CN108375103A - 用于调节供热系统的装置和方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及用于调节供热系统的调节装置,该调节装置包括本体,其设置有至少一个入口、出口和拦截区域,该拦截区域置于入口与出口之间以使得入口和出口能够被选择性地设定为彼此流体连通。该装置包括阀元件,其在拦截区域中操作性地起作用并且以多个操作构型操作,以根据在入口处的流体的被感知到的温度与阀元件配置的参考温度之间的温度差改变从入口传送至出口的流体的流量。多个操作构型包括关闭构型和至少一个最大孔口构型,在最大孔口构型中存在从入口传送至出口的流体的最大流量,并且关闭构型与在入口处的流体的被检测到的温度等于或高于参考温度的状态相对应;在关闭构型中,存在从入口传递至出口的流体的残余流量,并且该残余流量大于零。
Description
技术领域
本发明的目的是用于调节供热系统的调节装置、包括该装置的供热系统和用于调节供热系统的方法。
特别地,本发明涉及调节装置,该调节装置用于在用于住宅或商业用途或其它用途的建筑物中对用于为空间供热的系统中的通常为热水的流体的温度和流动进行调节。因而,本发明属于供热系统的技术领域。
背景技术
众所周知,用于为建筑物供热的供热系统主要分成高温系统和低温系统。高温系统基本上包括锅炉、布置在建筑物的各个房间中的一系列供热元件(包括散热器、热虹吸管、加热器、对流器等)、以及将锅炉与散热器元件连接的多个集合器和管道。另一方面,除了锅炉之外,低温系统包括呈管道形式的通常插入房间地板下面的辐射元件以及将辐射元件连接至锅炉的至少一对集合器。尽管第一类型的系统用水在通常约为60℃至80℃的高温下操作,但第二类型的系统必定在例如约为30℃至40℃的较低的温度下操作,原因在于,在较高的温度下存在地板劣化的风险。还已知了混合型供热系统,所述混合型供热系统包括彼此适当地连接的高温回路和低温回路以及各种类型的辐射元件。
还已知的是在系统内实现了系统的即具有地板管道的低温部分,其中,该系统以高温操作并且因此设置有为散热器、热虹吸管或对流器的操作供给高温水的锅炉。在这种情况下,系统的低温部分必须包括能够对系统的不同位置处的流体的温度(即,包括散热器或热虹吸管的部件中的高温以及包括辐射地板元件的部件中的低温)进行管控和调节的适当装置。
具体地,这是在建筑物上进行翻修或改造工作的情况下,翻修或改造工作可以包括铺设新的地板或建造新的房间(例如,浴室)或者一般地对现有空间进行分隔。在这种情况下,可能有利的是,在保持原有的锅炉并使用非地板元件(散热器或热虹吸管)的辐射元件所采用的现有的高温水的供给装置的同时,在正在翻修或改造的部分中选择辐射地板元件。为了实现这一点,同时也为了避免高温水的使用导致管道发生故障或地板劣化的情况,必须设置专门用于地板供热的相关系统设备(例如混合系统、流体循环器等),然而,这种方法昂贵且复杂,并且可以证明在经济角度上对于正被改造或翻修的建筑物的单个部分(例如,只有一个房间)而言是不方便的。
在这些情况下,已知的解决方案包括:直接从高温回路(已经存在于系统中)分引新的分支并且辐射地板管道从这个新的分支延伸。辐射地板管道在地板下面依循其路径随后再次返回到已经存在的回路中。很显然,这种直接分支需要能够使该直接分支获得并维持辐射管道中的水的正确温度的装置,其中,辐射管道中的水的正确温度必须低于高温回路中水的温度。
根据已知的解决方案,这种装置可以包括阀装置,该阀装置在本领域中被称为“极限温度控制器”。该装置包括位于管路上的恒温阀并且设置有温度敏感元件,该温度敏感元件根据管路中的流体的温度与阀已经设定的参考温度之间的差成比例地控制阀的打开或关闭:温度差越大,阀的开度越大,并且因此流经阀的水的流量越大。通常地,极限温度控制器包括用于选择参考温度的旋钮;当组装有控制器的管路中的水的温度达到参考温度时,阀完全关闭并且没有水通过。
在已知的解决方案中,极限温度控制器在朝向锅炉返回之前位于辐射地板管路的出口处,但是流量调节元件不设置在辐射管路的直接从高温回路分引的入口处。然后,控制器的参考温度被设定为例如约30℃。当系统打开(在地板管路冷却的情况下)时,来自高温回路的高温水(例如,60℃至70℃)进入地板管路并开始供热。因此,在辐射管路中存在初始温度峰值,然而,这个峰值具有短的持续时间,原因在于,极限温度控制器在辐射管路的出口处开始接收热水的流并逐渐地关闭直至极限温度控制器完全关闭为止,从而阻挡了流在地板管路中的循环。这防止了额外的高温水进入辐射管路并防止了损坏地板或对房间过度地供热。当高温水在地板管路内部行进并随着时间的推移,地板管路中的热水朝向房间释放热并因而被冷却。因此,由极限温度控制器感知到的温度下降到参考温度以下,其中,该参考温度已经被设定为例如约30℃。因而,控制器重新打开并使得一定量的水能够离开地板管路,并且这引入了流经地板管路的等量的流入高温水并维持正确的供热水平。当运行时,该系统找到一个平衡:其中,控制器在一段时间内允许离开管路的水的流量非常有限;因此,即使流入水的温度总是非常高,但流入水的流量是有限的。通常地,由于极限温度控制器对水通过辐射管路的流动进行管控,则辐射管路所获得的平均温度对于地板设备而言是适当的(即,不是太高)并且对于空间的有效供热而言是适当的(即,不要太低)。
因而,上文所描述的解决方案使得能够将地板供热系统的一部分直接地连接至在高温下操作的系统,从而在任何情况下获得地板上的合适温度。
然而,申请人已经注意到,这种已知的解决方案不是没有缺点,而是可以在各个方面加以改进。
事实上,极限温度控制器的操作在理论上使得能够找到离开辐射管路的水(已经释放热并因而降温)与进入辐射管路的新水(在高温下)之间的流体动力学平衡点。然而,在实际中,极限温度控制器被连接至回路的其它部件或者被包括在供热设备的内部,在供热设备中存在附加的阀、集合器、管道、泵等并且这些附加的阀、集合器、管道、泵等需要用于整个供热系统的操作,整个供热系统通常还包括在高温下操作的部分和在低温下操作的部分。通常地,供热设备由位于房间中或者被应用于墙或者内置于在墙中提供的隔间中的特定壳体构成。供热设备还设置有使得能够进入到供热设备的门。
在这种状态下,极限温度控制器因而操作成与系统的流动有高温水的元件相接触或操作成邻近于系统的流动有高温水的元件,所述流动有高温水的元件例如是高温供热部件的管道或阀,并且甚至可以达到80℃及超过80℃的温度。因此,整个供热设备内部的温度趋向于升高(例如,高达40℃并超过40℃)并且极限温度控制器的本体也受到这种不期望供热效果的影响。这对于辐射地板管道的适当的操作构成了严重的障碍。事实上,让我们假设极限温度控制器从辐射管路的端部接收的水的温度等于极限温度控制器所设定的参考温度,并且极限温度控制器因此进入关闭构型中。随着时间的推移,辐射地板管道冷却(因为辐射地板管道将热传给房间)并且控制器应当感知到处于较低温度的水(流入设极限温度控制器的水)。然而,尽管存在地板管路已经冷却的事实,但停止在控制器的入口处的水由于供热设备的整体(即,整个壳体)供热而被加热并且控制器内部的敏感元件继续感知到水的高温。这阻止了极限温度控制器阀打开,并且因此水不能离开辐射管路且新的热水不能从高温回路的分支点进入。结果是降低了辐射管路的温度,并且因此即使在整个系统实际操作的情况下,空间的供热也不充分。
