CN108423977B - 低辐射玻璃热处理方法以及系统 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了低辐射玻璃热处理方法以及系统。低辐射玻璃热处理方法包括如下的步骤：将在一面形成有金属膜的玻璃板装载于传送装置的一侧；在从传送装置的一侧向另一侧的传送方向的第一区域中使用第一温度的微波首次选择性热处理金属膜至固定深度以下；在使用微波热处理的步骤之前或者之后，在传送方向的第二区域中用第二温度的激光束选择性热处理金属膜，其中该第二区域位于第一区域的前端或者后端。

Description

低辐射玻璃热处理方法以及系统
技术领域
本发明的实施例涉及低辐射玻璃热处理方法以及系统。
背景技术
如今世界各国正在处于高油价时代，因此已将能源问题选定为最优先要解决的问题，并对此正在抓紧准备对策。对策之一是在产业现场或者建筑物等主要使用能源的部门减少能源损耗，通过能够提高效率的技术节省能源使用量。
在建筑物中，门窗(windows and doors)具有隔热比墙壁低约8倍至10倍以上的特性，因此通过门窗的热损失非常严重，占建筑物整体热损失的约25％至45％左右。
因此，为了减少门窗的热损失，正在使用低辐射玻璃。低辐射玻璃是具有在一般玻璃的一面涂覆红外线反射率高的金属膜的结构，并且具有单层或者多层结构。金属膜透过可视光线提高室内采光度，并且反射红外线来减少室内外的热移动，进而降低室内温度变化。
对于低辐射玻璃，根据镀膜制造方法可分为：基于热解法(pyrolytic process)的在线低辐射玻璃，与基于溅射工艺(sputtering process)的离线低辐射玻璃(soft low-E)。
在线低辐射玻璃制造方法是在浮法玻璃制造工艺中将金属溶液或者金属粉末喷射于玻璃上进行热镀膜。镀膜物质一般是金属氧化物(例如，SnO2)的单一物质。现有的在线低辐射玻璃制造方法的优点在于，因为热蒸镀，镀膜的硬度以及耐久性强并且能够进行强化加工等的热处理。但是，缺点在于，限制使用多种金属，因此颜色单一，并且蒸镀的膜浑浊。
另一方面，离线低辐射玻璃制造方法是将已经生产的浮法玻璃作为另外的真空腔室的金属目标板，将银(Ag)、钛(Titanium)、不锈钢(Stainless Steel)等的金属多层镀膜来进行生产。现有的离线低辐射玻璃的制造方法的优点在于，透明度高，并且使用多种金属，可实现多种色彩，并且光学性能以及热性性能优秀。但是，缺点在于，在与线低辐射玻璃相比较时，镀膜的硬度以及耐久性差，并且在制作多层玻璃时需要另外的边缘剥离处理设备。
如上所述，因此正在对低辐射玻璃要求新的制造技术，改善现在的在线低辐射玻璃制造方法或者离线低辐射玻璃制造方法的缺点，并提高放射性能。
发明内容
(要解决的问题)
用于解决上述技术问题的本发明的目的在于，提供如下低辐射玻璃热处理方法以及系统：有效提高使用于门窗系统的低辐射玻璃(low-emissivity glass)的放射性能，同时改善通过现有的制造方法制造的低辐射玻璃的缺点。
(解决问题的手段)
用于达到上述目的的本发明的一方面提供一种低辐射玻璃热处理方法，包括如下的步骤：将在一面形成有金属膜的玻璃板装载于传送装置的一侧；以及在传送装置的一侧向另一侧的传送方向的第一区域中使用第一温度的微波选择性热处理所述金属膜。
在一实施例中，使用所述微波热处理的步骤为，在所述金属膜表面中可选择性加热至1μm的深度。
在一实施例中，使用所述微波热处理的步骤为，可在200℃至500℃的温度环境下加热所述金属膜。
在一实施例中，所述微波的频率为数GHz，所述微波的宽度可以是10㎝至15㎝。
在一实施例中，所述金属膜的主要成分可包括银(Ag)。
