CN108346600A - 一种硅片鼓泡清洗装置 - Google Patents

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刘坤
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Abstract

本发明公开了一种硅片鼓泡清洗装置，所属硅片清洗装置技术领域，提供一种高效的硅片鼓泡清洗装置。清洗箱包括上清洗箱、下清洗箱两部分，下清洗箱底部设置鼓泡装置，箱壁上设置加热装置，上清洗箱的顶部设置蒸汽管路，蒸汽管路与冷凝器相连接，冷凝器底部设置回流管路，回流管路与上清洗箱连接；鼓泡装置包括固定板、气管、压缩空气泵，气管呈S形排列在固定板上，气管上均匀排列有气孔，固定板连接在清洗箱底部，气管的两端均与压缩空气泵相连接，空气压缩泵设置在清洗箱的外部，下清洗箱的顶部设置硅片放置架，硅片放置架为扁平镂空结构。其主要用途是对硅片进行清洗。

Description

一种硅片鼓泡清洗装置
技术领域
本发明属于硅片清洗装置技术领域，特别涉及一种硅片鼓泡清洗装置。
背景技术
近年来，太阳能光伏产业发展迅猛，因此对硅片使用尤其频繁，但是在使用过程中要对生产的硅片进行清洗，若在烧结前发现质量问题，可以将硅片表面上的浆料清除后进行再次利用，以达到节约成本的目的，在硅基板太阳能电池生产过程中，需要使用硅片作为电池的基体材料，为了增加对太阳能光的吸收，需要对硅片表面进行绒面处理，即利用酸性液或碱性液对硅片表面进行腐蚀从而形成绒面。在绒面形成后，还需要对硅片表面进行清洗。
专利号为CN 204107915 U的硅片清洗装置，包括清洗槽，清洗槽内侧壁上设花篮放置台，下部设带有出气孔向上的压缩空气盘管、且输入端穿出侧壁与压缩空气管路连通，清洗槽槽壁底部设酒精排液口和浆料排液口，酒精排液口在浆料排液口上面，压缩空气盘管处于花篮与酒精排液口之间，压缩空气盘管的输入端、酒精排液口和浆料排液口上设有阀门。将装有待清洗硅片的花篮放置在花篮放置台上并浸泡在酒精中，压缩空气通过压缩空气盘管上的出气孔产生鼓泡对硅片进行清洗，清洗完后浆料自然沉降，打开酒精排液口上阀门收集酒精，再打开浆料排液口上的阀门将浆料排出。上述专利具有结构简单、操作方便、工作效率高的优点。但是在对清洗液酒精的回收利用往往过程繁杂，影响清洗效果；其压缩空气管路的鼓泡效率较低，需要进一步的提升。
发明内容
针对上述问题，本发明提出了一种硅片鼓泡清洗装置，可以对硅片实现高效清洗。
本发明采用的技术方案是，一种硅片鼓泡清洗装置，包括清洗箱、鼓泡装置、加热装置、蒸汽管路、冷凝器、回流管路，所述清洗箱为圆柱状，所述清洗箱包括上清洗箱、下清洗箱两部分，所述上清洗箱、下清洗箱通过螺纹可进行彼此连接，所述下清洗箱底部设置有鼓泡装置，所述下清洗箱箱壁上设置有加热装置，所述上清洗箱的顶部设置有蒸汽管路，所述蒸汽管路与所述的冷凝器相连接，所述冷凝器底部设置有回流管路，所述回流管路与所述的上清洗箱连接，所述上清洗箱顶部设置的蒸汽管路将加热的清洗液蒸汽排入所述的冷凝器进行冷凝，将冷凝的清洗液由所述的回流管路重新流入所述的清洗箱；所述鼓泡装置包括固定板、气管、压缩空气泵，所述气管呈S形排列在所述的固定板上，所述气管上均匀排列有气孔，所述固定板连接在所述清洗箱底部，所述气管的两端均与所述的压缩空气泵相连接，所述空气压缩泵设置在清洗箱的外部，所述空气压缩泵的入口接入所述下清洗箱内部，保证清洗箱为密闭空间，所述下清洗箱的顶部设置有硅片放置架，所述硅片放置架由不锈钢材料制作而成，所述硅片放置架为扁平镂空结构，所述下清洗箱中添加的清洗液的水位高于所述加热装置的设置高度，所述下清洗箱中添加的清洗液的水位高度与所述硅片放置架的高度相同或者略高于硅片放置架的设置高度，所述加热装置将所述的清洗液加热，由所述的鼓泡装置将压缩空气通过清洗液生成热气泡，对所述的硅片放置架上的硅片进行清洗。
优选地，所述的清洗液优选为酒精。
进一步的，所述清洗箱的底部设置有支架，所述支架底部设置有地脚固定架。
进一步的，所述下清洗箱内设置有温度传感器，所述温度传感器的数值显示屏设置在所述清洗箱的外部，所述温度传感器可对清洗液的温度进行检测，并根据检测结果对所述的加热装置进行控制。
进一步的，所述清洗箱底部设置的支架上安装有操作面板，所述操作面板与所述的加热装置、空气压缩机相连接，可对所述加热装置、空气压缩机的工作状态进行控制。
本发明与现有技术相比，具有以下的有益效果，所述清洗箱为圆柱状，所述清洗箱包括上清洗箱、下清洗箱两部分，所述上清洗箱、下清洗箱通过螺纹可进行彼此连接，所述下清洗箱底部设置有鼓泡装置，所述下清洗箱箱壁上设置有加热装置，所述上清洗箱的顶部设置有蒸汽管路，所述蒸汽管路与所述的冷凝器相连接，所述冷凝器底部设置有回流管路，所述回流管路与所述的上清洗箱连接，所述上清洗箱顶部设置的蒸汽管路将加热的清洗液蒸汽排入所述的冷凝器进行冷凝，将冷凝的清洗液由所述的回流管路重新流入所述的清洗箱；所述气管呈S形排列在所述的固定板上，所述气管上均匀排列有气孔，所述固定板连接在所述清洗箱底部，所述气管的两端均与所述的压缩空气泵相连接，通过压缩空气泵同时对所述器官的两端进气，保证气泡产生的稳定性。综上所述，本发明具有高效清洗硅片的优点。