注意的是,尽管存在辐射管路正在冷却(并且需要一定量的高温水进入)的事实,但是供热设备内部的加热以及由此导致的极限温度控制器的不期望“锁定”是存在的,这与供热设备的结构类型无关并且与系统的高温部分如何操作无关。
这个缺点在室外温度非常严寒的地方深受关注,在这些地方,系统必定用非常高的温度的水进行操作;这会增加供热设备内部的部件的过热并因而还增加极限温度控制器的过热。在某些情况下,人们需要等待直至供热设备冷却为止才能再次依靠极限温度控制器的正确操作。
发明内容
在这种情况下,本发明在其各个方面和/或实施方式中隐含的目的是提供可以克服上述一种或更多种缺陷的用于调节供热系统的装置和方法。
本发明的另一个目的是提供一种用于调节供热系统的调节装置,该调节装置能够在供热设备内部或者邻近于供热系统的在高温下操作的部件正确地操作。
本发明的另一个目的是提供能够有效地将辐射地板管道连接至高温回路的用于调节供热系统的装置和方法,从而实现对操作温度和管道内部的流动的适当管控。
本发明的另一个目的是提供一种用于调节供热系统的调节装置,所述装置的特征在于高度的通用性,并且所述装置能够适应大量和各种不同类型的供热设备。
本发明的另一个目的是提供一种用于调节供热系统的调节装置,所述装置的特征在于高度的操作可靠性和/或较低的易受损坏和故障的特性和/或能够提供简单且快速的维护和更换。
本发明的另一个目的是提供一种用于调节供热系统的调节装置,该调节装置的特征在于简单合理的结构。
本发明的另一个目的是提供一种用于调节供热系统的调节装置,该调节装置的特征在于相对于所提供的性能和质量的有限的制造成本。
本发明的另一个目的是创建相对于现有技术的替代性解决方案,以实现用于调节供热系统的调节装置和/或开拓新的设计领域。
本发明的另一个目的是提供一种能够允许新的供热系统设计的调节装置。
应当从以下描述中显示出的这些和其他目的基本上由根据所附权利要求中的一个或更多个权利要求的以及根据以下各方面和/或各实施方式的用于调节供热系统的调节装置、包括该装置的供热系统以及用于调节供热系统的方法来实现,其中的每个权利要求被单独考虑(不考虑其相关的从属权利要求)或者与其他权利要求相结合考虑,并且以下各方面和/或实施方式以各种各样的彼此组合来考虑,也与前述权利要求相结合考虑。
在第一方面,本发明涉及一种用于调节供热系统的调节装置,该调节装置包括:
-装置的本体,该本体设置有:至少一个入口,所述至少一个入口用于连接至管路以接收来自管路的流体;出口,该出口用于连接至相应的管路以将流体输送至相应的管路;以及拦截区域,该拦截区域位于所述本体内,该拦截区域置于所述入口与所述出口之间并且将所述入口与所述出口连接,以使得所述入口和所述出口能够被选择性地设定为彼此流体连通;
-阀元件,该阀元件可以至少部分地容置在装置的本体的内部并且在所述拦截区域中操作性地起作用,所述阀元件构造成以多个操作构型操作,以根据在所述入口处的流体的被感知到的温度与所述阀元件配置的参考温度之间的温度差改变从所述入口流经所述拦截区域传送至所述出口的流体的流量。
在一个方面,所述多个操作构型包括关闭构型和至少一个最大孔口构型(或在至少一个最大孔口构型与关闭构型之间的范围内),在所述至少一个最大孔口构型中,存在从所述入口传送至所述出口的流体的最大流量,并且所述关闭构型与在入口处的流体的所述被检测到的温度等于或高于所述参考温度的状态相对应。
在一个方面,在所述关闭构型中,存在(或者设想)从所述入口传递至所述出口的流体的残余流量,所述残余流量严格地大于零。
在一个方面,阀元件包括用于选择所述参考温度的构件,使得当流入所述入口的流体达到或超过该参考温度时,阀元件被带入所述关闭构型中。
在一个方面,在所述关闭构型中,从所述入口传递至所述出口的流体的所述残余流量包括在1升/小时与10升/小时之间。
在一个方面,在所述关闭构型中,从所述入口传递至所述出口的流体的所述残余流量包括在2升/小时与8升/小时之间。
在一个方面,在所述关闭构型中,从所述入口传递至所述出口的流体的所述残余流量包括在3升/小时与6升/小时之间。
在一个方面,在所述关闭构型中,从所述入口传递至所述出口的流体的所述残余流量包括在3.5升/小时与5升/小时之间。
在一个方面,所述阀元件包括恒温元件(或恒温阀),该恒温元件插入到所述本体中并且包括可动挡板,该可动挡板构造成根据所述多个操作构型移动成更靠近限定在所述拦截区域中的通路部段以及移动远离该通路部段,以改变从所述入口传送至所述出口的流体的所述流量。
在一个方面,所述挡板构造成在于入口处的流体的被感知到的温度与所述参考温度之间的差减小时移动成更靠近通路部段,从而减小所述流量,并且所述挡板构造成在于入口处的流体的被感知到的温度与所述参考温度之间的差增加时移动远离通路部段,从而增大所述流量。
在一个方面,在所述关闭构型中,在拦截区域中在所述阀元件处存在流体的受控泄漏,所述泄漏决定了流体的所述残余流量从所述入口至所述出口的通过。
在一个方面,所述泄漏确保了流体的所述残余流量在阀元件的每个操作构型下并且特别地在所述关闭构型下传递。
在一个方面,所述阀元件包括温度敏感型恒温器,所述恒温器构造成根据恒温器感知到的温度改变恒温器的尺寸,所述挡板与所述恒温器相关联或者受到所述恒温器的限制。
在一个方面,恒温器轴向地插入到所述本体中,以至少部分地占据所述拦截区域,并且恒温器构造成根据在所述入口处的流体的如由恒温器自身感知到的温度来改变恒温器自身的长度。
在一个方面,恒温器的长度在所感知到的温度升高时增大,从而使所述挡板更靠近通路部段,并且恒温器的长度在所感知到的温度降低时减小,从而使所述挡板远离通路部段。
在一个方面,当阀元件被带入所述关闭构型中时,挡板移动成抵接在所述通路部段上。
在一个方面,挡板呈大致盘状或环状形状,并且挡板围绕恒温器定位并优选地相对于恒温器的纵向延伸部同轴地定位。
在一个方面,挡板具有下表面和与所述下表面相反的上表面,该下表面面向限定在拦截区域中的所述通路部段且优选地呈圆环形冠状形状。
在一个方面,恒温器定位在所述拦截区域中以穿过所述通路部段,从而在恒温器与装置的本体的内壁或阀元件的内壁之间留出优选地呈环形的通道空间。
在一个方面,随着恒温器长度减小(在所感知的温度降低时),所述下表面移动远离所述通路部段,并随着恒温器长度增加(在所感知的温度升高时),所述下表面移动成更靠近通路部段,并且在阀元件被带入关闭构型中时所述下表面移动成抵接在所述通路部段的优选地呈环形的周缘表面上。