在一实施例中，所述金属膜的导电率在所述第一温度下大于铜(Cu)的导电率。
在一实施例中，低辐射玻璃热处理方法在使用所述微波热处理的步骤之前或者之后还包括如下的步骤：在所述传送方向的第二区域中用与所述第一温度不同的第二温度的激光束选择性热处理所述金属膜，其中所述第二区域位于所述第一区域的前端或者后端。第二温度可高于第一温度，但是不限定于此，而是根据配置关系改变所述第二温度。
在一实施例中，用所述激光束热处理的步骤为，以与所述传送方向直交光束线在所述金属膜表面中可选择性加热至1μm的深度。
在一实施例中，用所述激光束热处理的步骤为，可在500℃至650℃的温度环境下加热所述金属膜。
在一实施例中，低辐射玻璃热处理方法在使用所述微波或者激光束热处理的步骤之前还可包括如下的步骤：在所述传送方向的所述第一区域的前侧以低于所述第一温度的预热温度对所述玻璃板或者所述金属膜进行预热处理。
用于达到上述目的的本发明的一方面提供一种低辐射玻璃热处理系统，包括：传送装置，在一侧装载一面形成有金属膜的玻璃板；微波模块，设置在从所述传送装置的所述一侧向另一侧的传送方向的第一区域，并且放射第一温度的微波；其中，所述微波模块用所述微波选择性热处理所述金属膜。
在一实施例中，所述微波模块在所述金属膜表面中可选择性加热至1μm的深度。所述微波模块可在200℃至500℃的温度环境下加热所述金属膜。所述微波的频率为数GHz，所述微波的宽度可以是10㎝至15㎝。
在一实施例中，所述金属膜主要成分可包括银(Ag)。另外，在所述金属膜与所述玻璃板之间可具有介质层。
在一实施例中，低辐射玻璃热处理系统还可包括激光模块，设置在第二区域，并用与第一温度不同的第二温度的激光束选择性热处理所述金属膜，其中所述第二区域在所述传送方向中位于所述第一区域前端或者后端。
在一实施例中，所述激光模块用沿与所述传送方向直交或者交叉的方向延伸，并且可用小于1mm的射束宽度的光束线加热所述金属膜。
在一实施例中，所述激光模块可在500℃至650℃的温度环境下加热所述金属膜。
在一实施例中，低辐射玻璃热处理系统还可包括预热装置，沿所述传送方向为基准在所述微波模块以及所述激光模块的前端，以低于所述第一温度的预热温度对所述玻璃板或者所述金属进行预热处理。
(发明的效果)
根据如上所述的本发明的实施例，选择性地加热低辐射玻璃(low-emissivityglass)镀膜来进行热处理，进而能够提高低辐射玻璃的放射性能。
另外，在玻璃不破碎的情况下，执行瞬时高温加热，进而在不损坏金属膜的同时可选择性热处理金属膜。同时，选择性地加热镀膜，因此容易控制温度，并且能够对大面积玻璃均匀地进行热处理。
另外，在利用微波加热追加执行激光束加热、预热或者激光束加热、预热组合，进而有效适用利用微波的选择性加热表面，能够大幅度改善低辐射玻璃的性能，并且能够解决制造工艺中的现有的问题。
即，能够解决通过热风热处理时制造的低辐射玻璃不可切割的现有技术问题，并且能够解决难以调节放射性能的问题。另外，在利用现有的闪光灯(flash lamp)时，可节省闪光灯的更换费用，并且能够改善低辐射玻璃的慢节拍时间(tact time)或者周期时间(cycle time)。再则，可防止在使用现有的电子束(electron beam)时出现玻璃变色，并且能够降低相对高的耗能。
附图说明
图1是根据本发明一实施例的低辐射玻璃(Low-Emissivity Glass)热处理系统的概略性结构图。
图2是用于说明在图1的低辐射玻璃热处理系统使用的微波模块的运作原理的示意图。
图3是用于说明图2的微波模块的热处理性能的低辐射玻璃HR-TEM图像。
图4是在根据本发明实施例的低辐射玻璃热处理系统可采用的低辐射玻璃用玻璃板的剖面图。
图5是根据本发明另一实施例的低辐射玻璃热处理系统的概略性结构图。
