CN108388376B - 导电膜层结构、其制作方法及触摸屏 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种导电膜层结构、其制作方法及触摸屏，涉及触控显示技术领域，为解决由于网版存在涨缩，尺寸会有异常，激光线直接打在导电区域上的实际位置与该激光线在CAD图纸的实际位置存在偏差，从而使制作的触摸屏在后续使用中可能产生不利影响的技术问题。涉及一种导电膜层结构，包括：一导电膜层，该导电膜层包括导电区域、感应区域以及用于激光线偏移调节基准的多个测试块；多个测试块分别设置在靠近导电区域的外侧；测试块采用与激光线相适配的结构，且两者配合能够便于调节两者之间的相对偏移量。该导电膜层结构、其制作方法及触摸屏能够调节激光相对银浆的偏移。

Description

导电膜层结构、其制作方法及触摸屏

技术领域

本发明涉及触控显示技术领域，尤其是涉及一种导电膜层结构、其制作方法及触摸屏。

背景技术

触摸屏(touch screen)又称为“触控屏”、“触控面板”，是一种可接收触头等输入讯号的感应式液晶显示装置。触摸屏作为一种新型的电脑输入设备，是目前最简单、方便、自然的一种人机交互方式。现如今，触摸屏应用范围广泛，其主要用途有：企业会议、商业广告、教育教学、智能查询、会展展示、智能家居、智能游戏等。

目前，触摸屏的种类有很多。其中，按照触摸屏的工作原理和传输信息的介质分类，触摸屏可分为四种，其分别为电阻式、电容式、红外线式以及表面声波式。

现有触摸屏的制作方法首先通过印刷银浆，然后激光蚀刻，最终形成导电通路。在印刷银浆阶段，往往需要借助网版进行印刷，由于网版存在涨缩，尺寸会有异常，因而导致采用该网版印刷的导电区域以及银浆边缘(后续需要在该导电区域内印刷导料材料，例如：银浆区域)相对于实际所要印刷的区域会有所偏移。在激光蚀刻阶段，由于激光线是按照实际CAD图纸的路线进行蚀刻的，因而激光线直接打在导电区域上的实际位置与该激光线在CAD图纸的实际位置将会产生偏差，该偏差的存在将会对触摸屏的后续使用产生不利的影响。

发明内容

本发明的第一目的在于提供一种导电膜层结构，为解决由于网版存在涨缩，尺寸会有异常，激光线直接打在导电区域上的实际位置与该激光线在CAD图纸的实际位置存在偏差，从而使制作的触摸屏在后续使用中可能产生不利影响的技术问题。

本发明提供的导电膜层结构，包括：一导电膜层，该导电膜层包括导电区域、感应区域以及用于激光线偏移调节基准的多个测试块。

多个所述测试块分别设置在靠近所述导电区域的外侧。

所述测试块采用与激光线相适配的结构，且两者配合能够便于调节两者之间的相对偏移量。

进一步地，每个所述测试块均采用环状结构。

进一步地，所述环状结构采用方形环状结构、圆环状结构或菱形环状结构中的任一种。

进一步地，每个所述测试块均呈“回”字型结构。

进一步地，每个所述测试块的多个方向均设有用于标识激光线调节距离的刻度线结构。

进一步地，所述刻度线结构包括以相同间距依次上升或下降的台阶状结构。

或者是，所述刻度线结构包括多根以相同间距依次排列且相平行设置的刻度线。

进一步地，所述导电膜层设有所述测试块的区域能够形成用于确定多次激光相对偏移情况的激光印迹。

进一步地，所述测试块的位置根据所述导电区域进行设置；和/或，所述测试块的位置根据所述导电区域易于发生偏移的位置进行设置。

本发明提供的导电膜层结构的有益效果：

在该导电膜层结构中，导电膜层上设有多个用于激光线偏移调节基准的多个测试块，将多个测试块设置于靠近导电区域的外侧位置处，此时测试块在导电膜层上的位置已经确定，因而使用多个测试块作为偏移调节的基准。在激光蚀刻阶段时，激光设备一次激光直接打出的激光线在导电区域上的位置与该激光线在CAD图纸的实际位置存在偏差，由于该导电膜层结构中测试块基准的位置是确定不变的，因而，将激光线打在该测试块的位置能够确定，加上，在该导电膜层结构中，测试块采用与激光线相适配的结构，且两者配合能够便于调节两者之间的相对偏移量，通过调节激光线的位置从而使激光线与多个测试块对正，确保激光线打在导电区域(如：银浆区域)上的实际位置与该激光线在CAD图纸的实际位置保持一致，从而实现激光线相对银浆偏移量的调节。