在一个方面,下表面具有从下表面(朝向上表面)凹入的至少一个中空部分,使得在挡板被定位成抵接在通路部段的周缘表面上时也就是在阀元件被带入关闭构型中时,在所述通路部段中在所述周缘表面与所述至少一个中空部分之间获得了自由通道(即使在挡板抵接在通路部段的周缘表面上的情况下也是如此),通过该自由通道,实现了流体的所述残余流量从装置的入口至装置的出口的通过。
在一个方面,装置的本体包括在所述入口与所述出口之间延伸的且将所述入口连接至所述出口的旁通管路或旁通通路,并且所述旁通管路或旁通通路构造成确保流体的所述残余流量在阀元件的每个操作构型中并且特别地在所述关闭构型中的传递。
在一个方面,所述旁通管路被限定在所述拦截区域处或者被限定在所述拦截区域附近。
在一个方面,所述旁通管路被限定在所述通路部段处或者被限定在所述通路部段附近。
在一个方面,所述旁通管路在所述本体内限定在所述恒温阀处并且特别地限定在所述恒温器和/或所述挡板处。
在一个方面,所述旁通管路构造成将存在于所述恒温阀的紧上游的流体以与流体的所述残余流量相等的流量朝向所述出口传递。
在一个方面,所述阀元件的每个操作构型中存在从所述入口传递至所述出口的流体的所述残余流量。
在本发明的独立方面,本发明涉及一种供热系统,该供热系统包括根据上述方面中的一个或更多个方面的用于调节供热系统的调节装置。
在一个方面,供热系统包括用于地板设备的并构造成对空间供热的至少一个辐射管道,所述辐射管道在入口端部与出口端部之间延伸,其中,该入口端部用于直接地与高温流体源流体地(液压地)连接以接收来自该高温流体源的高温流体,并且该出口端部用于与引导至热发生器的低温回路流体地(液压地)连接以允许低温流体进入热发生器中,所述管道包括位于所述入口端部与所述出口端部之间的盘绕部分,该盘绕部分构造成将来自流动于盘绕部分中的流体的辐射热向外传输。
在一个方面,用于调节供热系统的调节装置位于所述盘绕部分的下游并且位于辐射管道的所述出口端部的上游,以便拦截流动在所述管道中的流体的流,其中,调节装置的入口接收来自所述盘绕部分的流体,装置基于装置的阀元件的操作构型将该流体的流量传输至装置的出口,并且装置的出口与辐射管道的所述出口端部流体地连接。
在一个方面,供热系统还包括用于空间的温度控制的恒温阀,该恒温阀优选地为恒温头并沿着所述辐射管道位于在所述调节装置的下游的位置处,所述用于空间的温度控制的恒温阀构造成能够为安装有供热系统的空间选择期望的温度并因此根据在空间中检测到的温度与用于空间的所述期望温度之间的差或者与该差成比例地对辐射管道中循环的流体的流量进行调节。
在本发明的独立方面,本发明涉及一种用于调节供热系统的方法,该方法包括以下步骤:
-布置用于地板设备的并构造成对空间供热的辐射管道,所述辐射管道在入口端部与出口端部之间延伸,其中,该入口端部用于与高温流体源直接地流体连接以接收来自该高温流体源的高温流体,并且该出口端部用于与热发生器流体地连接,以允许低温流体进入热发生器,所述管道包括位于所述入口端部与所述出口端部之间的盘绕部分,该盘绕部分构造成将来自流动于盘绕部分中的流体的辐射热向外传输;
-布置至少一个根据上述方面中的一个或更多个方面的用于供热系统的调节装置。
在一个方面,在布置至少一个装置的步骤中,所述至少一个装置位于所述盘绕部分的下游和位于所述辐射管道的所述出口端部的上游,以便拦截在所述管道中流动的流体的流,其中,调节装置的入口接收来自所述盘绕部分的流体,并且装置基于装置的阀元件的操作构型将该流体的流量传递至装置的出口,并且装置的出口与辐射管道的所述出口端部流体地连接。
在一个方面,该方法还包括使流体在所述辐射管道中循环的步骤,其中,从调节装置的入口流经所述拦截区域传送至出口的流体的流量是在所述入口处的流体的被感知到的温度与阀元件配置的参考温度之间的温度差的函数或者与在所述入口处的流体的被感知到的温度与阀元件配置的参考温度之间的温度差成比例,并且其中,从调节装置的入口传送至出口并朝向辐射管道的所述出口端部输送的流量与辐射管道的所述入口端部处的流入流量相等。
在一个方面,使流体在所述辐射管道中循环的所述步骤包括以下步骤:(至少)当阀元件处于所述关闭构型时,保持从调节装置的入口传递至出口的流体的大于零的残余流量。
在一个方面,在保持流体的残余流量的所述步骤中,流体的残余流量包括在2升/小时与8升/小时之间和/或包括在3升/小时与6升/小时之间和/或包括在3.5升/小时和5升/小时之间。
在一个方面,在保持流体的残余流量的所述步骤中,该残余流量使流体连续地再循环通过调节装置,即使在调节装置处于关闭构型的情况下也是如此。
在一个方面,在保持流体的残余流量的所述步骤中,通过使流体在拦截区域中于所述阀元件处泄漏来实现流体从入口至出口的通过。
本发明的上述方面中的每个方面可以单独考虑,或者与权利要求中的任一项相结合考虑,或者与所描述的其它方面相结合考虑。
附图说明
根据对多个示例性但非排他性的实施方式的详细描述,另外的特征和优点将变得更加明显,这些实施方式中还包括根据本发明的用于调节供热系统的装置和方法以及供热系统的优选实施方式。下文参考附图来提供描述,所提供的描述仅仅是为了提供大致的因而非限制性的示例,并且在附图中:
-图1示意性地示出了根据本发明的供热系统的一个可能的实施方式,该供热系统包括根据本发明的调节装置;
-图2为在图1中显示的供热系统的一部分的放大图;
-图3示出了根据本发明的用于调节供热系统的调节装置的可能的实施方式,该调节装置例如被插入到供热设备的壳体的内部,该供热设备是供热系统的可能的实施方式的一部分;
-图4示出了容纳在图3中显示的壳体中的各元件并且特别地调节装置;
-图5为图4中示出的各元件沿着平面V-V截取的截面图;
-图5A是图5中示出的调节装置的截面的细节的放大图;
-图6是图4中显示的部件的俯视图;
-图7是图6中示出的元件沿着平面VII-VII截取的截面图,其中,调节装置的阀元件处于部分打开的操作构型;
-图7A是图7中示出的调节装置的截面的细节的放大图;
-图8是图6中示出的元件沿着平面VII-VII截取的截面图,其中,调节装置的阀元件处于关闭构型;
-图8A是图8中示出的调节装置的截面的细节的放大图;
-图9示出了根据本发明的用于调节供热系统的调节装置的可能的实施方式,该调节装置例如被插入到供热设备的内部,该供热设备是供热系统的可能的实施方式的一部分;
-图10示出了容纳在图9中显示的供热设备中的调节装置;
-图11是图10中示出的调节装置的沿着平面XI-XI截取的截面图;以及
-图11A是图11中示出的调节装置的截面的细节的放大图。
具体实施方式
参照所列举的附图,根据本发明的用于调节供热系统的调节装置整体上由附图标记1表示。通常地,相同的附图标记用于表示相同或相似的元件,也可能表示在本发明的变型实施方式中的相同或相似的元件。
