CN107966213B - 一种衍射光栅周期的测量装置、测量方法以及标定方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种衍射光栅周期的测量装置、测量方法以及标定方法，测量装置包括底板、主支架、测量屏、一维位移平台、光栅台、光源发生装置以及光源调整架；采用可见光波长的光源发生装置作为发射源，以已知的固定角度入射至反射式衍射光栅。衍射光栅将入射激光衍射至特定角度，投射到圆弧形的测量屏。测量屏根据衍射光栅方程预先标记有对应周期刻度，根据m＝1的一级衍射光点在测量屏上的光点对应的刻度，直接读出光栅刻线周期。本发明的测量方法简单，测量速度快、操作简单，测量周期广，可多档位测量，增大增量量程，并且测量精度高，且精度可通过刻线密度进行调整，具有重要的应用价值。

Description

一种衍射光栅周期的测量装置、测量方法以及标定方法

技术领域

本发明涉及光物理领域，具体涉及一种衍射光栅周期的测量装置、测量方法以及标定方法。

背景技术

衍射光栅是一种分光元件，也是光谱仪器的核心元件。1960年代以前，全息光栅、刻划光栅等作为色散元件广泛用于摄谱仪光谱分析，是分析物质成分、探索宇宙奥秘、开发大自然的必用仪器，极大地推动了包括物理学、天文学、化学、生物学等科学的全面发展。随着科学技术的发展，其应用早已不局限于光谱学领域，在计量学、天文学、集成光学、光通信、原子能等方面已被广泛应用。特别是反射式的衍射光栅在科研和技术等诸多领域成为无可替代的及其重要的工具。例如，衍射光栅应用于集成光学、光学全息、光谱分析、模糊处理、数模转换、相关存储、光束耦合、光束扩束、光束偏转、光束取样、光束分光、光学逻辑、数据储存、光学测试、模式转换、位相共轭、脉冲整形与压缩、调Q、锁模、信号处理、太阳能聚焦、空间光调制、光学开关、诊断测量、图像识别等等，同时光栅还在不断在新领域得到应用。

反射式衍射光栅对入射光产生色散的主要原理是多光束干涉，如图1所示。设平行光束以入射角α斜入射到刻线周期为d的反射光栅上，并且所考察的衍射光与入射光分别处于光栅法线的两侧或者同侧。当光束到达光栅时，两支相邻光束的光程差为Δ＝dsinα±dsinβ。

目前，测量衍射光栅的周期(刻线密度)有很多方法，例如通过显微镜直接测量、通过测量衍射角度计算等。但均没有专用的针对光栅的周期进行测量的测量装置，因此，测试步骤复杂，测量速度慢。

发明内容

本发明针对现有技术中的缺陷提供了一种衍射光栅周期的测量装置、测量方法以及标定方法。

本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：

一种衍射光栅周期测量装置，包括底板和设置于所述底板上的主支架，还包括测量屏、一维位移平台、光栅台、光源发生装置以及光源调整架；

所述测量屏固定连接于所述一维位移平台上、且能够随一维位移平台的移动而移动；所述测量屏上设置有至少一档光栅周期测量数值；

所述一维位移平台设置于底板上，且所述一维位移平台能够通过在水平方向前后移动来调节所述测量屏上的光栅周期测量档位；

所述光栅台用于放置衍射光栅，所述光栅台与所述主支架活动连接，通过所述光栅台的旋转来调整投射至所述衍射光栅上的入射光的入射角；

所述光源调整架设置于所述光栅台的上方、并与所述主支架活动连接；

所述光源发生装置设置于所述光源调整架上，所述光源发生装置发出的光通过调整所述光源调整架使光竖直向下投射至所述衍射光栅上。

进一步地，根据入射光投射至所述衍射光栅上的入射角的不同，所述测量屏上并排设置有多档光栅周期测量数值，不同档位的光栅周期测量数值的量程不同。

进一步地，所述测量屏为向外凸出的圆弧形测量屏，所述衍射光栅发出的反射光投射至圆弧形测量屏的内侧，所述圆弧形测量屏的一端连接于主支架上，所述圆弧形测量屏的另一端延伸至所述光源调整架或所述光源发生装置的下方、并通过水平支板固定连接于所述一维位移平台的上端面，所述水平支板与所述圆弧形测量屏的端部固定连接。