图6是为了说明图5的低辐射玻璃热处理系统的部分结构而示出玻璃对流烤箱的预热装置部分的概略性横剖面图。
图7是示出根据本发明其他一实施例的低辐射玻璃热处理系统可采用的激光模块的运作状态的图面。
图8是为了说明图7的低辐射玻璃热处理系统采用的激光模块的结构以及运作原理而示出的激光模块部分的概略性横剖面图。
图9是示出根据本发明其他一实施例的低辐射玻璃热处理系统可采用的微波模块与激光模块的配置形态的图面。
图10是用于说明根据本发明其他一实施例的低辐射玻璃热处理方法的流程图。
图11是用于说明通过图10的低辐射玻璃热处理方法制造的低辐射玻璃的放射性能的示意图。
具体实施方式
本发明可增加多种改变，并且可具有各种实施例，其中在图面示例特定实施例并进行详细说明。但是这不是要将本发明限定于特定实施例，而是应该理解为包括本发明的思想以及技术范围所包括的所有改变、同等物乃至代替物。在说明各个图面的同时对于类似参照符号使用类似构成要素。
第一、第二、A、B等的用语可使用于对多种构成要素的说明中，但是所述构成要素不得被所述用语限定。所述用语只以从一构成要素区分出另一构成要素的目的来使用。例如，在不超出本发明的权利范围的同时第一构成要素可命名为第二构成要素，类似地第二构成要素也可命名为第一构成要素。以及/或者的用语包括关于多个的记载项的组合或者在关于多个的相载项中的某一项。
在谈及某一构成要素“连接”或者“接触”于另一构成要素时，也可直接连接或者接触该另一构成要素，但是也应该理解为在这之间也可存在其他构成要素。相反，在谈及某一构成要素“直接连接”或者“直接接触”于另一构成要素时，应该理解为中间不应存在其他构成要素。
在本说明书中使用的用语只是为了说明特定实施例而使用的，并没有要限定本发明的意思。对于单数型表述，只在要文章中未明确指出有其他意思也包括复数型表述。对于在本说明书中“包括”、“具有”等相关用语应该理解为，是要指定在说明书上记载的特征、数字、步骤、动作、构成要素、零部件或者这些组合的存在，并不是要提前排除一个或者一个以上的另一特征或者数字、步骤、动作、构成要素、零部件或者这些组合的存在或者附加的可能性。
另外，只要在本说明书中不含误导成分，在某一文字的标字符具有其他标字符时，为了便于表示，可由与标字符相同的形状表示该标字符的其他标字符。
只要在本说明书中没有不同的定义，包括技术性或者科学性用语且在此使用的所有用语应包括与本发明所属技术领域的技术人员通常理解的意思相同的意思。一般使用且在词典定义的用语应该解释为与相关技术的文章中的意思相同，并且只要未在本说明书中明确定义，不得理解为理想性或者过度的形式性的意思。
以下，参照附图详细说明根据本发明的优选实施例。
图1是根据本发明一实施例的低辐射玻璃(Low-Emissivity Glass)热处理系统的概略性结构图。
参照图1，根据本实施例的低辐射玻璃热处理系统100包括传送装置20以及微波模块30。低辐射玻璃热处理系统100可包括：设置有微波模块30的玻璃对流烤箱或者执行对应于此功能的腔室。
传送装置20结合于玻璃对流烤箱或者腔室，可从烤箱或者腔室外部向内部、重新从内部向外部传送玻璃板10。可在玻璃板10的一面提前形成有金属膜。
金属膜可称为低辐射镀膜，金属膜的导电率在通过微波形成金属膜的温度(以下，称为第一温度)下可大于铜(Cu)的导电率。金属膜可以是银(Ag)或者主成分可包括银(Ag)。
在传送装置20的一侧装载(loading)玻璃板10传送到传送装置20的另一侧，例如能够沿第一方向(D1)传送。传送装置20可具有传送带形状。