装置1用于插入到供热系统内以为了达到对不同温度下交换的流体流进行管控的目的。更详细地,优选地,装置1可以在供热系统的用于地板设备的且构造成以低温水操作的一部分的环境中使用,但是该低温水也由高温水供热回路供给。
在本文中,根据本部分所采用的术语,术语“低温水”被理解为用于对空间供热的通常温度在约25摄氏度至50摄氏度的水,而“高温水”被理解为由锅炉或类似单元供给的或者在高温系统中循环的通常温度在约60摄氏度至80摄氏度的水。
首先,如图1、图3、图4、图7、图8和图10所示,调节装置1包括本体2,本体2设置有至少一个入口3、出口4和拦截(或通道)区域5。
入口3用于连接至管路以接收来自管路中的流体,而出口4用于连接至相应的管路以将流体输送至相应的管路;因而,该装置构造成能够实现流体的沿着从入口至出口的方向的适当地经调节的通过。拦截区域5位于本体2的内部并置于入口与出口之间以将入口和出口连接,使得入口和出口可以选择性地设置为彼此流体连通。
在本说明书的范围内,术语“流体”通常是指供热系统或管道系统中的水。
入口和出口在装置的本体中构成了向外的开口,并且入口和出口各自具有用于连接至管道系统的管路、管道或其它元件的合适装置;这种连接装置可以是已知的类型例如带螺纹件、压配件等。
装置1还包括阀元件10,阀元件10至少部分地容置在本体2的内部并且在拦截区域5中操作性地起作用。阀元件10构造成以多个操作构型操作,以根据在所述入口处的流体的被感知到的温度与所述阀元件配置的参考温度之间的温度差改变从入口3流经拦截区域5传送至出口4的流体的流量。
多个操作构型包括至少:
-最大孔口构型,在该最大孔口构型中,存在从入口3传送至出口4的流体的最大流量;和
-关闭构型,该关闭构型与其中在入口处的流体的被检测到的温度等于或高于参考温度的状态相对应。
本质上,装置1特别地为极限温度控制器,这是因为极限温度控制器能够与在入口处的流体的温度与参考温度之间的差成比例地对从入口穿过极限温度控制器至出口的流量进行管控;参考温度构成了“极限”温度,假定当流入流体达到该参考温度时,阀元件被带入关闭构型中。
另外,根据本发明的装置1构造成使得在所述关闭构型中存在从入口传递至出口的流体的残余流量,并且该残余流量严格地大于零。
在本发明的范围内,表述“根据温度差”可以被理解为“与温度差成比例地”。此外,表述“在入口处的流体的被感知到的温度”可以被理解为“在入口处的流体的由阀元件检测到的温度”。
优选地,在关闭构型中,从入口3传递至出口4的流体的所述残余流量包括在1升/小时与10升/小时之间。
从入口传递至出口的流体的所述残余流量可以被限制在包括在2升/小时与8升/小时之间的范围内、或者限制在包括在3升/小时与6升/小时之间的范围内、或者甚至限制在包括在3.5升/小时与5升/小时之间的范围内。
如在图7和图8中作为示例所示,阀元件10优选地包括恒温阀11(或者恒温元件),恒温阀11插入到本体中并包括可动挡板15,可动挡板15构造成根据所述多个操作构型移动成更靠近限定在拦截区域中5的通路部段20以及移动远离该通路部段20,以改变从入口3传送至出口4的流体的流量。
更详细地,挡板15优选地在于入口3处流体的被感知到的温度与参考温度之间的差减小时移动成更靠近通路部段20,从而减小流量,并且挡板15在于入口3处流体的被感知到的温度与参考温度之间的差增大时移动远离通路部段20,从而增大流量。
根据下文中详细说明的可能的实施方式,在关闭构型中,在拦截区域中于阀元件处存在流体的受控泄漏;该泄漏决定了流体的所述残余流量从入口至出口的通过。
优选地,流体的泄漏发生在挡板15与通路部段20之间,并且该泄漏决定了流体的所述残余流量从入口至出口的通过。
在本发明的范围内,表述“流体的受控泄漏”被理解为流体的有意泄漏,也就是适当量的流体的泄漏。本质上,所述泄漏确保了流体的所述残余流量在阀元件的每个操作构型中特别地在所述关闭构型中被传递。
优选地,恒温阀11包括温度敏感型恒温器12。该恒温器12构造成根据恒温器感知到的温度改变恒温器12的尺寸。恒温器可以是已知的类型例如蜡型恒温器、气体型恒温器或液体型恒温器。挡板15优选地与恒温器12相关联或者受到恒温器12的限制。
恒温器12优选地轴向地插入到本体2中以至少部分地占据拦截区域5,并且恒温器12根据在入口3处流体的温度改变恒温器自身的长度。
更详细地,恒温器的长度在所感知的温度升高时增大,从而使挡板15更靠近通路部段20,并且恒温器的长度在所感知的温度降低时减小,从而使挡板15远离通路部段20。
优选地,阀元件10包括用于选择所述参考温度的构件,使得当流入入口3的流体达到或超过该参考温度时,阀元件被带入关闭构型中。
优选地,用于选择参考温度的构件可以包括旋钮13,旋钮13在恒温器12上起作用,以改变恒温器12的在装置本体内部的轴向位置,从而使挡板15更靠近或远离通路部段,其中,挡板的靠近运动决定参考温度的下降,并且挡板的远离运动决定参考温度的上升。事实上,挡板远离通路部段的运动需要更大的热膨胀以便达到关闭构型并且因此需要入口处的温度的更大增加。相反地,挡板的更靠近通路部段的运动需要较小的热膨胀以便达到关闭构型并且因此使得在入口处的温度较少增加。
因而,装置1以如下方式工作:装置1连接至将水输送至入口3的管路,并且连接至接收来自出口4的水的附加管路,并且参考温度也由于例如旋钮的作用被设定。阀元件10被流入入口3的水润湿并感知到水的温度。阀元件根据入口处的水的温度与参考温度之间的差以规定的操作构型操作,也就是说,阀元件允许从入口3传送至出口4的流体的更高或更低的流量。
随着入口处的温度逐渐升高以趋近于设定值,恒温器12的长度增加。恒温器长度的增加促使挡板15的下降直至挡板15抵靠在通路部段上为止,即达到关闭构型为止,并且由于入口处的温度等于或高于所设定的参考温度(因此,参考温度在所有方面都是“极限”温度),所以该关闭构型被保持。在任何情况下,在这种构型中,本发明的装置1包括例如借助于挡板与通路部段之间的泄漏使水的残余流量通过。
“残余流量”的通过可以有利地借助于图4至图8中的示例性实施方式来实现,该示例性实施方式包括能够实现受控泄漏的挡板的结构。
在这些附图中,装置1的各个部件是可见的:本体2、入口3、出口4、拦截区域5、阀元件10、恒温阀11、恒温器12、旋钮13、挡板15和通路部段20。
图7中显示的部分示出了处于部分打开构型的装置。能够注意到(参见图7A中的细节)存在于挡板与通路部段之间的轴向距离,这能够实现水的流量从入口至出口的通过。
挡板15优选地呈大致环状(或盘状)形状,并且挡板15优选地围绕恒温器12定位并优选地相对于恒温器的纵向延伸部同轴地定位。
挡板优选地具有下表面16和与下表面16相反的上表面18,下表面16面向限定在拦截区域5中的通路部段20且优选地呈圆环形冠状形状。
在图7和图8中可以看出,恒温器12优选地定位在拦截区域5中以穿过通路部段20,从而在恒温器与装置的本体2的内壁或阀元件10的内壁之间留出优选地环形通路空间。
