CN108398448A - 用于微型化x射线阵列组合折射透镜集成组件的x射线光阑 - Google Patents
用于微型化x射线阵列组合折射透镜集成组件的x射线光阑 Download PDFInfo
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- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 24
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 16
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 108010046685 Rho Factor Proteins 0.000 claims description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims 1
- 238000003556 assay Methods 0.000 abstract description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 2
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000009738 saturating Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
-
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
- G01N2223/076—X-ray fluorescence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/10—Different kinds of radiation or particles
- G01N2223/101—Different kinds of radiation or particles electromagnetic radiation
- G01N2223/1016—X-ray
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
- G01N2223/313—Accessories, mechanical or electrical features filters, rotating filter disc
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
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- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
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Abstract
一种用于微型化X射线阵列组合折射透镜集成组件的X射线光阑，所述X射线光阑包括整形部分和滤波部分，所述整形部分是指利用X射线光阑结构阻隔射入X射线阵列组合折射透镜之外的杂散光并对光束进行初步准直的结构；所述滤波部分是指X射线光阑结构中透光带和阻光带交替布置的滤波结构，并通过滤波结构将X射线光波分裂成多个子光束。本发明应用于微型化X射线阵列组合折射透镜集成组件，可同时实现高微区分辨率和高灵敏度，并可进行现场分析。
Description
技术领域
本发明涉及X射线探测和成像领域，尤其是一种用于微束X射线荧光分析系统的X射线阵列组合折射透镜集成组件的X射线光阑。
背景技术
X射线荧光(XRF，X-Ray Fluorescence)分析系统能在常压下对各种形态(固态/液态/粉末等)样品进行简单快速、高分辨率和无损的元素定量测量分析。而微束X射线荧光分析系统(micro-XRF)因其具有更高的微区分辨率而受到广泛关注。
微束X射线荧光分析系统(micro-XRF)通常都需要配备X射线聚焦器件。使用了X射线聚焦器件的X射线荧光分析系统，虽然微区分辨率大幅度提高(通常可以提高一个数量级以上)，但计数率会下降，影响了探测灵敏度。已有技术基于X射线毛细管器件的荧光光谱仪(专利号：201010180956.6)，使用X射线毛细管器件进行聚焦，微区分辨率通常只能达到几十微米，不仅微区分辨率不够高，且因计数率下降导致探测灵敏度也有一定程度的降低；同时结构复杂、尺寸庞大，无法实现便携。发明人之前也提出了一种便携式微束X射线荧光光谱仪(专利号：201310356270.1，是与本发明最接近的已有技术)，用X射线组合折射透镜获得探测微束，虽然微区分辨率大幅度提高，但计数率低，影响了探测灵敏度。
X射线组合折射透镜是集成型微结构器件，数值口径小，X射线光管发出的光不能全部被组合透镜接收，不仅使得计数率降低、而且浪费了X射线光能量，还增加了噪声。如果能发明新的器件结构，尽可能多的利用X射线光管发出的X射线光，则不仅能大幅度增加计数率、进而提高探测灵敏度，同时还能降低能耗、减小噪声。
发明内容
为了克服已有X射线荧光光谱仪微区分辨率还不够高，特别是因计数率低而导致的探测灵敏度不够高，且结构复杂、尺寸庞大、无法实现便携的不足，本发明提供一种用于微型化X射线阵列组合折射透镜集成组件的X射线光阑，将其应用于小型化微束X射线荧光分析系统，可同时实现高微区分辨率和高灵敏度，并可进行现场分析。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种用于微型化X射线阵列组合折射透镜集成组件的X射线光阑，所述X射线光阑包括整形部分和滤波部分，所述整形部分是指利用X射线光阑结构阻隔射入X射线阵列组合折射透镜之外的杂散光并对光束进行初步准直的结构；所述滤波部分是指X射线光阑结构中透光带和阻光带交替布置的滤波结构，并通过滤波结构将X射线光波分裂成多个子光束。