在本实施例的低辐射玻璃热处理系统100中，在一面形成有金属膜的玻璃板10装载于传送装置20的部分可称为装载区(loading zone,Z0)、设置微波模块30的部分可称为微波区(microwave zone,Z2)、从传送装置20卸载形成有结晶化的金属膜的玻璃板10部分可称为卸载区(unloading zone,Z6)。
在微波区(Z2)中，玻璃板10上的金属膜表面可被微波32选择性加热，其中该微波32形成200～500℃的温度环境。在此，微波模块30可控制微波32，使微波32在金属膜的表面中使金属膜被加热至1μm以下的深度。
微波32的频率可以是数GHz、微波32的宽度可以是10㎝至15㎝。微波32的长度方向可与第一方向(D1)直交，微波32的宽度可以是第一方向(D1)的波宽度(wave width)。
根据金属膜的导电率可调整上述微波32的频率或者宽度。作为一示例，若金属膜的导电率高，则在相同的频率与温度下金属膜的表面中的导电率变高，由此可在相对浅的深度下进行加热。即，在本实施例中，为使微波热处理可在对应于金属膜表面电流开始骤减的临界值的固定深度下选择性加热金属膜表面，可决定微波的强度、频率或者照射宽度等。
图2是用于说明在图1的低辐射玻璃热处理系统使用的微波模块的运作原理的示意图。
参照图2，在本实施例中由微波模块加热的玻璃板上的金属膜具有供应的固定强度(Pa)以上的微波功率密度(power)，或者在电力方面从表面到规定深度(t1)的具有一定的表面电流(surface current)。
对于这种特性，在均匀地热处理大面积玻璃板将金属膜结晶化时可成为重要因素。即，为使玻璃板的内部热应力不超出玻璃的破裂系数，可作为在避免玻璃层的损坏或者破损的同时充分均匀且短时间急速加热的条件使用上述特性。在本实施例中使用微波模块在金属膜表面加热至1μm以下的深度，优选为以小于1μm的深度选择性加热金属膜的表面。此时金属膜可以是银(Ag)，或者可以是主成分包括银(Ag)的材料。
金属膜还可含有在铜(Copper)、金(Gold)、铬(Chromium)、铝(aluminum)、钨(Tungsten)、锌(zinc)、黄铜(Brass)、镍(Nickel)、铁(Iron)、青铜(Bronze)、铂(platinum)中选择的至少一种物质。在这一情况下，通常金属膜的导电率降低，导致在相同的微波选择性加热表面的条件中金属膜表面的加热深度变深，因此为了均匀地对大面积玻璃板热处理，可调整微波频率或者波宽度等的微波照射条件，以使通过微波选择性加热表面的深度在1μm以下。
图3是用于说明图2的微波模块的热处理性能的低辐射玻璃HR-TEM图像。
根据本实施例的低辐射玻璃热处理系统利用玻璃表面吸收率高的微波(microwave)的特性，来选择性加热玻璃板上的金属膜表面。
如图3的高分辨率(high resolution,HR)透射电子显微镜(transmissionelectron microscopy,TEM)图像所示，用于低辐射玻璃的玻璃板可包括玻璃层11、低辐射层(low-emissitivy layer)12以及金属膜13。在本实施例中，玻璃层11可称为玻璃基板(glass substrate)，金属膜13可以是铂(Pt)层。
如上所述，在本实施例中利用玻璃表面吸收率高的微波特性，可将低辐射玻璃用大面积玻璃板上的金属膜均匀地结晶化。
另外，金属膜的导电率越高则通过选择性加热表面的渗透深度减少，因此在本实施例中作为金属膜使用银(Ag)或者主成分包括银(Ag)的材料，并进行控制使对金属膜微波渗透表面的深度在1μm以下，据此能够提高热处理性能。
另外，在制造低辐射玻璃时执行激光加工/热处理的情况下，在激光束热处理之前执行微波热处理，进而能够提高激光加工/热处理的效率。
图4是用于说明本发明实施例的低辐射玻璃热处理系统中采用的低辐射玻璃用玻璃板的剖面图。