根据已经描述的关于入口处的水的温度对阀元件的操作的影响的情况,随着恒温器12的长度减小(在所感知到的温度降低时),下表面16移动远离通路部段20,并随着恒温器长度增加(在所感知到的温度升高时),下表面16移动成更靠近通路部段20,并且在阀元件被带入关闭构型中时,下表面16移动成抵接在通路部段20的周缘表面25上。
周缘表面25优选地呈环状形状,并且周缘表面25在与装置的本体和恒温器的纵向延伸部大致垂直的平面中延伸,也就是在与恒温器的膨胀和收缩的方向正交的平面中延伸。
本质上,围绕通路部段20延伸的周缘表面25构成用于挡板的座部,其中,当阀元件处于关闭构型时,挡板的下表面至少部分地抵接在该座部上。
图5中示出的截面和图5A中显示的放大部示出了能够获得上述受控泄漏的示例性实施方式,其中,流体的残余流量借助于该受控泄漏从装置的入口3传递至装置的出口4。根据该实施方式,下表面16具有从下表面(朝向上表面18)凹入的至少一个中空部分30,使得在挡板定位成抵接在通路部段的周缘表面25上时,也就是在阀元件处于关闭构型时,在通路部段20中在周缘表面25与中空部分30之间获得了自由通道31,通过该自由通道31,实现了流体的所述残余流量从装置的入口至装置的出口的通过。尽管挡板实际上抵接在周缘表面25上,但该通道31被限定在挡板的下表面与通路部段之间。
挡板15的下表面16可以优选地具有两个中空部分30,例如,两个中空部分30相对于恒温器而在直径方向上对置,其中,该挡板围绕恒温器紧固;在这种情况下,实现了用于使流体通过的两个通道31。
本质上,在假定挡板除了中空部分之外(或者在存在多于一个的中空部分的情况下则除了多个中空部分之外)的整个下表面都可以抵接在周缘表面上并因而拦截通路部段的任何情况下,中空部分30(或多个中空部分)的存在也能够实现流体的通过,即使同时确保挡板15的下表面16的靠置部分抵接在通路部段20上也是如此。
在这方面参见图5和图5A。这些附图示出了围绕恒温器布置的环形挡板15。沿着挡板的下表面的直径实现了两个中空部分并且所述两个中空部分从下表面的外侧朝向下表面的内侧延伸直至恒温器。两个中空部分表示挡板材料从下表面朝向上表面开始的移除即从附图平面向内开始的移除。
这导致产生了图8和图8A的截面图中示出的状态,图8和图8A示出了处于关闭构型的装置。该截面图穿过装置的中央平面(如图6所示)截取并因而截取图5和图5A中示出的两个中空部分。因此,在图8和图8A中可以观察到,在中空部分30处,下表面被证明与通路部段20的周缘表面25间隔开,并且因而实现了用于使流体的所述残余流量通过的通道31。然而,不受中空部分影响的下表面部分抵接在通路部段20的周缘表面25上。
因此,该技术方案使得即使在关闭构型下也能够实现流体的受控泄漏。
以相同的方式,挡板的下表面可以具有优选地均匀分布在下表面上的多个中空部分。
除了所述至少一个中空部分之外(或者如果存在多于一个的中空部分则除了多个中空部分之外),挡板的下表面优选地为平面的和/或平滑的。
优选地,所述至少一个中空部分的深度即从挡板的下表面凹入的距离可以小于3mm、或小于2mm、或小于1mm、或小于0.5mm或小于0.2mm。
根据可能的实施方式(未示出),所述泄漏可以在装置的附加位置处实现且特别地在拦截区域5中的位置处实现。
在这方面参见图7和图8。阀元件10可以由恒温芯轴或恒温阀芯构成,并且阀元件10包括:容置恒温阀11的容纳结构件40;具有用于选择参考温度的装置(即在恒温器12和保持弹簧上作用的杆)的旋钮13、和具有挡板15的恒温器12。容纳结构件40插入到装置的本体2中,以使得恒温阀被证明为正确地定位在本体的内部中,恒温器在拦截区域中起作用。在容纳结构件40与本体2的内壁6之间存在一个或更多个垫圈,以使得恒温芯轴或恒温阀芯能够适当地安装在装置的本体中。装置优选地包括垫圈41,该垫圈41置于阀元件10的外侧(例如,所述恒温芯轴的结构件40)与本体2的内侧之间并位于入口3与出口4之间的所述拦截区域中。
实现流体的所述残余流量的流体泄漏可以发生在阀元件10的外侧与本体2的内壁之间,并且特别地,该流体泄漏可以在不存在置于这两个元件之间的垫圈的情况下发生。替代性地,泄漏可以在所述垫圈41处发生;为此目的并且作为示例,垫圈41的尺寸可以变小,但不会影响阀元件与装置本体之间的完美密封,并因此能够使流体的残余流量通过。
应注意的是,在图7和图8中显示的实施方式中,阀元件被插入到截留区域中,其中,容纳结构件40抵靠在装置的本体2的内壁6上,并且通路部段20除了位于本体2的内部也位于容纳结构件40的内部。
在另外可能的变型中,可以通过在挡板抵接在由通路部段的周缘表面构成的座部上时防止挡板实现完全密封并且通过替代地提供了不是最佳的并使得通过的流体等于所述残余流量来实现受控泄漏。
在可能的实施方式中(未示出),该装置的本体包括旁通管路或旁通通路,该旁通管路或旁通通路在入口与出口之间延伸并将入口连接至出口,并且该旁通管路或旁通通路构造成确保流体的所述残余流量在阀元件的每个操作构型中特别地在关闭构型中的传递。
优选地,旁通管路被限定在拦截区域处或者被限定在所述拦截区域附近。特别地,旁通管路优选地被限定在通路部段处或者被限定在通路部段附近。甚至更优选地,旁通管路在所述本体内被限定在恒温阀处并特别地被限定在恒温器和/或挡板处。优选地,旁通管路构造成将存在于恒温阀的紧上游的流体以与流体的所述残余流量相等的流量朝向出口传递。
优选地,在阀元件的每个操作构型中存在从入口传递至出口的流体的所述残余流量。
优选地,用于使所述残余流量通过的旁通管路构成所述受控泄漏的替代性实施方式,而与本体内部发生泄漏的位置或者用于获得泄漏的过程无关。
特别地,旁通管路优选地是挡板的下表面上的中空部分的替代方案,或者无论由阀元件所采取的操作构型如何,旁通管路进行操作。在这种情况下,在存在旁通管路的情况下,挡板在阀元件处于关闭构型时可以实现对通路部段的完全密封。
装置的本体2优选地被制成为单件式或整体式结构。装置的本体2优选地通过单个铸造过程来获得,优选地通过铸造诸如黄铜的金属材料来获得。
下面描述了根据本发明的供热系统100。在这方面参见图1,图1以示例的方式示意性地示出了该系统。
供热系统100包括用于地板设备的并构造成对空间供热的至少一个辐射管道70。辐射管道70在入口端部71与出口端部72之间延伸,入口端部71用于与高温流体源流体地连接以接收来自该高温流体源的高温流体,出口端部72用于与热发生器连接以允许低温流体进入在热发生器中。辐射管道70包括位于入口端部与出口端部之间的盘绕部分75,该盘绕部分75构造成将来自流动于盘绕部分中的流体的辐射热向外传输。
如图1所示,高温流体源可以是锅炉的输送管路或高温水回路101,并且低温返回部可以是通向锅炉的返回管路102。
入口端部71优选地与高温流体源直接地连接,而不需要插入阀或调节器,也就是说,入口端部71被直接从高温回路101分支出来。