由以上可知，该导电膜层结构设有偏移调节的基准，通过该基准设置能够实现激光线相对银浆偏移量的调节，从而使激光线打在导电区域(如：银浆区域)上的实际位置与该激光线在CAD图纸的实际位置保持一致。该结构能够有效地改善因网版涨缩引起的导电区域(如：银浆区域)尺寸的偏差，从而保证在导电膜层上按照实际CAD图纸上的蚀刻路线实现准确蚀刻。

此外，采用该导电膜层结构，方便调节激光相对银浆的偏移，该过程无需使用调机片，操作简单且节省材料。

本发明的第二目的在于提供一种导电膜层结构的制作方法，为解决由于网版存在涨缩，尺寸会有异常，激光线直接打在导电区域上的实际位置与该激光线在CAD图纸的实际位置存在偏差，从而使制作的触摸屏在后续使用中可能产生不利影响的技术问题。

本发明提供的导电膜层结构的制作方法，包括以下步骤：

(A)在所述导电膜层的上膜或下膜印刷所述导电区域和多个所述测试块，并在所述导电区域内印刷导电材料；

(B)使激光线打在多个所述测试块上，调节所述激光线并使该激光线与每个所述测试块对正；

(C)对上述印刷的所述导电材料进行整体蚀刻。

本发明提供的导电膜层结构的制作方法的有益效果：

本发明的导电膜层结构的制作方法能够产生上述导电膜层结构的有益效果，在此不再赘述。

本发明的第三目的在于提供一种触摸屏，为解决由于网版存在涨缩，尺寸会有异常，激光线直接打在导电区域上的实际位置与该激光线在CAD图纸的实际位置存在偏差，从而使制作的触摸屏在后续使用中可能产生不利影响的技术问题。

本发明提供的触摸屏包括上述的导电膜层结构。

本发明提供的触摸屏的有益效果：

利用上述的导电膜层结构制作触摸屏，其中，该导电膜层结构的具体结构以及有益效果等已在上述文字中进行了详细说明，在此不再赘述。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为在导电膜层的上膜印刷有导电区域的结构示意图；

图2为在导电膜层的下膜印刷有导电区域的结构示意图；

图3为图1所示上膜设置多个测试块以及蚀刻线路后的结构示意图；

图4为图2所示下膜设置多个测试块以及蚀刻线路后的结构示意图；

图5为图3或图4所示的单个测试块与单条激光线的组合结构示意图；

图6为图5所示测试块的结构示意图；

图7为图5所示激光线的结构示意图；

图8为图3或图4所示的单个测试块与单条激光线的另一组合结构示意图；

图9为图8所示测试块的结构示意图；

图10为图8所示激光线的结构示意图。

图标：100-导电膜层；200-导电区域；300-第一种位置调整结构；400-第二种位置调整结构；500-“十”字型线；310-第一测试块；320-第一激光线；330-刻度线结构；410-第二测试块；420-第二激光线。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的机构或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

实施例一

如图1-4所示，本实施例一提供了一种导电膜层结构，包括：一导电膜层100，该导电膜层100包括导电区域200、感应区域以及用于激光线偏移调节基准的多个测试块；多个测试块分别设置在靠近导电区域200的外侧；测试块采用与激光线相适配的结构，且两者配合能够便于调节两者之间的相对偏移量。

在该实施例中，上述提到的“导电材料”可采用导电银浆或与感应区域所用材料一致；当采用导电银浆时，可将导电区域200称为银浆区域。

在该导电膜层结构中，导电膜层100上设有多个用于激光线偏移调节基准的多个测试块，将多个测试块设置于靠近导电区域200的外侧位置处，此时测试块在导电膜层100上的位置已经确定，因而使用多个测试块作为偏移调节的基准。在激光蚀刻阶段时，激光设备一次激光直接打出的激光线在导电区域200上的位置与该激光线在CAD图纸的实际位置存在偏差，由于该导电膜层结构中测试块基准的位置是确定不变的，因而，将激光线打在该测试块的位置能够确定，加上，在该导电膜层结构中，测试块采用与激光线相适配的结构，且两者配合能够便于调节两者之间的相对偏移量，通过调节激光线的位置从而使激光线与多个测试块对正，确保激光线打在导电区域200(如：银浆区域)上的实际位置与该激光线在CAD图纸的实际位置保持一致，从而实现激光线相对银浆偏移量的调节。