参照图4，根据本实施例的玻璃板10可包括：玻璃层11、玻璃层上的低辐射层12以及低辐射层上的金属膜13。可在热处理之后将金属膜13结晶化。低辐射层12可由氧化锌等形成，金属膜13可由银(Ag)形成。
另外，玻璃板10还可在玻璃层11与低辐射层12之间包括第一电介质14。第一电介质14可由二氧化钛等的材料形成，并且可称为第一电介质层。
另外，玻璃板10在玻璃层11上部侧中金属膜13上还可包括其他低辐射层15。在其他低辐射层15上可层叠第二电介质16。第二电介质16可由氮化硅等的氮化膜形成。
根据本实施例，使用微波模块可有效将金属膜13结晶化，据此提高低辐射玻璃的制造效率，并且可提高制造出的低辐射玻璃的性能。低辐射玻璃的性能包括反射性能。
图5是根据本发明另一实施例的低辐射玻璃热处理系统的概略性结构图。
参照图5，根据本实施例的低辐射玻璃热处理系统100A包括：传送装置20、微波模块30以及预热装置(preheater)40。低辐射玻璃热处理系统100A提前执行预热工艺，进而可提高通过微波选择性加热玻璃板10上的金属膜的效果。
预热装置40可配置在传送装置20的一侧。传送装置20上中配置有预热装置40的部分或者执行预热工艺的部分可称为预热区(preheater zone,Z1)。预热区(Z1)位于装载区之后或者可与大部分的装载区重叠配置。
预热温度可低于微波热处理的温度(第一温度)。预热温度可以是约200℃以下，并且可以是金属膜上的温度。
可用热风装置、加热器等作为预热装置40。若使用预热装置40，则可对表面形成有金属膜的玻璃板10整体进行加热。对于预热，可在玻璃板10未破碎的条件下执行各种方法，只是对于预热环境或者条件，若在微波热处理之前将金属膜预热至约200℃左右，则不做特别限定。
在预热工艺之后，在微波区(Z2)用微波32选择性地加热玻璃板10上的金属膜表面，之后在缓冷区(slow cooling zone,Z4)渐渐冷却玻璃板与结晶化的金属膜。
图6是为了说明图5的低辐射玻璃热处理系统的部分结构而示出玻璃对流烤箱的预热装置部分的概略性横剖面图。
参照图6，根据本实施例的低辐射玻璃热处理系统可包括玻璃对流烤箱(glassconvection oven)。玻璃对流烤箱可包括框架80与固定在框架80上的腔室90。腔室90可包括真空腔室。
在腔室90上部可设置热风装置。热风装置可具有：加热器41、风机42以及排管43，其中该排管43将加热器41、风机42与腔室90内部空间可流通地连接。
在腔室90可结合传送装置。传送装置可包括：沿着与玻璃板10的传送方向直交的方向贯通腔室90的旋转轴22；结合于旋转轴22进行旋转的滚轮23；以及对旋转轴22提供驱动力的电机25。电机25可配置在腔室90的外侧一面。
上述的玻璃对流烤箱可通过设置在下端的轮进行移动。
图7是示出根据本发明其他一实施例的低辐射玻璃(Low-Emissivity Glass)热处理系统概略性结构图。
参照图7，根据本实施例的低辐射玻璃热处理系统100H包括：传送装置20、微波模块30与激光模块50、反射镜61、62以及摄像头70。低辐射玻璃热处理系统100H用微波以表面选择方式热处理玻璃板10上的金属膜，之后重新用激光束以表面选择方式进行热处理，进而有效地将金属膜结晶化，据此大幅度提高金属膜或者包括金属膜的低辐射玻璃的放射性能。
激光模块50运作使金属膜中的热处理温度在约500℃至650℃。激光模块50沿与玻璃板10的传送方向相反的方向倾斜照射激光束52，但是并不限定于此，而是激光模块可配置成能够沿传送方向倾斜照射激光束。当然，根据执行情况，可使用多个激光模块，分别沿传送方向以及与传送方向相反的方向倾斜放射激光束。
另外，为了提高激光束52的热处理效率，可设置反射镜，向玻璃板10上的金属膜反射激光束52。