装置1优选地位于盘绕部分75的下游并且位于辐射管道的出口端部72的上游,以便拦截在管道中流动的流体的流。装置1的入口3接收来自盘绕部分75的流体,装置1基于阀元件10的操作构型将该流体的流量传输至出口4,并且出口4与辐射管道70的出口端部72连接。
如图1所示,供热系统100优选地是用于对空间供热的系统,并且除了辐射地板管道70之外,供热系统100还包括系统的高温部90。在这种情况下,系统的高温部90直接从高温水回路101分支出来,供给一个或更多个热虹吸管91,并随后直接进入返回管路102中返回到锅炉。
就更一般的情况而言,该系统可以包括多个分支和多个部分,例如,每个分支和部分被用于建筑物或住宅内部的不同房间。
如在图1中和在图2中显示的放大部分所示,盘绕部分75在平面图中优选地成形为双螺旋形式,使得该盘绕部分的起始部76和结束部77被证明为相对于彼此邻近,即彼此靠近并处于双螺旋自身的外侧。根据这种构型,双螺旋包括第一螺旋78或出发螺旋以及第二螺旋79或返回螺旋,第一螺旋78或出发螺旋从盘绕部分的起始部76延伸至盘绕部分的中心位置80,并且第二螺旋79或返回螺旋从盘绕部分的中心位置80延伸至盘绕部分的结束部77;中心位置将第一螺旋78和第二螺旋79连接且由第一螺旋78和第二螺旋79共用。
第一螺旋78和第二螺旋79优选地以使得第一螺旋78和第二螺旋79相对于彼此夹置或交替的双螺旋的方式布置。这实现了第一螺旋的盘绕部和螺旋匝与第二螺旋的盘绕部和螺旋匝的从双螺旋的外侧到内侧的交替。
这种地板管道的“双螺旋”设备使得可以实现与调节装置1相结合的系统的最佳操作。事实上,当系统接通时,在装置1位于辐射管道70的结束部处的情况下,水在高温下进入入口端部71以填充盘绕部分75;这导致装置1进入关闭构型中并且除了所述残余流量之外不允许另外的水进入。这是由于水是不可压缩的流体的事实,因而明显的是,为了满足流体动力学平衡的要求,另外的水不被允许进入盘绕部分75中,除非相等流量的水已经排出该盘绕部分。
当辐射地板管道逐渐冷却时(假定辐射地板管道将热传输到空间),盘绕部分75中的温度下降并且因而温度低于阀元件已经设定的参考温度的水到达装置1的入口。这导致装置打开,从而使一定量的(冷却)水从出口4离开,由此决定了允许等量的高温水进入到辐射管道的入口端部71中。
通常地,在运行时,地板辐射管道中的流动非常缓慢,但是这能够维持空间中所需的温度。
在这点上,由盘绕部分75所采取的双螺旋形状使得能够在盘绕部分自身的外侧具有最大温度圈或最大温度盘绕部(最大温度圈或最大温度盘绕部为第一螺旋78即出发螺旋的一部分);该双螺旋形状沿着该最大温度圈或最大温度盘绕部朝向盘绕部分的内侧行进,存在最小温度圈或最小温度盘绕部(即,作为第二螺旋79即返回螺旋的一部分的最后一圈)。然后,双螺旋形状以相同的方式朝着盘绕部分的中心位置80行进,其中,处于降低的温度的出发螺旋的螺旋匝和处于升高温度的返回螺旋的螺旋匝交替(假定顺序被描述为从外向内)。以这种方式,双螺旋形状使得存在于出发螺旋中的温度(从外向内减小)与存在于返回螺旋中的温度(从内向外减小)能够平衡,并且能够获得最均匀的地板温度分布的可能性。
在图1至图8中示出的一个可能实施方式中,供热系统100还包括用于空间的恒温控制的恒温阀50,该恒温阀50优选地为恒温头并沿着辐射管道70位于在调节装置1的下游的位置处。用于空间的温度控制的恒温阀50构造成能够为安装有供热系统的空间选择期望的温度并因此根据在空间中检测到的温度与用于空间的期望温度之间的差(或者与该差成比例地)对在辐射管道70中循环的流体的流量进行调节。实质上,该实施方式包括装置1和恒温阀50两者的使用。事实上,如果装置1负责当供给水处于高温时对水至辐射管道70中的流入进行管控从而确保管道中的正确温度并避免损坏地板,则使用者通常希望能够对存在于房间内的实际温度进行设定和控制,其中,辐射管道在该房间中延伸。事实上,房间内的舒适性是通过能够对所感知到的室内温度进行管控所获得的而不是通过对盘绕部分75中循环的水的温度(盘绕部分75中循环的水的温度具有与所辐射的用于供热的热有关的技术作用)进行管控所获得。
换句话说,获得了两种独立的温度控制:一种是由装置1提供的对辐射管道中的水的控制,以及一种是借助于恒温阀50的对空间的控制。
图1至图8示出了与阀51相结合的装置1,阀51可以被恒温地控制并且可以与恒温头50相关联,恒温头50直接地安装在阀上或者处于相隔较远的位置。在这种情况下,装置1的本体2和可被恒温地控制的阀51的相应本体52可以被制成为单件。装置1和可以被恒温地控制的阀51被容置在本领域已知类型的特定壳体55的内部。
图9示出了不同的实施方式,该不同的实施方式根据本领域已知的过程提供了调节装置1在供热设备95内部的使用,供热设备95被插入到壳体或柜中并且例如被嵌入到壁隔室中。供热设备包括多个元件,多个元件包括管道、集合器、阀、安装支架等。这些元件负责对供热系统的多个部分进行管控,该供热系统可以是混合型的并且包括在高温下操作的部分或分支(包括热虹吸管)以及在低温下操作的部分或分支(包括地板管道)。图10和图11示出了包括在供热设备95中的装置1的结构。该装置与图1至图8中示出的装置相同,并且如可以在图11和图11A中显示的截面图中看出,该装置具有带有中空部分的挡板,该挡板使得能够实现泄漏,由于该泄漏,当装置处于关闭构型时,残余流量从入口传递至出口。
通常地,在图1至图8中显示的实施方式和在图9至图11中显示的实施方式中,构成本发明的目的的装置1在壳体或封闭盒的内部操作,这会引发如上所述并如本领域中已知的问题,即包括用于控制极限温度的调节装置在内的各种元件的过热的问题。
然而,根据本发明的解决方案即使在这些条件下也能够实现装置的适当操作,并且该解决方案由于流体的残余流量即使在关闭构型中也能够通过而是可能的。尽管优选地低流量为3升/小时至5升/小时,但是该残余流量即使在温度敏感阀元件在关闭的情况下也足以使本体在温度敏感阀元件附近的内部部分(即,拦截区域)“排空”。实质上,即使在装置关闭的情况下也能够保持流体的通过,以使得少量的水能够循环,而不是使少量的水停滞在入口处以使其暴露至在壳体和供热设备内部发现的环境的典型的过热现象。通过避免在装置1的入口处过热水的“停滞”,防止了装置“锁定”;在现有技术中,即使辐射管道已经冷却,但当阀元件感知到高温(高于已经设定的极限温度)时也会发生装置的“锁定”。通过将低流量的水朝向出口排放,装置始终被存在于辐射管道中具有实际温度的水湿润,在此基础上,装置必须在需要时控制流入到辐射器管道的新的热水的引入。
