CN108218252B - 一种遮阳型低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途 - Google Patents

一种遮阳型低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种遮阳型低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途。所述镀膜玻璃包括着色玻璃基板和无色镀膜层，所述无色镀膜层镀在着色玻璃基板的表面。所述的镀膜玻璃制备方法包括以下步骤：着色玻璃基板从上游向下游移动的过程中，在玻璃表面进行在线沉积镀膜得到所述镀膜玻璃。本发明提供的镀膜玻璃可见光透过率低、节能效果好，具有优异的紫外吸收性能和低辐射性能，该镀膜玻璃冬季可以有效的保留热量，夏季可反射80％以上的阳光辐射热，同时具有优秀的防紫外辐射功能，低辐射效果和遮阳效果俱佳。本发明提供的制备方法操作简单，工艺稳定，可用于规模化生产。

Description

一种遮阳型低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途
技术领域
本发明属于玻璃技术领域，涉及一种遮阳型低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途。
背景技术
玻璃是在当代的生产和生活中扮演着重要角色，建筑物的门窗汽车车窗和挡风玻璃等等许多地方都用到玻璃，给生产和生活带来了很多的方便，其中低辐射玻璃尤其引人注目。低辐射镀膜玻璃，又称Low-E玻璃，是一种对波长范围在4.5-25微米的远红外线有很高反射比(80％以上)的镀膜玻璃，这种玻璃自20世纪90年代从欧美国家开始流行至今得到了长足的发展。其之所以称之为低辐射镀膜玻璃，是由于这种玻璃在制造过程中需要在浮法玻璃表面沉积一层或多层金属材料，以对太阳光中的近红外线和生活环境中的远红外线起反射作用，从而降低玻璃对红外线的吸收率和辐射率。此种玻璃用途广泛既可用于家庭窗户，也可用于商店、写字楼和高档宾馆的玻璃幕墙及其它需要的场所且目前市场反馈度极好，是一种被客户所认可的产品。夏天它可以有效阻止太阳光中的近红外线进入室内，避免室内温度升高，节约空调费用；冬天它可阻止室内暖气等产生的远红外线逸出室外，保持室内温度，节约取暖费用，能够为用户带来经济上的补偿。
市场上镀膜玻璃主要分两类：在透明玻璃上镀有色膜，使玻璃具有一定的遮阳效果；在透明玻璃上镀低辐射膜层，使玻璃具有一定的节能效果。目前的镀膜技术很少能做到两者兼顾。
CN 204725952 U公开了一种双银室内外超低反射的遮阳低辐射镀膜玻璃，该玻璃的层结构，自玻璃基板向外各层，依次是：介质层阻挡层、第一晶床介质层、可见光吸收层、合金金属保护层、第二晶床介质层、第一电介质层、第一干涉层、第一银层，第一保护层、第二电介质层、第二干涉层、第二银层、第二保护层、第三电介质层。该方案虽然低辐射性能较好，但膜层结构复杂，遮阳效果不太理想，而且生产效率低。
因此，开发一种遮阳效果和低辐射效果俱佳的玻璃对于本领域有重大意义。
发明内容
针对现有技术中存在的上述不足，本发明的目的在于提供一种遮阳型低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途。本发明提供的遮阳型低辐射镀膜玻璃同时具有优异的紫外吸收性能和低辐射性能，颜色淡雅柔和，遮阳功能优异。本发明提供的制备方法工艺稳定，可用于规模化生产。
为达上述目的，本发明采用以下技术方案：
第一方面，本发明提供一种镀膜玻璃，所述镀膜玻璃包括着色玻璃基板和无色镀膜层，所述无色镀膜层镀在着色玻璃基板的表面。
本发明提供的镀膜玻璃为遮阳型低辐射镀膜玻璃。本发明提供的镀膜玻璃中，所述无色镀膜层具有低辐射功能，即具有降低玻璃对红外线的吸收率和辐射率的功能；而所述着色玻璃基板具有很好的遮阳功能。本发明提供的镀膜玻璃将着色玻璃基板和无色镀膜层有机地结合了起来，这种独特的结构使得本发明提供的镀膜玻璃遮阳效果和低辐射效果俱佳。
以下作为本发明优选的技术方案，但不作为对本发明提供的技术方案的限制，通过以下优选的技术方案，可以更好的达到和实现本发明的技术目的和有益效果。
作为本发明优选的技术方案，所述镀膜玻璃由着色玻璃基板和无色镀膜层组成，所述无色镀膜层镀在着色玻璃基板的表面。本发明中，所述镀膜玻璃在仅由着色玻璃基板和镀在着色玻璃基板的表面的无色镀膜层组成，不包含其他材料的情况下，性能更加优良。
优选地，所述无色镀膜层为三层结构，所述无色镀膜层自着色玻璃基板向外依次为颜色抑制层、离子阻挡层和导电层。本发明中，无色镀膜层中的三个膜层是互相配合的。导电层使得所述无色镀膜层带有低辐射功能，但是单独的导电层为很强的黄绿色，膜层均匀度差，并且导电能力受到基板析出的离子(例如钠离子)影响，会造成性能下降；离子阻挡层能够阻挡基板析出的离子进入导电层，例如阻挡钠离子进入导电层；颜色抑制层通过抑制导电层颜色将膜层调节成中性色，使得镀膜层整体呈现出无色的效果，普遍被人们所接受。
作为本发明优选的技术方案，所述颜色抑制层的厚度为18nm-22nm，例如18nm、19nm、20nm、21nm或22nm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为20nm。