由以上可知，该导电膜层结构设有偏移调节的基准，通过该基准设置能够实现激光线相对银浆偏移量的调节，从而使激光线打在导电区域200(如：银浆区域)上的实际位置与该激光线在CAD图纸的实际位置保持一致。该结构能够有效地改善因网版涨缩引起的导电区域200(如：银浆区域)尺寸的偏差，从而保证在导电膜层上按照实际CAD图纸上的蚀刻路线实现准确蚀刻。

此外，采用该导电膜层结构，方便调节激光相对银浆的偏移，该过程无需使用调机片，操作简单且节省材料。

需要说明的是，测试块的具体位置可根据导电区域200的边缘线或者根据导电区域200易于发生偏移的位置进行设置；或者是，测试块的具体位置根据导电区域200的边缘线以及导电区域200易于发生偏移的位置综合考虑进行设置。

在该实施例中，导电区域200包括用于印刷引脚的引脚区域和用于印刷引线的引线区域；多个测试块设置在靠近引脚区域的外边缘位置处，且多个测试块设置在靠近引线区域的外边缘位置处。

其中，多个测试块的具体布置位置可参见图3和图4所示的测试块位置P。当然，测试块位置P的选取不限于为图3和图4所示的位置。

例如：如图3或图4所示，在靠近银浆的引脚位置和银浆的边缘位置印刷测试块，避免引脚偏移、激光线和银浆边缘偏移，测试块的内外两侧都可以直观地观看到偏移情况，即使有一边印刷异常，也不影响整体调节和查看。

该实施例中，每个测试块均采用环状结构。

其中，该环状结构采用方形环状结构、圆环状结构或菱形环状结构中的任一种。当然，环状结构不限于为以上三种具体结构形式。

为了便于激光线的调节和查看，本实施例中将每个测试块均设置为“回”字型结构，且每个测试块的多个方向均设有用于标识激光线调节距离的刻度线结构330。

其中，刻度线结构330包括以相同间距依次上升或下降的台阶状结构(具体见图5)；或者是，刻度线结构330包括多根以相同间距依次排列且相平行设置的刻度线(未附图)。需要说明的是，刻度线结构330不限于为以上两种具体结构形式。

在该实施例中，刻度线结构330可以以一定的单位设置成台阶状结构或刻度线，以方便激光线的精准调节。

在该实施例的基础上，导电膜层100设有测试块的区域能够形成用于确定多次激光相对偏移情况的激光印迹(具体见实施例二)。

实施例二

本实施例二提供了一种实施例一中导电膜层结构的制作方法，包括以下步骤：

(A)在导电膜层100的上膜或下膜印刷导电区域200和多个测试块，并在导电区域200内印刷导电材料；

(B)使激光线打在多个测试块上，调节激光线并使该激光线与每个测试块对正；

(C)对上述印刷的导电材料进行整体蚀刻。

需要说明的是，在步骤(A)中，测试块和导电区域200通过一张网版一次印刷完成；在步骤(B)中，激光设备一次激光可以使多条激光线分别打在相应的测试块位置，整体调节激光相对银浆区域的偏移。

其中，在上膜印刷银浆以及激光蚀刻的方法类似于在下膜印刷银浆以及激光蚀刻的方法。

如图3和图4所示，导电膜层100的上膜结构类似于下膜结构。

该实施例中，在导电膜层结构的制作方法中，测试块采用与激光线相适配的结构，且两者配合构成便于调节两者相对偏移量的位置调整结构，从而使激光线与多个测试块能够对正。

上述的“激光线与多个测试块能够对正”是指，激光线的中心能够与测试块的中心重合；或者是，激光线的边线与测试块的边缘线能够重合。其中，激光线的边线与测试块的边缘线重合是为了便于激光线的调节以及查看。

该实施例中，位置调整结构包括均采用环状结构的测试块和激光线。

需要说明的是，环状结构的环形边线(激光线)或环形边缘线(测试块)具有一条或两条。其中，如图5至图7所示，激光线具有两条方环形边线，测试块具有两条方环形边缘线。

在上述实施例的基础上，测试块与激光线相适配的结构形式有很多种，该实施例中具体介绍以下几种，但不限于为以下具体介绍的结构形式。

需要说明的是，为了区分位置调整结构的不同结构形式，在第一种位置调整结构300中，将测试块和激光线命名为第一测试块310和第一激光线320。后面的第二种位置调整结构400中的测试块和激光线的命名方式与此类似，不再说明。

如图5至图7所示，第一种位置调整结构300包括均呈“回”字型结构的第一测试块310和均呈“回”字型结构的第一激光线320，其中，第一测试块310和第一激光线320能够完全重合(见图5)；第一测试块310的多个方向均设有上述的刻度线结构330。