反射镜可包括第一反射镜61与第二反射镜62。第一反射镜61设置在玻璃板10的下部，并且可反从激光模块50通过玻璃板10照射的激光束52。第二反射镜62可向玻璃板10从新反射从第一反射镜61反射的激光束。根据该反射结构，激光束具有至少一次的锯齿形状的光路，并且可多次贯通玻璃板10。
激光束52可具有与玻璃板10的主面或者上部面平行且与玻璃板10的传送方向(D1)直交的方向延伸的光束线形状。若使用高功率的大型光束线(激光束)，则能够有效且均匀地热处理大面积玻璃板。
摄像头70是用于监控通过缓冷区(Z4)的玻璃板10上的结晶化的金属膜。摄像头70作为监控系统的部分结构，可通过有线或者无线网络连接于监控系统的监控器。
对于摄像头70与监控器，作为监控系统的一示例，只要是能够确认结晶化的金属膜状态或者玻璃板10的热处理状态的工具，或者执行与该工具相应的功能的结构，则不做特别限定。
在传送装置20的另一端侧执行监控工艺的部分可称为监控区(monitoring zone,Z5)。监控区(Z5)的至少一部分可与卸载区重叠。
图8是为了说明图7的低辐射玻璃热处理系统采用的激光模块的结构以及运作原理而示出的激光模块部分的概略性横剖面图。
参照图8，可考虑玻璃板生产线的速度来构成在根据本实施例的低辐射玻璃热处理系统采用的激光模块50。
激光模块50包括多个激光头或者可包括激光二极管阵列。激光模块50在玻璃板10可间隔固定距离(L1)配置。间隔的距离可以是约250㎜至300㎜。
激光束52可具有如下形态：从激光模块50向玻璃板10或者第一反射镜61照射，同时沿激光束的长度方向(D2)光束宽度整体增加。线光束的光束宽度可以是1mm。
若利用上述的光束宽度，则具有如下的优点：在具有固定的生产速度或者传送速度的大型玻璃板的传送装置上，能够通过激光均匀地选择性加热金属膜表面。传送速度可以是从50㎜/s至150㎜/s。
图9是示出本发明其他一实施例的低辐射玻璃热处理系统可采用的微波模块与激光模块的配置形态的变形例的图面。
参照图9，根据本实施例的低辐射玻璃热处理系统100K包括：传送装置20、微波模块30与激光模块50、反射镜61、62以及摄像头70。低辐射玻璃热处理系统100K通过激光模块50以表面选择方式对玻璃板10上的金属膜进行热处理，并且通过微波模块30以表面选择方式对金属膜进行热处理，进而有效地将金属膜结晶化，据此大幅度提高金属膜或者包括金属膜的低辐射玻璃的放射性能。
激光模块50运作使金属膜中的热处理温度约在500℃至650℃。激光模块50能够沿着与传送方向相反的方向倾斜地照射激光束52，但是并不限定于此，而是能够沿着传送方向倾斜照射激光束。当然，根据执行情况，可使用多个激光模块，分别沿传送方向以及以与传送方向相反的方向倾斜放射激光束。
如上所述，根据本实施例，可组合至少一个的微波模块30与至少一个激光模块50来控制金属膜的热处理温度。通过该方法，能够对金属膜表面进行选择性地高温预处理，因此能够有效地将金属膜结晶化。
图10是用于说明根据本发明其他一实施例的低辐射玻璃热处理方法的流程图。
参照图10，根据本实施例的低辐射玻璃热处理方法还可包括如下的工艺：使用微波模块在玻璃板上的金属膜表面中只选择性地加热预定厚度的部分作为主要工艺，在该主要工艺增加使用热风装置、加热器等的预热过程或者使用激光束第二次表面选择性热处理工艺。
在本实施例中，对于通过热风预热、通过微波的表面选择性热处理以及通过激光束的表面选择性热处理，以记载顺序执行的情况为中心进行说明。
首先，可在传送装置的一侧装载玻璃板(S121)。可在玻璃板的一面配置金属膜。金属膜通过喷射、涂布、溅射等方法可提前形成在玻璃板上。传送装置能够以从50㎜/s至150㎜/s的传送速度传送玻璃板。