优选地，所述离子阻挡层的厚度为21nm-25nm，例如21nm、22nm、23nm、24nm或25nm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为23nm。
优选地，所述导电层的厚度为300nm-330nm，例如300nm、310nm、315nm、320nm或330nm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为320nm。
作为本发明优选的技术方案，所述颜色抑制层为二氧化锡层。
优选地，所述离子阻挡层为二氧化硅层。
优选地，所述导电层为氟掺杂二氧化锡层。
优选地，所述氟掺杂二氧化锡中，氟元素与锡元素的摩尔比为4:8-4:10，例如4:8、4:8.5、4:9、4:9.5或4:10等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为4:9。
作为本发明优选的技术方案，所述着色玻璃基板为绿色玻璃基板。本发明中，可以使用F绿(France Green，即法国绿)玻璃基板，使用F绿玻璃基板既保证了镀膜玻璃拥有优良的遮阳性能，又使其颜色适中，避免造成视觉上的冲击。
优选地，所述镀膜玻璃的厚度为3.5mm-8mm，例如3.5mm、4mm、4.5mm、5mm、5.5mm、6mm、6.5mm、7mm、7.5mm或8mm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为3.5mm、5mm、6mm或8mm。
第二方面，本发明提供一种如第一方面所述的镀膜玻璃的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
着色玻璃基板从上游向下游移动的过程中，在着色玻璃基板表面进行在线沉积镀膜得到所述镀膜玻璃。
本发明中，所述在线沉积镀膜，是指在玻璃生产线上利用沉积方法直接在玻璃基板表面镀上薄膜。本发明提供的制备方法可以集成在浮法玻璃的生产线上。本发明提供的制备方法生产效率高，可长时间稳定运行，最高有效稳定运行时间约44h，平均有效稳定运行时间约31h。
优选地，所述沉积为化学气相沉积。
优选地，所述着色玻璃基板从上游向下游移动在浮法锡槽中进行。
优选地，所述着色玻璃基板从上游向下游移动的速度为330m/h-830m/h，例如330m/h、430m/h、550m/h、640m/h、760m/h或830m/h等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述制备方法中，用镀膜器在玻璃表面进行在线沉积镀膜。
优选地，所述镀膜器为并排的5个镀膜器，从上游到下游依次为第一镀膜器、第二镀膜器、第三镀膜器、第四镀膜器和第五镀膜器。
优选地，所述第一镀膜器镀颜色抑制层。
优选地，所述第一镀膜器镀二氧化锡层。
优选地，所述第二镀膜器和第三镀膜器均镀离子阻挡层。
优选地，所述第二镀膜器和第三镀膜器均镀二氧化硅层。
优选地，所述第四镀膜器和第五镀膜器均镀导电层。
优选地，所述第四镀膜器和第五镀膜器均镀氟掺杂二氧化锡层。
作为本发明优选的技术方案，所述第一镀膜器使用的工艺气体成分为氮气、氧气和二甲基二氯化锡的混合气。
优选地，所述第一镀膜器使用的工艺气体中，氮气的流量为380L/min-400L/min，例如380L/min、385L/min、90L/min、395L/min或400L/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为390L/min。
优选地，所述第一镀膜器使用的工艺气体中，氧气的流量为220L/min-240L/min，例如220L/min、225L/min、230L/min、235L/min或240L/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为230L/min。
优选地，所述第一镀膜器使用的工艺气体中，二甲基二氯化锡的流量为0.8kg/h-3kg/h，例如0.8kg/h、1.2kg/h、2kg/h、2.5kg/h或3kg/h等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述第一镀膜器使用的工艺气体中，二甲基二氯化锡的流量与着色玻璃基板的移动速率成正比。
优选地，所述第二镀膜器使用的工艺气体成分为氮气和硅烷的混合气。
优选地，所述第二镀膜器使用的工艺气体中，氮气的流量为390L/min-410L/min，例如390L/min、395L/min、400L/min、405L/min或410L/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为400L/min。
优选地，所述第二镀膜器使用的工艺气体中，硅烷的流量为0.5L/min-2.5L/min，例如0.5L/min、0.8L/min、1.2L/min、2.0L/min或2.5L/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述第二镀膜器使用的工艺气体中，硅烷的流量与着色玻璃基板的移动速率成正比。
优选地，所述第三镀膜器使用的工艺气体成分为氮气和硅烷的混合气。
优选地，所述第三镀膜器使用的工艺气体中，氮气的流量为390L/min-410L/min，例如390L/min、395L/min、400L/min、405L/min或410L/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为400L/min。