上述提到的“多个方向”是指，以导电膜层100所在平面称为XY平面，多个方向至少包括X轴正向、X轴负向、Y轴正向、Y轴负向，亦分别是指如图3或图4中所示的水平向右、水平向左、竖直向上、竖直向下。

以图5为例，第一测试块310的四条内边缘线向内延伸有刻度线结构330，第一测试块310的四条外边缘线向外延伸有刻度线结构330。从而便于激光线相对于第一测试块310的内、外边缘的至少上、下、左、右四个方向调节偏移。

如图8至图10所示，第二种位置调整结构400包括均呈“回”字型结构的第二测试块410和大致均呈“回”字型结构的第二激光线420；该第二激光线420包括内激光边线和外激光边线，内激光边线为多条同心设置的“口”字型内激光边线，外激光边线为多条同心设置的“口”字型外激光边线；第二测试块410的内边缘线能够与最外侧内激光边线相重合，第二测试块410的外边缘线能够与最内侧的外激光边线相重合(见图8)。

其中，如图10所示，相邻内激光边线对应边之间的间隔M为激光线线宽的1.2～2倍；相邻外激光边线对应边之间的间隔M为所述激光线线宽的1.2～2倍，可以使用该间隔M作为刻度调节的偏移量。

需要说明的是，测试块和激光线均采用“回”字型结构的好处是便于激光线在X轴方向或Y轴方向上进行调节，调节偏移的过程更加清晰、直观。

以第二种位置调整结构400为例。由于每个“回”字型结构之间的间隔M是固定的，通过数第几根激光边线(或回子线)到银浆的相应位置进而判定偏移距离。

在上述实施例的基础上，当激光线采用与测试块相适配的圆环状结构或菱形环状结构时，测试块和激光线的结构和原理与上述第一种位置调整结构300或者是第二种位置调整结构400中的基本相同，在此不再赘述。

如图5、7、8和10所示，无论是哪种结构形式的激光线，其中心位置均设有“十”字型线500。该“十”字型线500设置的好处是，激光线的中心位置设置“十”字型线500，方便后续返修过程中确认与上一次激光的偏移情况，以解决现有技术中印刷一段时间后若激光再次出现偏移，无法确认与上次偏移情况的问题。

具体地，使用激光设备第一次激光时，相应的测试块上会被激光出一个“十”字印迹，返修过程中通过激光会再次出现一个“十”字印迹，通过比对两次的“十”字印迹，能够获知两者之间的偏移情况，且更加清晰、直观。

实施例三

本实施例三提供了一种触摸屏，包括上述实施例一中的导电膜层结构。

其中，该触摸屏中的导电膜层结构可采用实施例二中的方法制作而成。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (8)

1.一种导电膜层结构，其特征在于，包括：一导电膜层，该导电膜层包括导电区域、感应区域以及用于激光线偏移调节基准的多个测试块；

多个所述测试块分别设置在靠近所述导电区域的外侧；

所述测试块采用与激光线相适配的结构，且两者配合能够便于调节两者之间的相对偏移量；

所述测试块多个方向均设有用于标识激光线调节距离的刻度线结构，包括以相同间距依次上升或下降的台阶状结构；

或者是，所述刻度线结构包括多根以相同间距依次排列且相平行设置的刻度线。

2.根据权利要求1所述的导电膜层结构，其特征在于，每个所述测试块均采用环状结构。

3.根据权利要求2所述的导电膜层结构，其特征在于，所述环状结构采用方形环状结构、圆环状结构或菱形环状结构中的任一种。

4.根据权利要求2所述的导电膜层结构，其特征在于，每个所述测试块均呈“回”字型结构。

5.根据权利要求1所述的导电膜层结构，其特征在于，所述导电膜层设有所述测试块的区域能够形成用于确定多次激光相对偏移情况的激光印迹。

6.根据权利要求1所述的导电膜层结构，其特征在于，所述测试块的位置根据所述导电区域进行设置；

和/或，所述测试块的位置根据所述导电区域易于发生偏移的位置进行设置。

7.一种如权利要求1-6任一项所述的导电膜层结构的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

(A)在所述导电膜层的上膜或下膜印刷所述导电区域和多个所述测试块，并在所述导电区域内印刷导电材料；

(B)使激光线打在多个所述测试块上，调节所述激光线并使该激光线与每个所述测试块对正；

(C)对上述印刷的所述导电材料进行整体蚀刻。

8.一种触摸屏，其特征在于，包括上述权利要求1-6任一项所述的导电膜层结构。

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