附图说明
图1是本发明所述的一种硅片鼓泡清洗装置的结构示意图；
图2是所述鼓泡装置的结构示意图。
图中：01、清洗箱 02、鼓泡装置 03、加热装置 04、蒸汽管路 05、冷凝器 06、回流管路 07、上清洗箱 08、下清洗箱 09、固定板 10、气管 11、压缩空气泵 12、气孔 13、硅片放置架 14、支架 15、地脚固定架 16、温度传感器。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
结合图1、图2对本发明的技术方案进行说明，一种硅片鼓泡清洗装置，包括清洗箱01、鼓泡装置02、加热装置03、蒸汽管路04、冷凝器05、回流管路06，所述清洗箱01为圆柱状，所述清洗箱01包括上清洗箱07、下清洗箱08两部分，所述上清洗箱07、下清洗箱08通过螺纹可进行彼此连接，所述下清洗箱08底部设置有鼓泡装置02，所述下清洗箱08箱壁上设置有加热装置03，所述上清洗箱07的顶部设置有蒸汽管路04，所述蒸汽管路04与所述的冷凝器05相连接，所述冷凝器05底部设置有回流管路06，所述回流管路06与所述的上清洗箱07连接，所述上清洗箱07顶部设置的蒸汽管路04将加热的清洗液蒸汽排入所述的冷凝器05进行冷凝，将冷凝的清洗液由所述的回流管路06重新流入所述的清洗箱01；所述鼓泡装置02包括固定板09、气管10、压缩空气泵11，所述气管10呈S形排列在所述的固定板09上，所述气管10上均匀排列有气孔12，所述固定板09连接在所述清洗箱01底部，所述气管10的两端均与所述的压缩空气泵11相连接，所述空气压缩泵设置在清洗箱01的外部，所述空气压缩泵的入口接入所述下清洗箱08内部，保证清洗箱01为密闭空间，所述下清洗箱08的顶部设置有硅片放置架13，所述硅片放置架13由不锈钢材料制作而成，所述硅片放置架13为扁平镂空结构，所述下清洗箱08中添加的清洗液的水位高于所述加热装置03的设置高度，所述下清洗箱08中添加的清洗液的水位高度与所述硅片放置架13的高度相同或者略高于硅片放置架13的设置高度所述加热装置03将所述的清洗液加热，由所述的鼓泡装置02将压缩空气通过清洗液生成热气泡，对所述的硅片放置架13上的硅片进行清洗。
优选地，所述的清洗液优选为酒精。
进一步的，所述清洗箱01的底部设置有支架14，所述支架14底部设置有地脚固定架15。
进一步的，所述下清洗箱08内设置有温度传感器16，所述温度传感器16的数值显示屏设置在所述清洗箱08的外部，所述温度传感器16可对清洗液的温度进行检测，并根据检测结果对所述的加热装置03进行控制。
进一步的，所述清洗箱01底部设置的支架14上安装有操作面板，所述操作面板与所述的加热装置03、空气压缩机相连接，可对所述加热装置03、空气压缩机的工作状态进行控制。
结合图1、图对本发明的有益效果进行说明，所述清洗箱01为圆柱状，所述清洗箱01包括上清洗箱07、下清洗箱08两部分，所述上清洗箱07、下清洗箱08通过螺纹可进行彼此连接，所述下清洗箱08底部设置有鼓泡装置02，所述下清洗箱08箱壁上设置有加热装置03，所述上清洗箱07的顶部设置有蒸汽管路04，所述蒸汽管路04与所述的冷凝器05相连接，所述冷凝器05底部设置有回流管路06，所述回流管路06与所述的上清洗箱07连接，所述上清洗箱07顶部设置的蒸汽管路04将加热的清洗液蒸汽排入所述的冷凝器05进行冷凝，将冷凝的清洗液由所述的回流管路06重新流入所述的清洗箱01；所述气管10呈S形排列在所述的固定板09上，所述气管10上均匀排列有气孔12，所述固定板09连接在所述清洗箱01底部，所述气管10的两端均与所述的压缩空气泵11相连接，通过压缩空气泵11同时对所述器官的两端进气，保证气泡产生的稳定性。综上所述，本发明具有高效清洗硅片的优点。
结合图1、图对本发明的使用方法及工作原理进行说明，本发明一种硅片鼓泡清洗装置在运行时，将待清洗的硅片放置在所述的硅片放置架13上，并且将所述的上清洗箱07、下清洗箱08闭合，开启所述的加热装置03对所述清洗箱01中的清洗液进行加热，同时开启所述的压缩空气泵11，将所述清洗箱01中的空气进行压缩，将压缩空气通过所述的气孔12排入清洗液，生成气泡对所述硅片放置架13上的硅片进行清洗，生成的清洗液蒸汽通过上清洗箱07顶部的蒸汽管路04将蒸汽排入冷凝器05，由所述的冷凝器05对蒸汽进行冷凝，经过所述的回流管路06重新排入所述的清洗箱01中，进行循环利用。
本发明一种硅片鼓泡清洗装置，其用途为对硅片进行清洗。
以上所述仅是本发明的较佳实施方式，故凡依本发明专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均包括于本发明专利申请范围内。