进一步地，所述光栅台通过光栅台调整架与所述主支架连接，所述光栅台调整架与所述主支架活动连接，所述光栅台调整架可相对于主支架旋转或伸长缩短等，便于灵活调整光栅台。

进一步地，所述光源发生装置或所述光源调整架下方的所述圆弧形测量屏上设有光源校准线，该光源校准线保证由所述光源发生装置发出的光源为竖直向下。

进一步地，所述光栅台上设有校准孔，所述校准孔设置于所述光源发生装置的正下方，所述光源发生装置发出的竖直向下的光恰好能够通过所述校准孔。

进一步地，所述光源发生装置为激光笔，简单、容易购买、价格实惠。

进一步地，所述衍射光栅周期测量装置的测量精度能够通过所述测量屏上的光栅周期测量数值的标注密度来调节，数值的标注密度越密则测量精度越高。

进一步地，所述光栅周期测量数值的测量范围为：0.3μm-2.5μm(约等于刻线密度400/mm-3000/mm)，具体地，所述光栅周期测量数值的测量范围为：0.32μm～2.45μm。

进一步地，所述测量屏上每个档位的光栅周期测量数值中均包括一个零级对准点和多个周期值；零级对准点用来标定衍射光栅的放置角度。

本发明还提供一种根据上述的衍射光栅周期测量装置的光栅周期测量方法，所述方法包括以下步骤：

S1：光源校准：将光源发生装置放置于所述光源调整架上，打开所述光源发生装置使其发出光，调整所述光源调整架使光竖直向下；

S2：衍射光栅的校准：移动一维位移平台使光栅反射光点投射于测量屏的光栅周期测量数值上；然后旋转光栅台使衍射光栅发出的零级衍射光对准测量屏上光栅周期测量数值中的零级对准点；

S3：读取周期数值：完成步骤S3中的操作后，则一级衍射光投射至测量屏上的对应刻度即为待测衍射光栅的光栅周期。

进一步地，步骤S1中所述的光源校准的具体方法为：将光源发生装置放置于所述光源调整架上，打开所述光源发生装置的电源发出光，调整光源调整架，使光通过衍射光栅台中心的圆形校准孔、并与所述测量屏下方的光源校准线重合，保证激光笔呈竖直方向，从而保证激光竖直向下，完成测量前的校准。

进一步地，步骤S3中，根据入射光投射至所述光栅上的入射角的不同，所述测量屏上能够并排设置有多档光栅周期测量数值，则衍射光栅的校准方法为：移动一维位移平台选择测量屏上的光栅周期测量数值档位，然后旋转光栅台使衍射光栅发出的零级衍射光对准所述测量屏上相应档位中的零级对准点，不同档位的光栅周期测量数值的测量范围不同，调整档位能够提高测量精度。

一种根据所述的衍射光栅周期测量装置进行光栅周期的标定方法，所述标定方法为：

①根据光栅方程对光栅周期数值进行标定；

所述的光栅方程为：d sinα±d sinβ＝mλ(m＝0，±1，±2…)，其中，d为光栅周期，α为入射角度，β为衍射角度，m为衍射级数，λ为波长；

当入射光与衍射光于同一侧时，光栅方程中等号左边取正号；当入射光与衍射光于法线的两侧时，光栅方程中等号右边取负号；

当衍射级数确定时，在某一确定的入射角度α下，计算光栅周期d与衍射角度β的相互关系，并将在不同衍射角度β下的光栅周期d的数值标注在圆弧形测量屏上，在某一确定的入射角度α下所标定的一纵列周期数值为一个测量档位。

②采用所述的衍射光栅周期测量装置标定零级对准点，所述零级对准点为在某一入射角度α下，将光栅看作镜面时的反射点。

进一步地，所述形测量屏上能够根据不同的入射角度α并排标定多纵列的周期数值使所述圆弧形测量屏上设有多个测量档位，增加光栅周期的测量范围。

进一步地，所述衍射光栅周期测量装置的测量精度能够通过所述测量屏上的光栅周期测量数值的标注密度来调节，数值的标注密度越密则测量精度越高；按照每档刻度个数为100个计算，α＝15度档测量精度为0.02μm，可根据需要进行更密刻度制作以进一步提高测量精度。

