低明暗对比度的影响，改善间隔间隙产生的亮线的影响。具体地，在具体实施时，如图2与图3所示，遮光层120可以包括：多个间隔设置的遮光结构121。由于遮光结构121之间具有间隙，为了有效防止漏光，因此可以使遮光结构121的覆盖率设置为70％～90％，或者更高，即遮光结构121之间的间隙的口开率可以设置为10％～30％，或者更低。当然，在实际应用中，不同显示基板应用的环境不同，其对周边亮线的要求也不同，因此可以根据实际应用来设计遮光结构121之间的间隙的覆盖率。

一般将各个膜层设置在衬底基板上，以形成阵列基板或对向基板。在具体实施时，在本发明实施例中，黑矩阵和遮光层设置于衬底基板上。具体地，该衬底基板可以为玻璃基板、柔性基板、硅基板等，在此不作限定。

在具体实施时，在本发明实施例中，如图2所示，显示基板可以应用于LCD中。具体地，显示基板可以为阵列基板；或者，也可以为彩膜基板，在此不作限定。下面均以显示基板为阵列基板为例进行说明。

下面结合具体实施例，对本发明进行详细说明。需要说明的是，下述实施例中是为了更好的解释本发明，但不限制本发明。

实施例一、

在具体实施时，在本发明实施例中，如图2与图4所示，遮光层120可以包括：多个间隔设置的遮光结构121。这样将遮光层120设置为多个相互独立的遮光结构121，相邻的两个遮光结构121之间具有间隙，从而可以使由黑矩阵110的边缘至衬底基板的边缘的亮度变化柔和。并且，在工艺制备进行切割时，若黑矩阵直接覆盖切割线，可能会存在黑矩阵破裂、掉落并导致破片的风险，本发明通过将遮光层120分割为多个遮光结构121，在切割时，若某个遮光结构121破裂、掉落，与其间隔设置的遮光结构121可以不受其影响，从而可以改善产品品质。

进一步地，为了使亮度变化更加柔和，在具体实施时，在本发明实施例中，在沿第一方向上，可以使遮光结构之间的第一间隙错位排列。或者，在沿第二方向上，也可以使遮光结构之间的第二间隙错位排列，其中，第一方向和第二方向不同。具体地，第一方向可以为行方向，第二方向可以为列方向。例如，如图4所示，在沿行方向上，可以使遮光结构121之间的第一间隙131_1、131_2错位排列。这样可以使通过第一间隙131_1与131_2透出的光错位出射，而不是在一条直线上，从而使亮度变化更加柔和。例如，第一间隙131_1沿直线S1延伸，而第一间隙131_2沿直线S2延伸，以使第一间隙131_1与131_2不共线，从而使亮度变化更加柔和。在沿列方向上，可以使遮光结构121之间的第二间隙132_1、132_2错位排列。这样可以使通过第二间隙132_1与132_2透出的光错位出射，而不是在一条直线上，从而使亮度变化更加柔和。例如，第二间隙132_1沿直线S3延伸，而第二间隙132_2沿直线S4延伸，以使第二间隙132_1与132_2不共线，从而使亮度变化更加柔和。当然，第一方向也可以为列方向，第二方向也可以为行方向，第一间隙错位排列和第二间隙错位排列的具体实施方式可以参见图4，在此不作赘述。

进一步地，为了使亮度变化更加柔和，在具体实施时，在本发明实施例中，在沿第一方向上，遮光结构之间的第一间隙错位排列，并且在沿第二方向上，遮光结构之间的第二间隙也错位排列。例如，如图4所示，在沿行方向上，可以使遮光结构121之间的第一间隙131_1、131_2错位排列。并且，在沿列方向上，可以使遮光结构121之间的第二间隙132_1、132_2错位排列。