进一步，所述透光带的数目为(M+1)个，与所述X射线阵列组合折射透镜中组合折射透镜的数目相同。
再进一步，所述透光带和阻光带的宽度分别由下列公式计算得出：
零级透光带T0，与X射线组合折射透镜的数值口径尺寸相同，正负一级透光带、正负二级透光带…，依此类推，透光带宽度表示为：
θ为X射线阵列组合折射透镜的光轴与阵列中的正负一级X射线组合折射透镜的光轴夹角；
正负一级阻光带、正负二级阻光带…，依此类推，阻光带宽度表示为：
GM＝L·tan(0.5M·θ) (2)
其中L代表X射线组合折射透镜的几何长度，表示为L＝N·l，其中l为折射单元轴向厚度尺寸。
更进一步，所述X射线光阑选择吸收特性满足下列公式的任何材料，X射线波段材料的吸收系数：
其中NA代表阿伏伽德罗常数，r0代表电子半径，λ代表波长，A代表原子质量，f2代表原子散射因子，ρ代表电子密度，下标i代表化合物中的元素种类，当材料为单质是i＝1；
所述X射线光阑的材料厚度t满足表达式e-β·t＜＜1。
本发明的有益效果主要表现在：1、利用所发明的新型器件X射线光阑，对X射线光束进行整形和滤波，结构简单、可一体化批量制作2、X射线阵列组合折射透镜基于折射效应工作，在对X射线束聚焦时不需要折转光路，因此所形成的探测装置或仪器结构紧凑、尺寸小、重量轻，适合制作便携式仪器装置，可以实现现场分析。
附图说明
图1是本发明一种微型化X射线阵列组合折射透镜集成组件中X射线光阑的结构示意图(只画出了M≤2的局部结构)，其中，T0为零级透光带的宽度，T2为正负一级透光带的宽度，t为X射线光阑的厚度，(a)正视图，(b)俯视图。
图2是本发明一种微型化X射线阵列组合折射透镜集成组件的结构示意图，其中1代表X射线光阑、2代表X射线折光器、3代表X射线阵列组合折射透镜、4代表组件承载台。
图3是本发明一种微型化X射线阵列组合折射透镜集成组件中X射线折光器的结构示意图(只画出了M≤2的局部结构)，其中TZ为非折光区的宽度，tZ0为非折光区的材料厚度、tZM为折光区的材料厚度，(a)正视图，(b)俯视图。
图4是本发明一种微型化X射线阵列组合折射透镜集成组件中X射线阵列组合折射透镜的结构示意图(只画出了M≤2的局部结构)，其中T0为折射单元的口径、l为折射单元的轴向厚度尺寸。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步描述。
参照图1～图4，一种用于微型化X射线阵列组合折射透镜集成组件的X射线光阑，所述X射线光阑包括整形部分和滤波部分，所述整形部分是指利用X射线光阑结构阻隔射入X射线阵列组合折射透镜之外的杂散光并对光束进行初步准直的结构；所述滤波部分是指X射线光阑结构中透光带和阻光带交替布置的滤波结构，并通过滤波结构将X射线光波分裂成多个子光束。
进一步，所述透光带的数目为(M+1)个，与所述X射线阵列组合折射透镜中组合折射透镜的数目相同。
再进一步，所述透光带和阻光带的宽度分别由下列公式计算得出：
零级透光带T0，与X射线组合折射透镜的数值口径尺寸相同，正负一级透光带、正负二级透光带…，依此类推，透光带宽度表示为：
θ为X射线阵列组合折射透镜的光轴与阵列中的正负一级X射线组合折射透镜的光轴夹角；
正负一级阻光带、正负二级阻光带…，依此类推，阻光带宽度表示为：
GM＝L·tan(0.5M·θ) (2)
其中L代表X射线组合折射透镜的几何长度，表示为L＝N·l，其中l为折射单元轴向厚度尺寸。
更进一步，所述X射线光阑选择吸收特性满足下列公式的任何材料，X射线波段材料的吸收系数：
其中NA代表阿伏伽德罗常数，r0代表电子半径，λ代表波长，A代表原子质量，f2代表原子散射因子，ρ代表电子密度，下标i代表化合物中的元素种类，当材料为单质是i＝1；
所述X射线光阑的材料厚度t满足表达式e-β·t＜＜1。
将本发明的X射线光阑应用到微型化X射线阵列组合折射透镜集成组件，所述集成组件包括X射线光阑1、X射线折光器2、X射线阵列组合透镜3和组件承载台4，X射线光束照射在所述X射线阵列组合折射透镜集成组件上，首先被X射线光阑接收，并进行第一次整形和滤波，所述第一次整形是指依据所述X射线阵列组合折射透镜的数值口径，对入射X射线光波进行整形；所述滤波是指将入射X射线光波分裂形成多个子光束，子光束的数目与X射线阵列组合折射透镜中的组合折射透镜数目相同。已分裂成多个子光束的X射线光波接着入射进所述X射线折光器，经X射线折光器进行光束第二次整形，所述光束的第二次整形保证从X射线折光器出射的多个X射线子光束，均以类平行光的方式入射阵列中对应的X射线组合折射透镜。所述X射线阵列组合折射透镜对入射的多个X射线子光束分别进行聚焦，所述X射线阵列组合折射透镜的阵列结构布局，保证每一个子光束所形成的聚焦焦斑在同一位置，并位于光轴上。所述组件承载台用于承载所述X射线光阑、X射线折光器、X射线阵列组合折射透镜，并在所述X射线光阑、X射线折光器、X射线阵列组合折射透镜的相对位置和光轴调整完毕后进行固定。
进一步地，所述X射线阵列组合折射透镜中包含(M+1)个X射线组合折射透镜，所述M为正整数且为偶数。所述X射线阵列组合折射透镜沿其光轴呈轴对称分布，所述X射线阵列组合折射透镜的光轴与阵列中零级X射线组合折射透镜的光轴重合，所述X射线阵列组合折射透镜的光轴与阵列中的正负一级X射线组合折射透镜的光轴夹角为θ，所述X射线阵列组合折射透镜的光轴与阵列中的正负二级X射线组合折射透镜的光轴夹角为2θ，依此类推。