注意的是,即使在关闭构型中,由装置保持的残余流量不会影响系统的适当操作,其中,例如借助于所述泄漏由装置保持残余流量,所述泄漏决定了离开辐射管道的水流经装置(并且因此允许等量的高温水的进入)。就用于对空间供热的系统的调节而言,即使残余流量被保持,调节装置在任何情况下也可以被认为是关闭的。这是因为残余流量优选地为低流量,从而不会改变地板管道中的整体温度并且不会导致系统或控制部分发生故障;实质上,不会影响系统的操作,而是仅具有与调节装置1的操作有关的局部益处。这即使当由辐射地板管道执行的供热过程停止时也是如此。在这种情况下,残余流量不具有与加热地板相关的任何具体影响或者不具有对包含管道的房间的任何具体影响。
在任何情况下,恒温阀50与装置1相结合的存在防止了由于残余流量在关闭构型下的通过所导致的任何不期望的影响。这是因为,即使残余流量在理论上可以增加辐射效应,但恒温阀在任何情况下都会负责保持对空间活动中的所需温度进行调节。
构成本发明的目的的用于调节供热系统的方法可以优选地但非排他地由上文所描述类型的装置1来实施。在这种情况下,该方法可以与包括调节装置1的供热系统的操作过程和安装基本上一致。该方法包括布置如上文所描述的辐射管道和将调节装置1根据上文所描述的过程连接至辐射管道。
该方法然后包括使流体在所述辐射管道中循环的步骤,其中,从调节装置的入口流经拦截区域传送至出口的流体的流量是在所述入口处的流体的被感知到的温度与阀元件配置的参考温度之间的温度差的函数;由此断定:从调节装置的入口传送至出口且朝向辐射管道的出口端部输送的流量与在辐射管道的入口端部处的流入流量相等。
该方法进一步包括使流体在所述辐射管道中循环的步骤,使流体在辐射管道中循环的步骤包括以下步骤:当阀元件处于关闭构型时,保持从调节装置的入口传递至出口的流体的大于零的残余流量。
以与上文所描述的方式类似的方式,在保持流体的残余流量的步骤中,流体的残余流量优选地包括在2升/小时与8升/小时之间或者包括在3升/小时与6升/小时之间或者包括在3.5升/小时和5升/小时之间。
保持流体的残余流量的步骤是下述步骤:该步骤可以使在装置1的入口处停止的水在其过热之前和在新的水到达入口之前远离辐射管道的端部,使得阀元件对恰好存在于管道的端部处的水的正确温度进行检测。
如上所述,可以存在多个实施方式,但是保持残余流量的步骤必须在装置的适当区域中执行,即在阀元件附近(即,在恒温器和挡板周围或在恒温器和挡板附近)执行,在所述适当区域中装置感知温度,并且现有技术中在装置关闭的情况下在该适当的区域中发生“锁定”问题。
因此构思的本发明易于进行许多修改和变型,所有这些修改和变型都落入本发明构思的范围内并且所引用的部件可以用其它技术上等效的元件替换。
本发明提供了重要的优点。首先,本发明能够克服现有技术的至少一些缺点。
此外,本发明的装置能够将辐射地板管道有效地连接至高温回路,从而使得能够对管道内部的操作温度和流动进行适当管控。
此外,本发明的装置能够在供热设备内部或者在供热系统的在高温下操作的部件附近正确地操作。
本发明的装置的特征还在于高度的通用性,并且本发明的装置能够适应大量和许多不同类型的供热系统。
本发明的应用在人们希望能够实现具有地板供热的系统的新的部分时是特别有利的,同时本发明的应用还使用在高温下操作的现有系统,这是因为例如现有系统是使用散热器或热虹吸管的系统。
此外,本发明的装置的特征在于高度的操作可靠性、对损坏和故障的较低的易感性、并且能够提供简单且快速的维护。
最后,本发明的装置的特征在于成本上具有竞争力以及简单合理的结构。
Claims (10)
1.一种用于调节供热系统的调节装置(1),所述调节装置(1)包括:
-所述装置的本体(2),所述本体(2)设置有:至少一个入口(3),所述至少一个入口(3)用于连接至管路以接收来自所述管路的流体;出口(4),所述出口(4)用于连接至相应的管路以将流体输送至所述相应的管路;以及拦截区域(5),所述拦截区域(5)位于所述本体(2)内,所述拦截区域(5)置于所述入口(3)与所述出口(4)之间并将所述入口(3)和所述出口(4)连接,以使得所述入口和所述出口能够被选择性地设定为彼此流体连通;
-阀元件(10),所述阀元件(10)能够至少部分地容置在所述本体(2)的内部并且在所述拦截区域(5)中操作性地起作用,所述阀元件(10)构造成以多个操作构型操作,以根据所述入口处的流体的被感知到的温度与所述阀元件能够配置的参考温度之间的温度差改变从所述入口(3)流经所述拦截区域(5)传送至所述出口(4)的流体的流量;
其中,所述多个操作构型包括关闭构型和至少一个最大孔口构型,在所述至少一个最大孔口构型中存在从所述入口传送至所述出口的流体的最大流量,并且所述关闭构型与在所述入口处的流体的所被检测到的温度等于或高于所述参考温度的状态相对应;
其中,在所述关闭构型中,存在从所述入口传递至所述出口的流体的残余流量,所述残余流量大于零。
2.根据权利要求1所述的装置(1),其中,在所述关闭构型中,从所述入口传递至所述出口的流体的所述残余流量包括在2升/小时与8升/小时之间,或者其中,在所述关闭构型中,从所述入口传递至所述出口的流体的所述残余流量包括在3升/小时与6升/小时之间,或者其中,在所述关闭构型中,从所述入口传递至所述出口的流体的所述残余流量包括在3.5升/小时与5升/小时之间。
3.根据权利要求1或2所述的装置(1),其中,在所述关闭构型中,在所述拦截区域(5)中在所述阀元件(10)处存在流体的受控泄漏,所述泄漏决定了流体的所述残余流量从所述入口(3)至所述出口(4)的通过。
4.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述阀元件(10)包括恒温阀(11),所述恒温阀(11)插入到所述本体(2)中并且包括可动挡板(15),所述可动挡板(15)构造成根据所述多个操作构型移动成更靠近限定在所述拦截区域(5)中的通路部段(20)以及移动远离所述通路部段(20),以改变从所述入口(3)传送至所述出口(4)的流体的所述流量,其中,在于所述入口处的流体的所述被感知到的温度与所述参考温度之间的差减小时,所述挡板(15)移动成更靠近所述通路部段,从而减小所述流量,并且在于所述入口处的流体的所述被感知到的温度与所述参考温度之间的差增大时,所述挡板(15)移动远离所述通路部段,从而增大所述流量,并且/或者其中,在所述关闭构型中,在所述挡板(15)与所述通路部段(20)之间存在流体的泄漏,所述泄漏决定了流体的所述残余流量从所述入口至所述出口的通过,并且/或者其中,所述阀元件(10)包括用于选择所述参考温度的构件,使得当流入所述入口的流体达到或超过所述参考温度时,所述阀元件被带入所述关闭构型中。
5.根据前一权利要求所述的装置(1),其中,所述恒温阀(11)包括温度敏感型恒温器(12),所述恒温器构造成根据所述恒温器感知到的温度改变所述恒温器的尺寸,所述挡板(15)与所述恒温器相关联或者受到所述恒温器的限制,并且/或者其中,所述恒温器(12)轴向地插入到所述本体(2)中,以使得至少部分地占据所述拦截区域(5),并且所述恒温器构造成根据在所述入口处的流体的如由所述恒温器自身感知到的温度来改变所述恒温器自身的长度,并且/或者其中,所述恒温器的长度在所感知到的温度升高时增大,从而使所述挡板更靠近所述通路部段,并且所述恒温器的长度在所感知到的温度降低时减小,从而使所述挡板远离所述通路部段。