之后，在微波区(microwave zone)利用微波以不足1μm的深度可选择性加热玻璃板上的金属膜的表面(S123)。可将被微波加热的金属膜结晶化。
之后，激光反射镜区(laser mirror zone)中利用激光束可第二次选择性加热金属膜表面(S124)。可将被激光束加热的金属膜结晶化。
之后，在缓冷区(slow cooling zone)中通过热交换机渐渐冷却玻璃板或者金属膜(S125)。
之后，可从传送装置卸载形成有结晶化的金属膜的玻璃板(以下，称为低辐射玻璃或者低辐射玻璃半成品)(S126)。
根据本实施例，由热风装置预热玻璃板上的金属膜，并用微波进行首次加热，之后用激光第二次加热，进而可制造放射性能优秀的低辐射玻璃。即，通过对玻璃板上的金属膜表面的选择性加热，可将低辐射镀膜层上的金属膜结晶化的同时，还能不破损低辐射镀膜层。
另一方面，在本实施例中，对于利用微波选择性热处理金属膜表面的步骤(S123)，在用激光束选择性热处理金属膜表面的步骤(S124)之前执行，并且不限定于此，而是可在利用激光束的热处理步骤之后执行。在这一情况下，优选为根据微波模块与激光模块的配置关系，以通过微波的金属膜表面的温度(第一温度)为基准，通过激光束的金属膜表面的温度(第二温度)高于第一温度。只是，根据模块的配置或者金属膜的材料、厚度等工艺条件，通过激光模块的金属膜表面的温度可低于第一温度。作为一示例，多个激光模块可分别设置在微波模块的前后，在这一情况下，可控制使多个激光模块在相互不同的金属膜表面温度下运作。
另外，在本实施例中，在使用微波热处理的步骤(S123)以及用激光束热处理的步骤(S124)前端，还可包括在预热区(preheating zone)通过热风装置将玻璃板、金属膜或者玻璃板与金属膜全部预热的步骤(S122)。在这一情况下，通过微波模块或者激光模块以相对高的温度急速加热金属膜时，具有通过预热处理可有效帮助金属膜热扩散或者热分散的优点。
图11是用于说明通过图10的低辐射玻璃热处理方法制造的低辐射玻璃的放射性能的示意图。
根据本实施例的低辐射玻璃热处理方法(G1)在固定的条件下并按顺序使用预热用热风、微波以及激光束的综合能源，进而将低辐射玻璃的金属膜有效结晶化，据此能够大幅度提高金属膜放射性能。
如图11所示，相比于现有的通过激光加工的低辐射玻璃热处理方法(G2)，本实施例的低辐射玻璃热处理方法(G1)可在500℃下提高放射率约28％左右，在650℃下提高约36％左右。
另一方面，作为现有的其他热处理方法，在激光加工还使用红外线灯或者热风，但是在这一情况下也很难看到与本实施例相同的显著的效果。
如上所述，通过使用综合能源(热风、微波以及激光束)的选择性快速热处理(rapid selective thermal processing,RSTP)方法以及系统具有如下的优点：在低辐射玻璃的金属膜的热处理中可有效实现600℃至700℃的温度环境，据此提高低辐射玻璃热处理工艺的效率，并且轻易达到对超高效率大面积玻璃板的金属膜的热处理。超高效率大面积低辐射玻璃可包括隔热为250㎜、尺寸为800㎜×1600㎜以上的玻璃板。
另一方面，在上述实施例中，利用微波的热处理可被利用感应加热器(inductionheater)的热处理代替，其中感应加热器利用诱导线圈或者加热体(mold insert)。该感应加热方法是根据材料的电阻(electrical resistivity，电阻率)或者相对导磁率(ralative magnetic permeability)来代替导电率，可执行表面选择性加热。材料的相对导磁率是纯材料的导磁率除以真空导磁率的值，能够以1作为基准计算铜的相对导磁率。