进一步地，所述的数值标注方法可以以刻线的方式进行标注。

本发明的有益效果为：

本发明提供了一种衍射光栅周期的测量装置、测量方法以及标定方法，其可对入射到光栅上的特定波长、特定入射角度的激光角度进行光栅周期的测量，测量方法简单，测量速度快、操作简单，测量周期广，可多档位测量，增大增量量程，并且测量精度高，且精度可通过刻线密度进行调整，具有重要的应用价值。

附图说明

图1是本发明实施例所述的光束斜入射到反射光栅上发生衍射的原理示意图；

图2是本发明实施例所述的衍射光栅周期的测量装置的立体结构示意图；

图3是本发明实施例所述的衍射光栅周期的测量装置的结构示意图；

图4是本发明实施例所述的入射角度α＝15度时光栅周期与β的对应关系示意图；

图5是本发明实施例所述的入射角度α＝30度时光栅周期与β的对应关系示意图；

图6是本发明实施例所述的入射角度α＝45度时光栅周期与β的对应关系示意图；

图7是本发明实施例所述的入射角度α＝60度时光栅周期与β的对应关系示意图；

图8是本发明实施例所述的入射角度α＝75度时光栅周期与β的对应关系示意图；

图9是本发明实施例所述的入射角度α＝30度档的刻度标注方法。

图中：

1、底板；2、主支架；3、圆弧形测量屏；4、一维位移平台；5、光源调整架；6、光源发生装置；7、衍射光栅；8、光栅台；9、光栅台调整架；10、水平支板；11、光源校准线。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“前”、“后”、“上端面”、“竖直”、“水平”、等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

实施例1

如图2～3所示，本发明实施例所述的一种衍射光栅周期的测量装置，包括底板、设置于底板上的主支架、圆弧形测量屏、一维位移平台、光栅台、光源发生装置以及光源调整架；

圆弧形测量屏连接于一维位移平台的上端面，且该圆弧形测量屏能够随着调节一维位移平台的移动而移动；圆弧形测量屏上根据光栅方程标有纵向排列的刻度(即周期数值)，并按不同的入射角度横向排列多个测量档位，通过一维位移平台调整所要对准的档位，从而具有多档测量的效果，即根据入射光投射至衍射光栅上的入射角的不同，圆弧形测量屏上并排设置有多档光栅周期测量数值，不同档位的光栅周期测量数值的测量范围不同，采用多档位测量，能够增加光栅周期的测量范围。如图4和图8所示，在入射角度α＝15度下，最大测量周期为2.45μm；在入射角度α＝75度下最小测量周期为0.32μm，因此本装置的测量范围可以为0.32μm-2.45μm，按照每档刻度个数为100个计算，α＝15度档测量精度为0.02μm，可根据需要进行更密刻度制作以进一步提高测量精度；如图9所示的是入射角度α＝30度下的刻度坐标(部分刻度的周期数值没有标出，但不影响整体技术方案的理解)。

上述圆弧形测量屏上的光栅周期测量数值的多档可以为5档，分别为：入射角度α为15度、30度、45度、60度以及75度时的五个档位，当然，也可以根据需求，调节测量档位的数量。

一维位移平台设置于底板上，且一维位移平台能够通过在水平方向前后移动来调节设置于该一维位移平台上的圆弧形测量屏上的光栅周期测量档位，可随意调节某个档位来进行测量；

光栅台用于放置并固定衍射光栅，光栅台通过光栅台调整架与主支架活动连接，则光栅台可相对于主支架旋转或伸长缩短等灵活调整；通过光栅台的旋转来调整投射至衍射光栅上的入射光的入射角；