优选地，所述第三镀膜器使用的工艺气体中，硅烷的流量为0.5L/min-2.5L/min，例如0.5L/min、0.8L/min、1.2L/min、2.0L/min或2.5L/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述第三镀膜器使用的工艺气体中，硅烷的流量与着色玻璃基板的移动速率成正比。
优选地，所述第四镀膜器使用的工艺气体成分为氮气、氧气、二甲基二氯化锡、氟化氢和水蒸气的混合气体。
优选地，所述第四镀膜器使用的工艺气体中，氮气的流量为315L/min-335L/min，例如315L/min、320L/min、325L/min、330L/min或335L/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为325L/min。
优选地，所述第四镀膜器使用的工艺气体中，氧气的流量为290L/min-310L/min，例如290L/min、295L/min、300L/min、305L/min或310L/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为300L/min。
优选地，所述第四镀膜器使用的工艺气体中，二甲基二氯化锡的流量为4kg/h-17kg/h，例如4kg/h、6kg/h、9kg/h、12kg/h、14kg/h、15kg/h或17kg/h等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述第四镀膜器使用的工艺气体中，二甲基二氯化锡的流量与着色玻璃基板的移动速率成正比。
优选地，所述第四镀膜器使用的工艺气体中，氟化氢的流量为10L/min-15L/min，例如10L/min、11L/min、12L/min、13L/min、14L/min或15L/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为12L/min。
优选的，所述氟化氢在进入第四镀膜器前，先与氮气混合得到氟化氢/氮气混合气，所述氟化氢/氮气混合气中，氟化氢与氮气的摩尔比为0.7-0.9，例如0.7、0.75、0.8、0.85或0.9等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为0.8。
优选地，所述第四镀膜器使用的工艺气体中，水蒸气的流量为70L/min-90L/min，例如70L/min、75L/min、80L/min、85L/min或90L/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为80L/min。
优选地，所述第五镀膜器使用的工艺气体成分为氮气、氧气、二甲基二氯化锡、氟化氢和水蒸气的混合气体。
优选地，所述第五镀膜器使用的工艺气体中，氮气的流量为315L/min-335L/min，例如315L/min、320L/min、325L/min、330L/min或335L/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为325L/min。
优选地，所述第五镀膜器使用的工艺气体中，氧气的流量为290L/min-310L/min，例如290L/min、295L/min、300L/min、305L/min或310L/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为300L/min。
优选地，所述第五镀膜器使用的工艺气体中，二甲基二氯化锡的流量为4kg/h-17kg/h，例如4kg/h、6kg/h、9kg/h、12kg/h、14kg/h、15kg/h或17kg/h等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述第五镀膜器使用的工艺气体中，二甲基二氯化锡的流量与着色玻璃基板的移动速率成正比。
优选地，所述第五镀膜器使用的工艺气体中，氟化氢的流量为10L/min-15L/min，例如10L/min、11L/min、12L/min、13L/min、14L/min或15L/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为12L/min。
优选的，所述氟化氢在进入第五镀膜器前，先与氮气混合得到氟化氢/氮气混合气，所述氟化氢/氮气混合气中，氟化氢与氮气的摩尔比为0.7-0.9，例如0.7、0.75、0.8、0.85或0.9等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为0.8。
优选地，所述第五镀膜器使用的工艺气体中，水蒸气的流量为70L/min-90L/min，例如70L/min、75L/min、80L/min、85L/min或90L/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为80L/min。
本发明中，各镀膜器的氮气流量为通入该镀膜器的氮气的总流量。
作为本发明所述方法的进一步优选技术方案，所述方法包括以下步骤：
着色玻璃基板在浮法锡槽中以330m/h-830m/h的速度从上游向下游移动的过程中，用并排的5个镀膜器在着色玻璃基板表面进行在线化学气相沉积镀膜得到所述镀膜玻璃；