在具体实施时，各遮光结构的图案可以设置为不同图案。然而，在工艺制备过程中，一般采用光刻工艺制备遮光结构，其中会采用掩模板进行构图。若各遮光结构的图案设置为不同图案，则制备用于构图的掩模板的难度将会加大。因此，为了降低制备掩模板的难度，如图2与图4所示，可以使至少部分遮光结构121的图案相同。具体地，可以使部分遮光结构的图案相同，部分遮光结构的图案不同。或者，也可以使各个遮光结构的图案相同。这样可以周期性重复的设置遮光结构121的图案，其对应的掩模板中的图案也是通过周期重复形成的，从而降低制备掩模板的难度。

进一步地，为了使亮度变化更加柔和，可以将遮光结构进一步分割。在具体实施时，在本发明实施例中，如图5所示，各遮光结构121可以包括：多个间隔设置的第一子遮光结构1211；并且，至少部分第一子遮光结构1211的图案不同。具体地，可以使同一遮光结构121中的部分第一子遮光结构1211的图案不同，部分第一子遮光结构1211的图案相同。或者，也可以使同一遮光结构中的各个第一子遮光结构的图案相同，这需要根据实际应用来设计确定，在此不作限定。

进一步地，为了降低制备掩模板的难度，如图5所示，可以使至少部分遮光结构121中的第一子遮光结构1211的图案相同。具体地，将每一个遮光结构中的所有第一子遮光结构的图案作为一个整体，可以使部分遮光结构中第一子遮光结构的图案相同，部分遮光结构中第一子遮光结构的图案不同。或者，也可以使各个遮光结构中第一子遮光结构的图案相同。这样可以周期性重复的设置遮光结构中第一子遮光结构的图案，其对应的掩模板中的图案也是通过周期重复形成的，从而降低制备掩模板的难度。

进一步地，为了使亮度变化更加柔和，如图5所示，沿显示基板的显示区域指向边缘的方向F1，可以使第一子遮光结构1211在显示基板上所占的面积依次减小。这样将第一子遮光结构1211的面积变小，可以使亮度形成渐变的效果，从而可以使亮度变化更加柔和。

进一步地，为了使亮度变化更加柔和，在具体实施时，在本发明实施例中，如图4所示，黑矩阵110在背离显示区域的一侧具有间隔排列的多个内凹结构140。这样可以使黑矩阵110在背离显示区域的一侧具有凹陷也有凸起，从而使这一侧不在一条直线上，进而可以使光线从黑矩阵均匀过渡到遮光层。具体地，该内凹结构140可以均匀排列，即相邻两个内凹结构140之间的间距相同。这样可以使黑矩阵110在背离显示区域的一侧形成规则的锯齿状结构。当然，该内凹结构140也可以不均匀排列，这需要根据实际应用环境来设计确定，在此不作限定。并且，内凹结构的深度和宽度需要根据实际应用来设计确定，在此不作限定。

进一步地，为了使亮度变化更加柔和，在具体实施时，在本发明实施例中，如图5所示，沿内凹结构140的底端指向开口端的方向，内凹结构140的两侧中的至少一侧呈阶梯式向遮光层延伸。其中，内凹结构140的一侧指的是由内凹结构140的底端延伸到其开口端的一个侧边。具体地，如图5所示，可以使内凹结构140的两侧均呈阶梯式向遮光结构121延伸。当然，也可以使内凹结构的一侧呈阶梯式向遮光结构121延伸，在此不作限定。

在具体实施时，在本发明实施例中，第一子遮光结构的图案可以包括：圆形、矩形、多边形以及马赛克形中之一或组合。如图5所示，以第一子遮光结构1211的图案具有矩形与马赛克形为例进行说明。在实际应用中，第一子遮光结构的图案需要根据实际应用来设计确定，在此不作限定。

在具体实施时，在本发明实施例中，可以使遮光层与黑矩阵同层且同材料设置。这样在制备遮光层时，只需在形成黑矩阵的图形时改变原有的构图图形，即可通过一次构图工艺同时形成遮光层和黑矩阵的图形，从而不用增加单独制备遮光层的工艺，可以简化制备工艺流程，节省生产成本，提供生产效率。

需要说明的是，“同层”指的是采用同一成膜工艺形成用于形成特定图形的膜层，然后利用同一掩模板通过一次构图工艺形成的层结构。根据特定图形的不同，一次构图工艺可能包括多次曝光、显影或刻蚀工艺，而形成的层结构中的特定图形可以是连续的也可以是不连续的，这些特定图形还可能处于不同的高度或者具有不同的厚度。