即，感应加热是控制磁力线密度(磁通密度)可实现在金属膜表面中选择性加热1μm以下，其中磁力线密度由垂直经过金属膜单位面积的磁力线的数量表示。用于感应加热的感应加热器比微波模块可更接近金属膜。
在以上，参照本发明的优选实施例进行了说明，但是该技术领域熟练的从业者能够理解在不超出权利要求记载范围的本发明的思想以及领域的范围内可对本发明进行多种修改以及改变。

Claims (11)

1.一种低辐射玻璃热处理方法，其特征在于，包括如下的步骤：
将在一面形成有金属膜的玻璃板装载于传送装置的一侧；以及
在从所述传送装置的一侧向另一侧的传送方向的第一区域中，使用第一温度的微波选择性热处理所述金属膜；
其中，在使用所述微波热处理的步骤之前或者之后还包括如下的步骤：在所述传送方向的第二区域中使用第二温度的激光束选择性热处理所述金属膜，其中所述第二区域位于所述第一区域的前端或者后端；
使用所述微波热处理的步骤为，在200℃至500℃的温度环境下加热所述金属膜，所述微波的宽度为10㎝至15㎝；
使用所述激光束热处理的步骤为，在500℃至650℃的温度环境下加热所述金属膜，所述激光束为光束线，所述光束线具有小于1mm的射束宽度；
其中，所述微波的宽度方向与所述传送方向相同，所述光束线的方向与所述传送方向直交。
2.根据权利要求1所述的低辐射玻璃热处理方法，其特征在于，
使用所述微波热处理的步骤为，在所述金属膜表面中选择性加热至1μm的深度。
3.根据权利要求1所述的低辐射玻璃热处理方法，其特征在于，
所述金属膜的主要成分包括银。
4.根据权利要求3所述的低辐射玻璃热处理方法，其特征在于，
所述金属膜的导电率在所述第一温度下大于铜的导电率。
5.根据权利要求1所述的低辐射玻璃热处理方法，其特征在于，
用所述激光束热处理的步骤为，以与所述传送方向直交的光束线在所述金属膜表面中选择性加热至1μm的深度。
6.根据权利要求5所述的低辐射玻璃热处理方法，其特征在于，
在使用所述微波或者所述激光束热处理的步骤之前还包括如下的步骤：在所述传送方向的所述第一区域的前侧以低于所述第一温度的预热温度对所述玻璃板或者所述金属膜进行预热处理。
7.一种低辐射玻璃热处理系统，其特征在于，包括：
传送装置，在一侧装载一面形成有金属膜的玻璃板；
微波模块，设置在从所述传送装置的所述一侧向另一侧的传送方向的第一区域，并且放射第一温度的微波；
激光模块，配置在所述微波模块的前端或者后端；
其中，所述微波模块用所述微波选择性热处理所述金属膜的表面；
所述激光模块在第二区域用第二温度的激光束选择性热处理所述金属膜，其中所述第二区域在所述传送方向中位于所述第一区域前端或者后端；
所述微波模块在200℃至500℃的温度环境下加热所述金属膜，所述微波的宽度为10㎝至15㎝；
所述激光模块在500℃至650℃的温度环境下加热所述金属膜，所述激光模块用光束线加热所述金属膜，所述光束线具有小于1mm的射束宽度；
其中，所述微波的宽度方向与所述传送方向相同，所述光束线的方向与所述传送方向直交。
8.根据权利要求7所述的低辐射玻璃热处理系统，其特征在于，
所述微波模块在所述金属膜表面中选择性加热至1μm的深度。
9.根据权利要求7所述的低辐射玻璃热处理系统，其特征在于，
所述金属膜主要成分包括银。
10.根据权利要求9所述的低辐射玻璃热处理系统，其特征在于，
在所述金属膜与所述玻璃板之间具有介质层。
11.根据权利要求7所述的低辐射玻璃热处理系统，其特征在于，还包括：
预热装置，以所述传送方向为基准，在所述微波模块以及所述激光模块的前端，以低于所述第一温度的预热温度对所述玻璃板或者所述金属进行预热处理。
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