光栅台的中心位置处设有校准孔，校准孔设置于光源发生装置的正下方，所述光源发生装置发出的竖直向下的光恰好能够通过所述校准孔。

光源调整架设置于光栅台的上方，且与主支架活动连接，则通过光源调整架的调节来调整光源的方向使出射光竖直向下；

光源调整架或光源发生装置的下方的圆弧形测量屏上设有光源校准线11，该光源校准线11保证由光源发生装置发出的光源为竖直向下的光。

光源发生装置采用波长为633nm的红色激光笔，激光笔简单、容易购买、价格实惠，将激光笔固定于光源调整架上，并通过旋转光源调整架来调整激光笔，在未放置衍射光栅时，使激光笔出射的激光通过光栅台中心处的校准孔，并与圆弧形测量屏上的的光源校准线11重合，以保证激光笔为竖直方向，从而保证激光竖直向下。

作为进一步优选的实施方式，圆弧形测量屏为向外凸出的圆弧形测量屏，由衍射光栅发出的衍射光或反射光投射至圆弧形测量屏的内侧，圆弧形测量屏的一端连接于主支架上，圆弧形测量屏的另一端延伸至光源发生装置或光源调整架的下方并通过水平支板固定连接于一维位移平台上，水平支板与圆弧形测量屏的端部固定连接。

作为进一步优选的实施方式，光栅周期测量数值的测量范围为：0.32μm～2.45μm。

作为进一步优选的实施方式，圆弧形测量屏上的周期数值的精度可以根据刻度密度来调整，刻度越密集，则测量精度越高，反之亦然。

实施例2

实施例1中的圆弧形测量屏上可根据需要只设置一个光栅周期测量档位，即在某个入射角度下的周期刻度，则使用时只需要调整一维位移平台使反射光的光电恰好于圆弧形测量屏上所刻或所标定的周期数值上便可。只有一个档位，则量程不可调。

实施例3

一种采用实施例1或2的衍射光栅周期测量装置进行光栅周期的测量方法，包括以下步骤：

S1：光源的校准：光源发生装置仍然采用波长为633nm的红色激光笔，将激光笔固定于光源调整架上，在进行测量前，首先打开激光笔电源使其出射激光，调整光源调整架，使激光笔出射的激光通过光栅台中心处的校准孔，并与圆弧形测量屏上的的光源校准线11重合，保证激光笔称竖直方向，从而保证激光竖直向下，完成测量前的较调。

S2：衍射光栅的粗调：将待测衍射光栅固定设置于光栅台上，调整光栅台使光栅反射光点照射于测量屏上；

S3：衍射光栅的校准：圆弧形测量屏上有纵向排列的光栅周期数值，并按不同的入射角进行横向排列形成多档位测量，移动一维位移平台使光栅反射光点投射于圆弧形测量屏上的所要选择的光栅周期档位上，不同档位的光栅周期测量数值的测量范围不同，调整档位能够提高测量精度；然后旋转光栅台使衍射光栅发出的零级衍射光对准测量屏上光栅周期测量数值中的零级对准点；零级对准点指的是若将光栅看作镜面时的反射点，可以通过这个点标定光栅的角度；

S4：读取周期数值：完成步骤S3中的操作后，则一级衍射光投射至圆弧形测量屏上的对应刻度即为待测衍射光栅的光栅周期，直接读取便可。图9所示，图9是入射角度α＝30度下的刻度坐标，当衍射光栅的零级衍射光对准零级对准点时，光栅入射角度α＝30度，读出一级衍射光对应的刻度，如图9中β＝45度，周期为0.664μm。

对于上述的测量方法，如衍射角度过大或过小，可以采用一维位移平台调整圆弧形测量屏上的测量档位以提高测量精度。

对于上述步骤S3，圆弧形测量屏上可根据需要只设置一个光栅周期测量档位，即在某个入射角度下的周期刻度，则使用时只需要调整一维位移平台使反射光的光电恰好于圆弧形测量屏上所刻或所标定的周期数值上便可。只有一个档位，则量程不可调。

实施例4

如图3～9所示，一种在实施例1或2中的测量装置上标定衍射光栅周期的方法，该方法为：

①根据光栅方程对光栅周期数值进行标定；

光栅方程为：d sinα±d sinβ＝mλ(m＝0，±1，±2…)，其中，d为光栅周期，α为入射角度，β为衍射角度，m为衍射级数，λ为波长；当入射光与衍射光于同一侧时，光栅方程取正号；当入射光与衍射光于法线的两侧时，光栅方程取负号；