其中，所述并排的5个镀膜器，从上游到下游依次为第一镀膜器、第二镀膜器、第三镀膜器、第四镀膜器和第五镀膜器；所述第一镀膜器镀二氧化锡层；所述第二镀膜器和第三镀膜器均镀二氧化硅层；所述第四镀膜器和第五镀膜器均镀氟掺杂二氧化锡层；
所述第一镀膜器使用的工艺气体为氮气、氧气和二甲基二氯化锡的混合气体，氮气流量为390L/min，氧气流量为230L/min，二甲基二氯化锡的流量为0.8kg/h-3kg/h；
所述第二镀膜器使用的工艺气体为氮气和硅烷的混合气体，氮气的流量为400L/min，硅烷的流量为0.5L/min-2.5L/min；
所述第三镀膜器使用的工艺气体的组成和流量与第二镀膜器相同；
所述第四镀膜器使用的工艺气体为氮气、氧气、二甲基二氯化锡、氟化氢和水蒸气的混合气体，氮气的流量为325L/min，氧气的流量为300L/min，二甲基二氯化锡的流量为4kg/h-17kg/h，氟化氢的流量为12L/min，氟化氢在进入所述第四镀膜器前，先与氮气混合得到氟化氢/氮气混合气，所述氟化氢/氮气混合气中，氟化氢与氮气的摩尔比为0.8，水蒸气的流量为80L/min；
所述第五镀膜器使用的工艺气体的组成和流量与第四镀膜器相同。
第三方面，本发明提供如第一方面的所述镀膜玻璃的用途，所述镀膜玻璃用于制备中空玻璃、制备夹层玻璃或单片使用。即，本发明提供的镀膜玻璃不但能单独使用，还可以与其他玻璃组合为中空玻璃或夹层玻璃，用途广泛。
与已有技术相比，本发明具有如下有益效果：
(1)本发明提供的遮阳型低辐射镀膜玻璃可见光透过率低，可强烈吸收紫外线，具有优秀的防紫外辐射功能，该镀膜玻璃冬季可以有效的保留热量，夏季可反射80％以上的阳光辐射热，适用于建筑幕墙、门窗、汽车等领域，其优良的隔热性能可有效减少冬夏季室内或汽车空调制冷/加热的能耗；该镀膜玻璃可以起到一定的视觉隔离效果，在一定程度上可保证人的隐私，给人以安全感；该镀膜玻璃颜色和性能稳定耐久，无论平面还是曲面玻璃产品，性能和色彩可保持一致；本发明提供的镀膜玻璃膜层材料稳定，可单片使用，无需特殊处理，可长期储存，并且该镀膜玻璃可用与普通浮法玻璃相同方式进行切割、磨边、钢化、弯钢化或热弯、膜面彩釉等深加工。
(2)本发明提供的制备方法操作简单，工艺稳定，可用于规模化生产。
附图说明
图1为本发明实施例1提供的镀膜玻璃的结构示意图；
图2为本发明实施例1中制备镀膜玻璃使用的镀膜器的排列方式示意图；
其中，1-无色镀膜层，2-着色玻璃基板，101-颜色抑制层，102-离子阻挡层，103-导电层，3-第一镀膜器，4-第二镀膜器，5-第三镀膜器，6-第四镀膜器，7-第五镀膜器。
具体实施方式
为更好地说明本发明，便于理解本发明的技术方案，下面对本发明进一步详细说明。但下述的实施例仅仅是本发明的简易例子，并不代表或限制本发明的权利保护范围，本发明保护范围以权利要求书为准。
以下为本发明典型但非限制性实施例：
实施例1
本实施例提供一种遮阳型低辐射镀膜玻璃的制备方法，其具体方法为：
着色玻璃基板2在浮法锡槽中以600m/h的速度从上游向下游移动的过程中，用并排的五个镀膜器在着色玻璃基板2表面进行在线化学气相沉积镀膜得到结构如图1所示的镀膜玻璃；所述着色玻璃基板2的颜色为F绿，厚度为5mm；
所述并排的五个镀膜器的排列方式示意图如图2所示，从上游到下游依次为第一镀膜器3、第二镀膜器4、第三镀膜器5、第四镀膜器6和第五镀膜器7，着色玻璃基板2在这五个镀膜器下方从上游向下游移动；所述第一镀膜器3镀二氧化锡层；所述第二镀膜器4和第三镀膜器5均镀二氧化硅层；所述第四镀膜器6和第五镀膜器7均镀氟掺杂二氧化锡层；
所述第一镀膜器3使用的工艺气体为氮气、氧气和二甲基二氯化锡的混合气体，氮气流量为390L/min，氧气流量为230L/min，二甲基二氯化锡的流量为1.8kg/h，其中氮气分为主承载气和旁通气两部分；
所述第二镀膜器4使用的工艺气体为氮气和硅烷的混合气体，氮气的流量为400L/min，硅烷的流量为1.5L/min，其中氮气分为主承载气和旁通气两部分；
所述第三镀膜器5使用的工艺气体的组成和流量与第二镀膜器4相同；
所述第四镀膜器6使用的工艺气体为氮气、氧气、二甲基二氯化锡、氟化氢和水蒸气的混合气体，氮气的流量为325L/min，氧气的流量为300L/min，二甲基二氯化锡的流量为10kg/h，氟化氢的流量为12L/min，氟化氢在进入所述第四镀膜器6前，先与氮气混合得到氟化氢/氮气混合气，所述氟化氢/氮气混合气中，氟化氢与氮气的摩尔比为0.8，水蒸气的流量为80L/min，其中氮气分为主承载气、旁通气、轴承吹扫气和与氟化氢混合的氮气四部分；
所述第五镀膜器7使用的工艺气体的组成和流量与第四镀膜器6相同。
本实施例各镀膜器的化学气体具体用量见表1。
表1
本实施例得到的镀膜玻璃的结构如图1所示，无色镀膜层1镀在着色玻璃基板2的表面，无色镀膜层1为三层结构，自着色玻璃基板2向外依次为颜色抑制层101、离子阻挡层102和导电层103。其中，颜色抑制层101为二氧化锡层，离子阻挡层102为二氧化硅层，导电层103为氟掺杂二氧化锡层。
本实施例得到的镀膜玻璃进行取样得到的颜色指标见表2。
表2
根据表2的数据，按照公式ΔE＝(Δa*2+Δb*2+ΔL*2)1/2进行计算，得到本实施例制备的镀膜玻璃的色差ΔE为0.8。