Claims (5)

1.一种硅片鼓泡清洗装置，其特征在于：包括清洗箱(01)、鼓泡装置(02)、加热装置(03)、蒸汽管路(04)、冷凝器(05)、回流管路(06)，所述清洗箱(01)为圆柱状，所述清洗箱(01)包括上清洗箱(07)、下清洗箱(08)两部分，所述上清洗箱(07)、下清洗箱(08)通过螺纹可进行彼此连接，所述下清洗箱(08)底部设置有鼓泡装置(02)，所述下清洗箱(08)箱壁上设置有加热装置(03)，所述上清洗箱(07)的顶部设置有蒸汽管路(04)，所述蒸汽管路(04)与所述的冷凝器(05)相连接，所述冷凝器(05)底部设置有回流管路(06)，所述回流管路(06)与所述的上清洗箱(07)连接；所述鼓泡装置(02)包括固定板(09)、气管(10)、压缩空气泵(11)，所述气管(10)呈S形排列在所述的固定板(09)上，所述气管(10)上均匀排列有气孔(12)，所述固定板(09)连接在所述清洗箱(01)底部，所述气管(10)的两端均与所述的压缩空气泵(11)相连接，所述空气压缩泵设置在清洗箱(01)的外部，所述空气压缩泵的入口接入所述下清洗箱(08)内部，保证清洗箱(01)为密闭空间，所述下清洗箱(08)的顶部设置有硅片放置架(13)，所述硅片放置架(13)由不锈钢材料制作而成，所述硅片放置架(13)为扁平镂空结构，所述下清洗箱(08)中添加的清洗液的水位高于所述加热装置(03)的设置高度，所述下清洗箱(08)中添加的清洗液的水位高度与所述硅片放置架(13)的高度相同或者略高于硅片放置架(13)的设置高度。
2.根据权利要求1所述的一种硅片鼓泡清洗装置，其特征在于：所述的清洗液优选为酒精。
3.根据权利要求1所述的一种硅片鼓泡清洗装置，其特征在于：所述清洗箱(01)的底部设置有支架(14)，所述支架(14)底部设置有地脚固定架(15)。
4.根据权利要求1所述的一种硅片鼓泡清洗装置，其特征在于：所述下清洗箱(08)内设置有温度传感器(16)，所述温度传感器(16)的数值显示屏设置在所述清洗箱(08)的外部。
5.根据权利要求1所述的一种硅片鼓泡清洗装置，其特征在于：所述清洗箱(01)底部设置的支架(14)上安装有操作面板，所述操作面板与所述的加热装置(03)、空气压缩机相连接。
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