6.根据前一权利要求所述的装置(1),其中,当所述阀元件(10)被带入所述关闭构型中时,所述挡板(15)移动成抵接在所述通路部段(20)上,并且/或者其中,所述挡板(15)呈大致盘状或环状形状并围绕所述恒温器定位,并且/或者其中,所述挡板(15)具有下表面(16)和与所述下表面相反的上表面(18),所述下表面(16)面向限定在所述拦截区域(5)中的所述通路部段(20)且优选地呈圆环形冠状形状,并且其中,随着所述恒温器的长度减小,所述下表面(16)移动远离所述通路部段,并且随着所述恒温器的长度增大,所述下表面(16)移动成更靠近所述通路部段,并且在所述阀元件被带入所述关闭构型中时所述下表面(16)移动成抵接在所述通路部段(20)的优选地呈环形的周缘表面(25)上,并且/或者其中,所述下表面(16)具有从所述下表面凹入的至少一个中空部分(30),使得在所述挡板(15)定位成抵接在所述通路部段(20)的所述周缘表面(25)上时,在所述通路部段(20)中在所述周缘表面(25)与所述至少一个中空部分(30)之间获得了自由通道(31),通过所述自由通道(31),实现了流体的所述残余流量从所述装置的所述入口(3)至所述出口(4)的通过。
7.根据前述权利要求中任一项所述的装置(1),其中,所述装置的所述本体(2)包括在所述入口与所述出口之间延伸且将所述入口连接至所述出口的旁通管路或旁通通路,并且所述旁通管路或旁通通路构造成确保流体的所述残余流量在所述阀元件的每个操作构型中并且特别地在所述关闭构型中的传递,并且/或者其中,所述旁通管路被限定在所述拦截区域处或者被限定在所述拦截区域附近,并且/或者其中,所述旁通管路被限定在所述通路部段处或者被限定在所述通路部段附近,并且/或者其中,所述旁通管路构造成将存在于所述恒温阀的紧上游的流体以与流体的所述残余流量相等的流量朝向所述出口传递。
8.一种供热系统(100),包括:
-至少一个辐射管道(70),所述至少一个辐射管道(70)用于地板设备并构造成对空间供热,所述辐射管道(70)在入口端部(71)与出口端部(72)之间延伸,其中,所述入口端部(71)用于与高温流体源流体地连接以接收来自所述高温流体源的高温流体,并且所述出口端部(72)用于与热发生器流体地连接以允许低温流体进入所述热发生器中,所述辐射管道(70)包括位于所述入口端部与所述出口端部之间的盘绕部分(75),所述盘绕部分(75)构造成将来自流动于所述盘绕部分(75)中的流体的辐射热向外传输;
-至少一个根据前述权利要求中任一项所述的用于调节供热系统的调节装置(1),所述至少一个调节装置(1)位于所述盘绕部分(75)的下游并且位于所述辐射管道的所述出口端部(72)的上游,以便拦截在所述管道中流动的流体流,其中,所述调节装置的所述入口(3)接收来自所述盘绕部分(75)的流体,所述装置(1)基于所述阀元件(10)的操作构型将该流体的流量传输至所述出口(4),并且所述装置的所述出口(4)与所述辐射管道的所述出口端部(72)流体地连接。
9.根据前一权利要求所述的系统(100),所述系统(100)包括用于空间的温度控制的恒温头(50),所述恒温头(50)沿着所述辐射管道(70)位于在所述调节装置(1)的下游的位置处,用于空间的温度控制的所述恒温头(50)构造成能够为安装有所述供热系统的空间选择期望的温度并因此根据在所述空间中被检测到的温度与用于所述空间的所述期望温度之间的差对所述辐射管道中循环的流体的流量进行调节,并且/或者其中,所述盘绕部分(75)成形为在平面图中呈双螺旋形式,使得所述盘绕部分(75)的起始部(76)和结束部(77)被证明为相对于彼此邻近并处于同一双螺旋自身的外侧,并且/或者其中,所述双螺旋包括第一螺旋(78)或出发螺旋以及第二螺旋(79)或返回螺旋,其中,所述第一螺旋(78)或出发螺旋从所述盘绕部分的所述起始部(76)延伸至所述盘绕部分的中心位置(80),并且所述第二螺旋(79)或返回螺旋从所述盘绕部分的所述中心位置(80)延伸至所述盘绕部分的所述结束部(77),所述中心位置(80)将所述第一螺旋和所述第二螺旋连接且由所述第一螺旋和所述第二螺旋共用,并且其中,所述第一螺旋(78)和所述第二螺旋(79)以使得所述第一螺旋(78)和所述第二螺旋(79)相对于彼此夹置或交替的双螺旋的方式布置,以实现所述第一螺旋的盘绕部和螺旋匝与所述第二螺旋的盘绕部和螺旋匝的从所述双螺旋的外侧到内侧的交替。
10.一种用于调节供热系统(100)的方法,所述方法包括以下步骤:
-布置用于地板设备的并构造成对空间供热的至少一个辐射管道(70),所述辐射管道(70)在入口端部(71)与出口端部(72)之间延伸,其中,所述入口端部(71)用于与高温流体源流体地连接以接收来自所述高温流体源的高温流体,并且所述出口端部(72)用于与热发生器流体地连接以允许低温流体进入所述热发生器中,所述辐射管道(70)包括位于所述入口端部与所述出口端部之间的盘绕部分(75),所述盘绕部分(75)构造成将来自流动于所述盘绕部分中的流体的辐射热向外传输;
-将至少一个根据权利要求1至8中任一项所述的用于供热系统的调节装置(1)布置在所述盘绕部分(75)的下游和所述辐射管道(70)的所述出口端部(72)的上游,以拦截在所述辐射管道中流动的流体的流,其中,所述调节装置的所述入口(3)接收来自所述盘绕部分(75)的流体,并且所述装置(1)基于所述装置(1)的所述阀元件(10)的操作构型将该流体的流量传输至所述装置的所述出口(4),并且所述装置(1)的所述出口(4)与所述辐射管道(70)的所述出口端部(72)流体地连接;
-使流体在所述辐射管道(70)中循环,其中,从所述装置(1)的所述入口(3)流经所述拦截区域(5)传送至所述出口(4)的流体的流量是在所述入口处的流体的被感知到的温度与所述阀元件配置的参考温度之间的温度差的函数,并且其中,从所述装置(1)的所述入口(3)传送至所述出口(4)并朝向所述辐射管道(70)的所述出口端部(72)输送的流量与所述辐射管道(70)的所述入口端部(71)处的流入流量相等,
使流体在所述辐射管道(70)中循环的所述步骤包括以下步骤:当所述阀元件(10)被发现处于所述关闭构型时,保持从所述装置(1)的所述入口(3)传递至所述出口(4)的流体的大于零的残余流量,
并且/或者其中,在保持流体的残余流量的所述步骤中,流体的所述残余流量包括在2升/小时与8升/小时之间,或者包括在3升/小时与6升/小时之间,或者包括在3.5升/小时与5升/小时之间。
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