再进一步，所述X射线阵列组合折射透镜中(M+1)个组合折射透镜的布局结构，使得所有(M+1)个X射线组合折射透镜聚焦的焦斑在相同位置，且位于光轴上。
进一步地，所述(M+1)个X射线组合折射透镜的结构和性能参数，依据下列公式得出：
X射线波段的光学常数：n＝1-δ+iβ (4)
X射线组合折射透镜的焦距：
X射线组合折射透镜的焦斑尺寸：
X射线组合折射透镜的数值口径：
其中n代表光学常数，δ代表X射线波段材料的折射，β代表X射线波段材料的吸收，N代表X射线组合折射透镜中折射单元的个数，以抛物面型折射单元为例，组合折射透镜抛物面顶点的曲率半径为R，抛物面的开口尺寸为R0，f代表X射线组合折射透镜的焦距，λ代表波长，μ代表X射线的线吸收系数，
更进一步，所述X射线折光器，与所述X射线阵列组合折射透镜贴近放置，实现入射X射线光束的第二次整形，所述第二次整形，是指X射线折光器可对X射线阵列组合折射透镜中的正负一级组合透镜折光θ角度，对X射线阵列组合折射透镜中的正负二级组合透镜折光2θ角度，依此类推，最终实现对X射线阵列组合折射透镜中每一个单一组合折射透镜的类平行光入射。
所述X射线折光器可选择折射特性满足下列公式的任何单质或化合物材料，
X射线波段材料的折射系数：
其中，NA代表阿伏伽德罗常数，r0代表电子半径，λ代表波长，A代表原子质量，下标i表示化合物中的元素种类，下标j为正整数，ρ代表电子密度，下标i表示化合物中的元素种类，当材料为单质时i＝1，v代表原子个数，下标i表示化合物中的元素种类，下标j为正整数，Z代表原子序数，下标i表示化合物中的元素种类。
所述X射线折光器的非折光区材料厚度用tZ0表示，为减少X射线吸收损耗，应制作得尽量薄，由制作工艺决定。所述X射线折光器的非折光区宽度尺寸TZ＝T0+2G2，T0为零级透光带的宽度；tZ0为非折光区的材料厚度，折光区的材料厚度tZM由下列公式计算得出：
tZM＝tZ0+TM·tan(0.5M·θ) (9)。
其中，G2为正负二级阻光带的宽度，由上述公式(2)取M＝2时计算得出；TM为透光带的宽度，由上述公式(1)计算得出。
Claims (4)
1.一种用于微型化X射线阵列组合折射透镜集成组件的X射线光阑，其特征在于：所述X射线光阑包括整形部分和滤波部分，所述整形部分是指利用X射线光阑结构阻隔射入X射线阵列组合折射透镜之外的杂散光并对光束进行初步准直的结构；所述滤波部分是指X射线光阑结构中透光带和阻光带交替布置的滤波结构，并通过滤波结构将X射线光波分裂成多个子光束。
2.如权利要求1所述的用于微型化X射线阵列组合折射透镜集成组件的X射线光阑，其特征在于：所述透光带的数目为(M+1)个，与所述X射线阵列组合折射透镜中组合折射透镜的数目相同。
3.如权利要求2所述的用于微型化X射线阵列组合折射透镜集成组件的X射线光阑，其特征在于：所述透光带和阻光带的宽度分别由下列公式计算得出：
零级透光带T0，与X射线组合折射透镜的数值口径尺寸相同，正负一级透光带、正负二级透光带…，依此类推，透光带宽度表示为：
θ为X射线阵列组合折射透镜的光轴与阵列中的正负一级X射线组合折射透镜的光轴夹角；
正负一级阻光带、正负二级阻光带…，依此类推，阻光带宽度表示为：
GM＝L·tan(0.5M·θ) (2)
其中L代表X射线组合折射透镜的几何长度，表示为L＝N·l，其中l为折射单元轴向厚度尺寸。
4.如权利要求1或2所述的微型化X射线阵列组合折射透镜集成组件的X射线光阑，其特征在于，所述X射线光阑选择吸收特性满足下列公式的任何材料，
X射线波段材料的吸收系数：
其中NA代表阿伏伽德罗常数，r0代表电子半径，λ代表波长，A代表原子质量，f2代表原子散射因子，ρ代表电子密度，下标i代表化合物中的元素种类，当材料为单质是i＝1；
所述X射线光阑的材料厚度t满足表达式e-β·t＜＜1。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810366330.0A CN108398448B (zh) | 2018-04-23 | 2018-04-23 | 用于微型化x射线阵列组合折射透镜集成组件的x射线光阑 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810366330.0A CN108398448B (zh) | 2018-04-23 | 2018-04-23 | 用于微型化x射线阵列组合折射透镜集成组件的x射线光阑 |
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|---|---|
| CN108398448A true CN108398448A (zh) | 2018-08-14 |
| CN108398448B CN108398448B (zh) | 2020-06-30 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201810366330.0A Active CN108398448B (zh) | 2018-04-23 | 2018-04-23 | 用于微型化x射线阵列组合折射透镜集成组件的x射线光阑 |
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| Country | Link |
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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