当衍射级数确定时，根据光栅方程可计算出在不同入射角度α下，衍射角度β对应的周期的大小。图4-图8是根据光栅方程计算的α＝15度、30度、45度、60度、75度下的周期与衍射角度β的关系；根据此关系在圆弧形测量屏上制作出对应的周期刻度值，在一个入射角度下所标定的一纵列周期数值为一个测量档位，图4-图8中的五个入射角度(即15度、30度、45度、60度、75度)可形成5个测量档位。图9所示，图9是入射角度α＝30度下的刻度坐标，当衍射光栅的零级衍射光对准零级对准点时，入射角度α＝30度，衍射角度β＝45度时，一级衍射光下周期为0.664μm，则在对应的位置标定0.664μm。

与上述方法相同步骤进行刻度制作，并在圆弧形测量屏上纵向排列，通过位移平台进行纵向移动，即可形成多档(不同α角度)测量，提高测量精度的同时拓宽了测量范围。如在α＝15度下，最大测量周期为2.45μm；在α＝75度下最小测量周期为0.32μm，因此本装置的测量范围可以为0.32μm-2.45μm(约等于刻线密度400/mm-3000/mm)。

按照每档刻度个数为100个计算，α＝15度档测量精度为0.02μm，可根据需要进行更密刻度制作以进一步提高测量精度。

②采用衍射光栅周期测量装置标定零级对准点：在入射角度30度下，将光栅看作镜面时的反射点即为零级对准点，则该零级对准点即为在入射角度α为30度档位中的零级对准点；再根据该方法，标定入射角度α为15度、45度、60度以及75度下的零级对准点；

需要说明的是，根据上述标定方法，可根据实际需要，选择在测量屏上只标定一个档位的光栅周期数值(即在一个入射角度下)，也可以标定两个、三个、5个或更多的测量档位(即在不同的入射角度下)。

具体实施时，本发明采用可见光波长激光笔作为发射源(例如633nm红光)，以已知的固定角度入射至反射式衍射光栅。衍射光栅将入射激光衍射至特定角度，投射到圆弧形的测量屏。测量屏根据衍射光栅方程预先标记有对应周期刻度，根据m＝1的一级衍射光点在测量屏上的光点对应的刻度，直接读出光栅刻线周期。本发明主要采用m＝1的一级衍射光点进行测量，因为一级衍射点通常比较强，因此便于测量。

本发明的圆弧形测量屏可采用半透明塑料制作从而利于进行刻度读取。

还需要说明的是，本装置本身能够调节衍射级数，而调节衍射级数，如零级衍射光、一级衍射光等均属于本领域公知常识。衍射光栅本身对不同级数光衍射角度不同，零级衍射光即是将光栅看做平面反射镜反射的光，转动光栅即可转动此光束。

最后应说明的是：以上所述的各实施例仅用于说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或全部技术特征进行等同替换；而这些修改或替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种衍射光栅周期测量装置，包括底板和设置于所述底板上的主支架，其特征在于：还包括测量屏、一维位移平台、光栅台、光源发生装置以及光源调整架；

所述测量屏固定连接于所述一维位移平台上且能够随一维位移平台的移动而移动；且所述测量屏上设置有至少一档光栅周期测量数值；

所述一维位移平台设置于底板上，且所述一维位移平台能够通过在水平方向前后移动来调节所述测量屏上的光栅周期测量档位；

所述光栅台放置有衍射光栅，所述光栅台与所述主支架活动连接，通过所述光栅台的旋转来调整投射至所述衍射光栅上的入射光的入射角；

所述光源调整架设置于所述光栅台的上方并与所述主支架活动连接；

所述光源发生装置设置于所述光源调整架上，所述光源发生装置发出的光能够通过调整所述光源调整架使光竖直向下投射至所述衍射光栅上。

2.根据权利要求1所述的衍射光栅周期测量装置，其特征在于：根据入射光投射至所述衍射光栅上的入射角的不同，所述测量屏上并排设置有多档光栅周期测量数值，不同档位的光栅周期测量数值的量程不同。