本实施例制备得到的镀膜玻璃中，着色玻璃基板的厚度为5mm，颜色抑制层101的厚度为20nm，离子阻挡层102的厚度为23nm，导电层103的厚度为320nm。组成导电层103的氟掺杂二氧化锡中，氟元素与锡元素的摩尔比为4:9。
本实施例制备的镀膜玻璃的遮阳和低辐射性能见表3。
实施例2
本实施例提供一种遮阳型低辐射镀膜镀膜玻璃的制备方法，其具体方法参照实施例1。
本实施例制备的镀膜玻璃的结构和使用的镀膜器的排列方式同样参照实施例1。
区别在于，着色玻璃基板2在浮法锡槽中以830m/h的速度从上游向下游移动，着色玻璃基板2的厚度为3.5mm；
所述第一镀膜器3使用的工艺气体为氮气、氧气和二甲基二氯化锡的混合气体，氮气流量为390L/min，氧气流量为230L/min，二甲基二氯化锡的流量为2.7kg/h，其中氮气分为主承载气和旁通气两部分；
所述第二镀膜器4使用的工艺气体为氮气和硅烷的混合气体，氮气的流量为400L/min，硅烷的流量为2.1L/min，其中氮气分为主承载气和旁通气两部分；
所述第三镀膜器5使用的工艺气体的组成和流量与第二镀膜器4相同；
所述第四镀膜器6使用的工艺气体为氮气、氧气、二甲基二氯化锡、氟化氢和水蒸气的混合气体，氮气的流量为325L/min，氧气的流量为300L/min，二甲基二氯化锡的流量为16kg/h，氟化氢的流量为12L/min，氟化氢在进入所述第四镀膜器6前，先与氮气混合得到氟化氢/氮气混合气，所述氟化氢/氮气混合气中，氟化氢与氮气的摩尔比为0.8，水蒸气的流量为80L/min，其中氮气分为主承载气、旁通气、轴承吹扫气和与氟化氢混合的氮气四部分；
所述第五镀膜器7使用的工艺气体的组成和流量与第四镀膜器6相同。
本实施例制备得到的镀膜玻璃中，着色玻璃基板的厚度为3.5mm，颜色抑制层101的厚度为20nm，离子阻挡层102的厚度为23nm，导电层103的厚度为320nm。组成导电层103的氟掺杂二氧化锡中，氟元素与锡元素的摩尔比为4:9。
本实施例制备的镀膜玻璃的遮阳和低辐射性能见表3。
实施例3
本实施例提供一种遮阳型低辐射镀膜镀膜玻璃的制备方法，其具体方法参照实施例1。
本实施例制备的镀膜玻璃的结构和使用的镀膜器的排列方式同样参照实施例1。
区别在于，着色玻璃基板2在浮法锡槽中以500m/h的速度从上游向下游移动，着色玻璃基板2的厚度为6mm；
所述第一镀膜器3使用的工艺气体为氮气、氧气和二甲基二氯化锡的混合气体，氮气流量为390L/min，氧气流量为230L/min，二甲基二氯化锡的流量为1.5kg/h，其中氮气分为主承载气和旁通气两部分；
所述第二镀膜器4使用的工艺气体为氮气和硅烷的混合气体，氮气的流量为400L/min，硅烷的流量为1.25L/min，其中氮气分为主承载气和旁通气两部分；
所述第三镀膜器5使用的工艺气体的组成和流量与第二镀膜器4相同；
所述第四镀膜器6使用的工艺气体为氮气、氧气、二甲基二氯化锡、氟化氢和水蒸气的混合气体，氮气的流量为325L/min，氧气的流量为300L/min，二甲基二氯化锡的流量为8.2kg/h，氟化氢的流量为12L/min，氟化氢在进入所述第四镀膜器6前，先与氮气混合得到氟化氢/氮气混合气，所述氟化氢/氮气混合气中，氟化氢与氮气的摩尔比为0.8，水蒸气的流量为80L/min，其中氮气分为主承载气、旁通气、轴承吹扫气和与氟化氢混合的氮气四部分；
所述第五镀膜器7使用的工艺气体的组成和流量与第四镀膜器6相同。
本实施例制备得到的镀膜玻璃中，着色玻璃基板的厚度为6mm，颜色抑制层101的厚度为20nm，离子阻挡层102的厚度为23nm，导电层103的厚度为320nm。组成导电层103的氟掺杂二氧化锡中，氟元素与锡元素的摩尔比为4:9。
本实施例制备的镀膜玻璃的遮阳和低辐射性能见表3。
实施例4
本实施例提供一种遮阳型低辐射镀膜镀膜玻璃的制备方法，其具体方法参照实施例1。
本实施例制备的镀膜玻璃的结构和使用的镀膜器的排列方式同样参照实施例1。
区别在于，着色玻璃基板2在浮法锡槽中以330m/h的速度从上游向下游移动，着色玻璃基板2的厚度为8mm；
所述第一镀膜器3使用的工艺气体为氮气、氧气和二甲基二氯化锡的混合气体，氮气流量为390L/min，氧气流量为230L/min，二甲基二氯化锡的流量为0.8kg/h，其中氮气分为主承载气和旁通气两部分；
所述第二镀膜器4使用的工艺气体为氮气和硅烷的混合气体，氮气的流量为400L/min，硅烷的流量为0.5L/min，其中氮气分为主承载气和旁通气两部分；
所述第三镀膜器5使用的工艺气体的组成和流量与第二镀膜器4相同；
所述第四镀膜器6使用的工艺气体为氮气、氧气、二甲基二氯化锡、氟化氢和水蒸气的混合气体，氮气的流量为325L/min，氧气的流量为300L/min，二甲基二氯化锡的流量为4kg/h，氟化氢的流量为10L/min，氟化氢在进入所述第四镀膜器6前，先与氮气混合得到氟化氢/氮气混合气，所述氟化氢/氮气混合气中，氟化氢与氮气的摩尔比为0.8，水蒸气的流量为80L/min，其中氮气分为主承载气、旁通气、轴承吹扫气和与氟化氢混合的氮气四部分；
所述第五镀膜器7使用的工艺气体的组成和流量与第四镀膜器6相同。
本实施例制备得到的镀膜玻璃中，着色玻璃基板的厚度为8mm，颜色抑制层101的厚度为20nm，离子阻挡层102的厚度为23nm，导电层103的厚度为320nm。组成导电层103的氟掺杂二氧化锡中，氟元素与锡元素的摩尔比为4:9。
本实施例制备的镀膜玻璃的遮阳和低辐射性能见表3。
实施例5
本实施例提供一种镀膜玻璃的应用方法，其具体方法为：