实施例二、

在具体实施时，在本发明实施例中，如图3所示，可以使每一遮光结构121环形设置于黑矩阵110外围区域，即设置多圈遮光结构121，以使由黑矩阵110的边缘至衬底基板的边缘的亮度变化柔和。并且在切割时，若外围的遮光结构121破裂、掉落，与其间隔设置的遮光结构121可以不受其影响，从而可以改善产品品质。具体地，如图3所示，显示基板设置了2圈遮光结构121。当然，也可以在显示基板中设置3圈、4圈等遮光结构，这需要根据实际应用环境来设计确定，在此不作限定。

在具体实施时，在本发明实施例中，如图6所示，各遮光结构121可以包括多个间隔设置的第二子遮光结构1212；其中，每一圈遮光结构121中相邻两个第二子遮光结构1212之间的第三间隙与相邻圈遮光结构121中的第二子遮光结构1212相对设置。具体地，如图6所示，靠近显示区域的第二子遮光结构1212之间的第三间隙与远离显示区域的第二子遮光结构1212相对设置，远离显示区域的第二子遮光结构1212之间的第三间隙与靠近显示区域的第二子遮光结构1212相对设置，这样也可以使亮度变化更加柔和。

进一步地，为了使亮度变化更加柔和，在具体实施时，如图6所示，沿显示基板的显示区域指向边缘的方向F1，第二子遮光结构1212在显示基板上所占的面积依次减小。具体地，以设置2圈遮光结构为例，如图6所示，靠近显示区域的第二子遮光结构1212在显示基板上所占的面积大于远离显示区域的第二子遮光结构1212在显示基板上所占的面积。这样将第二子遮光结构1212的面积变小，可以使亮度形成渐变的效果，从而可以使亮度变化更加柔和。

进一步地，为了降低制备掩模板的难度，在具体实施时，在本发明实施例中，可以使属于同一圈遮光结构的第二子遮光结构的图案相同。具体地，如图6所示，可以使靠近显示区域的一圈遮光结构121中的第二子遮光结构1212的图案相同，以及使远离显示区域的一圈遮光结构121中的第二子遮光结构1212的图案相同。这样可以使周期性重复的设置同一圈第二子遮光结构1212的图案，其对应的掩模板中的图案也是通过周期重复形成的，从而降低制备掩模板的难度。

进一步地，为了使亮度变化更加柔和，在具体实施时，在本发明实施例中，如图6所示，黑矩阵110在背离显示区域的一侧具有间隔排列的多个内凹结构140。这样可以使黑矩阵110在背离显示区域的一侧具有凹陷也有凸起，从而使这一侧不在一条直线上，进而可以使光线从黑矩阵均匀过渡到遮光层。具体地，该内凹结构140可以均匀排列，即相邻两个内凹结构140之间的间距相同。这样可以使黑矩阵110在背离显示区域的一侧形成规则的锯齿状结构。当然，该内凹结构140也可以不均匀排列，这需要根据实际应用环境来设计确定，在此不作限定。并且，内凹结构的深度和宽度需要根据实际应用来设计确定，在此不作限定。

进一步地，为了使亮度变化更加柔和，在具体实施时，在本发明实施例中，如图6所示，沿内凹结构140的底端指向开口端的方向，内凹结构140的两侧中的至少一侧呈阶梯式向遮光层延伸。其中，内凹结构140的一侧指的是由内凹结构140的底端延伸到其开口端的一个侧边。具体地，如图6所示，可以使内凹结构140的两侧均呈阶梯式向遮光结构121延伸。当然，也可以使内凹结构的一侧呈阶梯式向遮光结构延伸，在此不作限定。

在具体实施时，在本发明实施例中，第二子遮光结构的图案可以包括：圆形、矩形、多边形以及马赛克形中之一或组合。如图6所示，以第二子遮光结构1212的图案为矩形为例进行说明。在实际应用中，第二子遮光结构的图案需要根据实际应用来设计确定，在此不作限定。