3.根据权利要求2所述的衍射光栅周期测量装置，其特征在于：所述光源发生装置或所述光源调整架下方的所述测量屏上设有光源校准线，该光源校准线保证由所述光源发生装置发出的光源为竖直向下；

所述光栅台上设有校准孔，所述校准孔设置于所述光源发生装置的正下方，所述光源发生装置发出的光能够通过所述校准孔。

4.根据权利要求3所述的衍射光栅周期测量装置，其特征在于：所述测量屏上每个档位的光栅周期测量数值中均包括一个零级对准点和多个周期值。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的衍射光栅周期测量装置，其特征在于：所述测量屏为向外凸出的圆弧形测量屏，所述衍射光栅发出的反射光投射至圆弧形测量屏的内侧，所述圆弧形测量屏的一端连接于主支架上，所述圆弧形测量屏的另一端延伸至所述光源调整架的下方并通过水平支板固定连接于所述一维位移平台的上端面。

6.一种根据权利要求1～5中任一项所述的衍射光栅周期测量装置的光栅周期测量方法，其特征在于：所述方法包括以下步骤：

S1：光源校准：将光源发生装置放置于所述光源调整架上，打开所述光源发生装置使其发出光，调整所述光源调整架使光竖直向下；

S2：衍射光栅的校准：移动一维位移平台使光栅反射光点投射于测量屏的光栅周期测量数值上；然后旋转光栅台使衍射光栅发出的零级衍射光对准测量屏上光栅周期测量数值中的零级对准点；

S3：读取周期数值：完成步骤S2中的操作后，则一级衍射光投射至测量屏上的对应刻度即为待测衍射光栅的光栅周期。

7.根据权利要求6所述的光栅周期测量方法，其特征在于：

步骤S1中，所述的光源校准的具体方法为：将光源发生装置放置于所述光源调整架上，打开所述光源发生装置的电源发出光，调整光源调整架，使光通过衍射光栅台中心的圆形校准孔并与所述测量屏下方的光源校准线重合，保证激光笔呈竖直方向，从而保证激光竖直向下，完成测量前的校准；

步骤S2中，根据入射光投射至所述光栅上的入射角的不同，所述测量屏上能够并排设置有多档光栅周期测量数值，则衍射光栅的校准方法为：移动一维位移平台选择测量屏上的光栅周期测量数值档位，然后旋转光栅台使衍射光栅发出的零级衍射光对准所述测量屏上相应档位中的零级对准点，不同档位的光栅周期测量数值的测量范围不同，调整档位能够提高测量精度。

8.一种采用权利要求1～5中任一项所述的衍射光栅周期测量装置进行光栅周期的标定方法，其特征在于：所述标定方法为：

①根据光栅方程对光栅周期数值进行标定；

所述的光栅方程为：dsinα±dsinβ＝mλ(m＝0，±1，±2…)，其中，d为光栅周期，α为入射角度，β为衍射角度，m为衍射级数，λ为波长；

当入射光与衍射光位于同一侧时，光栅方程取正号；当入射光与衍射光位于法线的两侧时，光栅方程取负号；

当衍射级数确定时，在某一确定的入射角度α下，计算光栅周期d与衍射角度β的相互关系，并将在不同衍射角度β下的光栅周期d的数值标注在测量屏上，在某一确定的入射角度α下所标定的一纵列周期数值为一个测量档位；

②采用所述的衍射光栅周期测量装置标定零级对准点，所述零级对准点为在某一入射角度α下，将光栅看作镜面时的反射点。

9.根据权利要求8所述的光栅周期的标定方法，其特征在于：所述测量屏上能够根据不同的入射角度α并排标定多纵列的周期数值使所述测量屏上设有多个测量档位，以增加光栅周期的测量范围。

10.根据权利要求9所述的光栅周期的标定方法，其特征在于：所述衍射光栅周期测量装置的测量精度能够通过所述测量屏上的光栅周期测量数值的标注密度来调节，数值的标注密度越密则测量精度越高。

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