将本发明实施例2制备的厚度为3.5mm的镀膜玻璃同厚度为0.76mm的聚乙烯醇缩丁醛(Polyvinyl butyral，PVB)夹层膜以及厚度为3.5mm的透明玻璃组成夹层玻璃。
本实施例制备的夹层玻璃的遮阳和低辐射性能见表3。
实施例6
本实施例提供一种镀膜玻璃的应用方法，其具体方法为：
将本发明实施例1制备的厚度为5mm的镀膜玻璃同厚度为5mm的透明玻璃组成具有12mm厚的间隔空间的中空玻璃。
本实施例制备的中空玻璃的遮阳和低辐射性能见表3。
实施例7
本实施例提供一种镀膜玻璃的应用方法，其具体方法为：
将本发明实施例3制备的厚度为6mm的镀膜玻璃同厚度为6mm的透明玻璃组成具有12mm厚的间隔空间的中空玻璃。
本实施例制备的中空玻璃的遮阳和低辐射性能见表3。
对比例1
本对比例不采用本发明提供的由着色玻璃基板和无色镀膜层制备的镀膜玻璃产品，而是直接使用5mm透明非镀膜玻璃产品。
对比例2
本对比例不采用本发明提供的由着色玻璃基板和无色镀膜层制备的镀膜玻璃产品，而是使用5mm透明玻璃镀有色膜层产品。
对比例3
本对比例的镀膜玻璃结构参照实用新型CN 204725952U的实施例，即不采用本发明提供的镀膜玻璃由着色玻璃基板和无色镀膜层制备的产品，而是5mm透明玻璃镀低辐射(Low-e)膜层的产品。
本对比例制备镀膜玻璃的遮阳和低辐射性能见表3。
表3
综合上述实施例和对比例可知，本发明提供的镀膜玻璃(以5mm为例)因为具有着色玻璃基板和无色镀膜层，所以遮阳效果和低辐射效果俱佳，可强烈吸收阳光中的紫外线，具有优秀的防紫外辐射功能，同时该镀膜玻璃冬季可以有效的保留热量，夏季可反射80％以上的阳光辐射热，具有同样优秀的节能效果。对比例没有采用本发明的方案，因而无法取得本发明的效果。
申请人声明，本发明通过上述实施例来说明本发明的详细工艺设备和工艺流程，但本发明并不局限于上述详细工艺设备和工艺流程，即不意味着本发明必须依赖上述详细工艺设备和工艺流程才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了，对本发明的任何改进，对本发明产品各原料的等效替换及辅助成分的添加、具体方式的选择等，均落在本发明的保护范围和公开范围之内。

Claims (67)

1.一种镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃包括着色玻璃基板(2)和无色镀膜层(1)，所述无色镀膜层(1)镀在着色玻璃基板(2)的表面；
所述无色镀膜层(1)为三层结构，所述无色镀膜层(1)自着色玻璃基板(2)向外依次为颜色抑制层(101)、离子阻挡层(102)和导电层(103)；
所述颜色抑制层(101)的厚度为18nm-22nm；
所述离子阻挡层(102)的厚度为21nm-25nm；
所述导电层(103)的厚度为300nm-330nm；
所述颜色抑制层(101)为二氧化锡层；
所述离子阻挡层(102)为二氧化硅层；
所述导电层(103)为氟掺杂二氧化锡层；
所述着色玻璃基板(2)为绿色玻璃基板；
所述镀膜玻璃的厚度为3.5mm-8mm。
2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述颜色抑制层(101)的厚度为20nm。
3.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述离子阻挡层(102)的厚度为23nm。
4.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述导电层(103)的厚度为320nm。
5.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述氟掺杂二氧化锡中，氟元素与锡元素的摩尔比为4:8-4:10。
6.根据权利要求5所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述氟掺杂二氧化锡中，氟元素与锡元素的摩尔比为4:9。
7.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃的厚度为3.5mm。
8.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃的厚度为5mm。
9.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃的厚度为6mm。
10.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃的厚度为8mm。
11.根据权利要求1-10任一项所述的镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
着色玻璃基板(2)从上游向下游移动的过程中，在着色玻璃基板(2)表面进行在线沉积镀膜得到所述镀膜玻璃。
12.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述沉积为化学气相沉积。
13.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述着色玻璃基板(2)从上游向下游移动在浮法锡槽中进行。