在具体实施时，在本发明实施例中，可以使遮光层与黑矩阵同层且同材料设置。这样在制备遮光层时，只需在形成黑矩阵的图形时改变原有的构图图形，即可通过一次构图工艺同时形成遮光层和黑矩阵的图形，从而不用增加单独制备遮光层的工艺，可以简化制备工艺流程，节省生产成本，提供生产效率。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示基板。该显示装置解决问题的原理与前述显示基板相似，因此该显示装置的实施可以参见前述显示基板的实施，重复之处在此不再赘述。

在具体实施时，本发明实施例提供的显示装置可以为LCD。此时，显示装置可以包括相对设置的阵列基板和对向基板，以及位于阵列基板与对向基板之间的液晶层。其中，阵列基板可以采用本发明实施例提供的显示基板。或者，对向基板也可以采用本发明实施例提供的显示基板，或者，阵列基板与对向基板均采用本发明实施例提供的显示基板，在此不作限定。

在具体实施时，本发明实施例提供的显示装置具体可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。

本发明实施例提供的显示基板及显示装置，通过在黑矩阵外围区域的周边区域中设置环形的遮光层，以通过遮光层遮挡透过空白区域的光线，从而可以改善显示面板的白边亮线的问题。并且，在遮光层接触外界带电体而引入静电时，由于黑矩阵与遮光层间隔设置，即黑矩阵与遮光层之间未接触而相互绝缘，从而可以避免静电传入黑矩阵中，进而避免显示区域异常，提高产品的显示品质。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (15)

1.一种显示基板，包括：显示区域、包围所述显示区域的周边区域，以及位于所述周边区域的黑矩阵，其特征在于，所述显示基板还包括：位于所述周边区域且环形设置于所述黑矩阵外围区域的遮光层；所述黑矩阵与所述遮光层间隔设置。

2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层包括：多个间隔设置的遮光结构。

3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，在沿第一方向上，所述遮光结构之间的第一间隙错位排列；和/或，

在沿第二方向上，所述遮光结构之间的第二间隙错位排列，所述第一方向和所述第二方向不同。

4.如权利要求3所述的显示基板，其特征在于，各所述遮光结构包括：多个间隔设置的第一子遮光结构；同一所述遮光结构中，至少部分第一子遮光结构的图案不同。

5.如权利要求4所述的显示基板，其特征在于，沿所述显示基板的显示区域指向边缘的方向，所述第一子遮光结构在所述显示基板上所占的面积依次减小。

6.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，至少部分所述遮光结构的图案相同。

7.如权利要求6所述的显示基板，其特征在于，各所述遮光结构的图案相同。

8.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，每一所述遮光结构环形设置于所述黑矩阵外围区域。

9.如权利要求8所述的显示基板，其特征在于，各所述遮光结构包括多个间隔设置的第二子遮光结构；其中，

每一圈所述遮光结构中相邻两个第二子遮光结构之间的第三间隙与相邻圈遮光结构中的第二子遮光结构相对设置。

10.如权利要求9所述的显示基板，其特征在于，沿所述显示基板的显示区域指向边缘的方向，所述第二子遮光结构在所述显示基板上所占的面积依次减小。

11.如权利要求9所述的显示基板，其特征在于，属于同一圈所述遮光结构的第二子遮光结构的图案相同。

12.如权利要求4或9所述的显示基板，其特征在于，在各所述遮光结构包括多个间隔设置的第一子遮光结构时，所述第一子遮光结构的图案包括：圆形、矩形、多边形以及马赛克形中之一或组合；

在各所述遮光结构包括多个间隔设置的第二子遮光结构时，所述第二子遮光结构的图案包括：圆形、矩形、多边形以及马赛克形中之一或组合。

13.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述黑矩阵在背离所述显示区域的一侧具有间隔排列的多个内凹结构。

14.如权利要求13所述的显示基板，其特征在于，沿所述内凹结构的底端指向开口端的方向，所述内凹结构的两侧中的至少一侧呈阶梯式向所述遮光层延伸。

15.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-14任一项所述的显示基板。