14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，所述着色玻璃基板(2)从上游向下游移动的速度为330m/h-830m/h。
15.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法中，用镀膜器在玻璃表面进行在线沉积镀膜。
16.根据权利要求15所述的制备方法，其特征在于，所述镀膜器为并排的5个镀膜器，从上游到下游依次为第一镀膜器(3)、第二镀膜器(4)、第三镀膜器(5)、第四镀膜器(6)和第五镀膜器(7)。
17.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述第一镀膜器(3)镀颜色抑制层。
18.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述第一镀膜器(3)镀二氧化锡层。
19.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述第二镀膜器(4)和第三镀膜器(5)均镀离子阻挡层。
20.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述第二镀膜器(4)和第三镀膜器(5)均镀二氧化硅层。
21.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述第四镀膜器(6)和第五镀膜器(7)均镀导电层。
22.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述第四镀膜器(6)和第五镀膜器(7)均镀氟掺杂二氧化锡层。
23.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述第一镀膜器(3)使用的工艺气体成分为氮气、氧气和二甲基二氯化锡的混合气。
24.根据权利要求23所述的制备方法，其特征在于，所述第一镀膜器(3)使用的工艺气体中，氮气的流量为380L/min-400L/min。
25.根据权利要求24所述的制备方法，其特征在于，所述第一镀膜器(3)使用的工艺气体中，氮气的流量为390L/min。
26.根据权利要求23所述的制备方法，其特征在于，所述第一镀膜器(3)使用的工艺气体中，氧气的流量为220L/min-240L/min。
27.根据权利要求26所述的制备方法，其特征在于，所述第一镀膜器(3)使用的工艺气体中，氧气的流量为230L/min。
28.根据权利要求23所述的制备方法，其特征在于，所述第一镀膜器(3)使用的工艺气体中，二甲基二氯化锡的流量为0.8kg/h-3kg/h。
29.根据权利要求23所述的制备方法，其特征在于，所述第一镀膜器(3)使用的工艺气体中，二甲基二氯化锡的流量与着色玻璃基板(2)的移动速率成正比。
30.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述第二镀膜器(4)使用的工艺气体成分为氮气和硅烷的混合气。
31.根据权利要求30所述的制备方法，其特征在于，所述第二镀膜器(4)使用的工艺气体中，氮气的流量为390L/min-410L/min。
32.根据权利要求31所述的制备方法，其特征在于，所述第二镀膜器(4)使用的工艺气体中，氮气的流量为400L/min。
33.根据权利要求30所述的制备方法，其特征在于，所述第二镀膜器(4)使用的工艺气体中，硅烷的流量为0.5L/min-2.5L/min。
34.根据权利要求30所述的制备方法，其特征在于，所述第二镀膜器(4)使用的工艺气体中，硅烷的流量与着色玻璃基板(2)的移动速率成正比。
35.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述第三镀膜器(5)使用的工艺气体成分为氮气和硅烷的混合气。
36.根据权利要求35所述的制备方法，其特征在于，所述第三镀膜器(5)使用的工艺气体中，氮气的流量为390L/min-410L/min。
37.根据权利要求36所述的制备方法，其特征在于，所述第三镀膜器(5)使用的工艺气体中，氮气的流量为400L/min。
38.根据权利要求35所述的制备方法，其特征在于，所述第三镀膜器(5)使用的工艺气体中，硅烷的流量为0.5L/min-2.5L/min。
39.根据权利要求35所述的制备方法，其特征在于，所述第三镀膜器(5)使用的工艺气体中，硅烷的流量与着色玻璃基板(2)的移动速率成正比。
40.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述第四镀膜器(6)使用的工艺气体成分为氮气、氧气、二甲基二氯化锡、氟化氢和水蒸气的混合气体。
41.根据权利要求40所述的制备方法，其特征在于，所述第四镀膜器(6)使用的工艺气体中，氮气的流量为315L/min-335L/min。
42.根据权利要求41所述的制备方法，其特征在于，所述第四镀膜器(6)使用的工艺气体中，氮气的流量为325L/min。
43.根据权利要求40所述的制备方法，其特征在于，所述第四镀膜器(6)使用的工艺气体中，氧气的流量为290L/min-310L/min。
44.根据权利要求43所述的制备方法，其特征在于，所述第四镀膜器(6)使用的工艺气体中，氧气的流量为300L/min。
45.根据权利要求40所述的制备方法，其特征在于，所述第四镀膜器(6)使用的工艺气体中，二甲基二氯化锡的流量为4kg/h-17kg/h。
46.根据权利要求40所述的制备方法，其特征在于，所述第四镀膜器(6)使用的工艺气体中，二甲基二氯化锡的流量与着色玻璃基板(2)的移动速率成正比。
47.根据权利要求40所述的制备方法，其特征在于，所述第四镀膜器(6)使用的工艺气体中，氟化氢的流量为10L/min-15L/min。
48.根据权利要求47所述的制备方法，其特征在于，所述第四镀膜器(6)使用的工艺气体中，氟化氢的流量为12L/min。
49.根据权利要求40所述的制备方法，其特征在于，所述氟化氢在进入第四镀膜器(6)前，先与氮气混合得到氟化氢/氮气混合气，所述氟化氢/氮气混合气中，氟化氢与氮气的摩尔比为0.7-0.9。
50.根据权利要求49所述的制备方法，其特征在于，所述氟化氢在进入第四镀膜器(6)前，先与氮气混合得到氟化氢/氮气混合气，所述氟化氢/氮气混合气中，氟化氢与氮气的摩尔比为0.8。
51.根据权利要求40所述的制备方法，其特征在于，所述第四镀膜器(6)使用的工艺气体中，水蒸气的流量为70L/min-90L/min。
52.根据权利要求51所述的制备方法，其特征在于，所述第四镀膜器(6)使用的工艺气体中，水蒸气的流量为80L/min。
53.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述第五镀膜器(7)使用的工艺气体成分为氮气、氧气、二甲基二氯化锡、氟化氢和水蒸气的混合气体。
54.根据权利要求53所述的制备方法，其特征在于，所述第五镀膜器(7)使用的工艺气体中，氮气的流量为315L/min-335L/min。
55.根据权利要求54所述的制备方法，其特征在于，所述第五镀膜器(7)使用的工艺气体中，氮气的流量为325L/min。
56.根据权利要求53所述的制备方法，其特征在于，所述第五镀膜器(7)使用的工艺气体中，氧气的流量为290L/min-310L/min。
57.根据权利要求56所述的制备方法，其特征在于，所述第五镀膜器(7)使用的工艺气体中，氧气的流量为300L/min。
58.根据权利要求53所述的制备方法，其特征在于，所述第五镀膜器(7)使用的工艺气体中，二甲基二氯化锡的流量为4kg/h-17kg/h。
59.根据权利要求53所述的制备方法，其特征在于，所述第五镀膜器(7)使用的工艺气体中，二甲基二氯化锡的流量与着色玻璃基板(2)的移动速率成正比。
60.根据权利要求53所述的制备方法，其特征在于，所述第五镀膜器(7)使用的工艺气体中，氟化氢的流量为10L/min-15L/min。
61.根据权利要求60所述的制备方法，其特征在于，所述第五镀膜器(7)使用的工艺气体中，氟化氢的流量为12L/min。
62.根据权利要求53所述的制备方法，其特征在于，所述氟化氢在进入第五镀膜器(7)前，先与氮气混合得到氟化氢/氮气混合气，所述氟化氢/氮气混合气中，氟化氢与氮气的摩尔比为0.7-0.9。
63.根据权利要求62所述的制备方法，其特征在于，所述氟化氢在进入第五镀膜器(7)前，先与氮气混合得到氟化氢/氮气混合气，所述氟化氢/氮气混合气中，氟化氢与氮气的摩尔比为0.8。
64.根据权利要求53所述的制备方法，其特征在于，所述第五镀膜器(7)使用的工艺气体中，水蒸气的流量为70L/min-90L/min。
65.根据权利要求64所述的制备方法，其特征在于，所述第五镀膜器(7)使用的工艺气体中，水蒸气的流量为80L/min。
66.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
着色玻璃基板(2)在浮法锡槽中以330m/h-830m/h的速度从上游向下游移动的过程中，用并排的5个镀膜器在着色玻璃基板(2)表面进行在线化学气相沉积镀膜得到所述镀膜玻璃；
其中，所述并排的5个镀膜器，从上游到下游依次为第一镀膜器(3)、第二镀膜器(4)、第三镀膜器(5)、第四镀膜器(6)和第五镀膜器(7)；所述第一镀膜器(3)镀二氧化锡层；所述第二镀膜器(4)和第三镀膜器(5)均镀二氧化硅层；所述第四镀膜器(6)和第五镀膜器(7)均镀氟掺杂二氧化锡层；
所述第一镀膜器(3)使用的工艺气体为氮气、氧气和二甲基二氯化锡的混合气体，氮气流量为390L/min，氧气流量为230L/min，二甲基二氯化锡的流量为0.8kg/h-3kg/h；
所述第二镀膜器(4)使用的工艺气体为氮气和硅烷的混合气体，氮气的流量为400L/min，硅烷的流量为0.5L/min-2.5L/min；
所述第三镀膜器(5)使用的工艺气体的组成和流量与第二镀膜器(4)相同；
所述第四镀膜器(6)使用的工艺气体为氮气、氧气、二甲基二氯化锡、氟化氢和水蒸气的混合气体，氮气的流量为325L/min，氧气的流量为300L/min，二甲基二氯化锡的流量为4kg/h-17kg/h，氟化氢的流量为12L/min，氟化氢在进入所述第四镀膜器(6)前，先与氮气混合得到氟化氢/氮气混合气，所述氟化氢/氮气混合气中，氟化氢与氮气的摩尔比为0.8，水蒸气的流量为80L/min；
所述第五镀膜器(7)使用的工艺气体的组成和流量与第四镀膜器(6)相同。
67.根据权利要求1-10任一项所述的镀膜玻璃的用途，其特征在于，所述镀膜玻璃用于制备中空玻璃、制备夹层玻璃或单片使用。
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