CN107946345A - 彩膜基板及其制备方法以及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了彩膜基板及其制备方法以及显示装置。其中，所述彩膜基板包括：衬底；彩膜层，所述彩膜层设置在所述衬底的第一表面上，包括同层设置的黑矩阵和彩色滤光片；覆盖层，所述覆盖层设置在所述彩膜层远离所述衬底的表面上；隔垫物，所述隔垫物设置在所述覆盖层远离所述衬底的表面上；电极，所述电极设置在所述覆盖层远离所述衬底的表面上，且覆盖所述隔垫物。发明人发现，将隔垫物直接设置在覆盖层表面粘附力较强，使得隔垫物能够牢固的贴附在覆盖层表面上且不易脱落，从而提高产品良率，所述电极导电性能良好且能有效保护所述隔垫物，上述彩膜基板的结构简单，易于实现，成本较低。

Description

彩膜基板及其制备方法以及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体的，涉及彩膜基板及其制备方法以及显示装置。

背景技术

目前，OLED显示装置由于其优良的使用性能受到越来越广泛的关注。其中，按光从显示器中的OLED器件出射方向的不同，主要分为两种不同的结构：一种是底发射OLED器件，另一种是顶发射OLED器件。在底发射器件中，光只能部分地从阵列基板上设置的开口处射出，大部分的光都被浪费，开口率较低，而且随着清晰度的提高，开口率还会降低；在顶发射器件中，光从器件的顶部出射则不受阵列基板中薄膜晶体管(TFT)的影响，因此能有效提高开口率，理论上可达100％，有利于OLED器件与电路的集成。因此未来制备大尺寸、高清晰度显示装置需要重点研究顶发射有源驱动有机发光器件(AM-OLED)，它要求OLED器件要与薄膜晶体管(TFT)配合使用，但是由于目前的彩膜基板良率低不能满足使用要求导致在TFT阵列基板与彩膜基板压合过程中存在很多工艺问题。

因而，目前的彩膜基板仍有待改进。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种隔垫物粘附力强、良率高、工艺简单或者成本低的彩膜基板。

在本发明的一个方面，本发明提供了一种彩膜基板。根据本发明的实施例，所述彩膜基板包括：衬底；彩膜层，设置在所述衬底的第一表面上，包括同层设置的黑矩阵和彩色滤光片；覆盖层，所述覆盖层设置在所述彩膜层远离所述衬底的表面上；隔垫物，所述隔垫物设置在所述覆盖层远离所述衬底的表面上；电极，所述电极设置在所述覆盖层远离所述衬底的表面上，且覆盖所述隔垫物。发明人发现，将隔垫物直接设置在覆盖层表面粘附力较强，使得隔垫物能够牢固的贴附在覆盖层表面上且不易脱落，提高产品良率，电极能够有效起到保护隔垫物和导电的作用，并且上述彩膜基板的结构简单，易于实现，成本较低。

根据本发明的实施例，所述电极包括：透明导电氧化物电极，所述透明导电氧化物电极设置在所述覆盖层远离所述衬底的表面上，且覆盖所述隔垫物；金属电极，所述金属电极设置在所述透明导电氧化物电极远离所述衬底的表面上。由此，结构简单，易于实现，且透明导电氧化物电极导电性能良好，并能进一步提高隔垫物的结合强度，使其不易移位和变形，而且将金属电极设置在透明导电氧化物电极的表面有利于提高电极的导电性，由于形成金属电极与透明导电氧化物电极的材料性质类似，将金属电极设置在透明导电氧化物电极的表面上粘附性较佳，不易脱落，二者结合的比较紧密、牢固，使得产品的良率较高，并可以简化工艺，成本较低，使用性能较佳。

根据本发明的实施例，所述金属电极由一个第一透明金属面电极或多个在第一方向上间隔设置的子金属电极构成。由此，结构简单，易于实现，导电性能较佳，使用性能较佳。

根据本发明的实施例，所述黑矩阵在所述衬底上的正投影覆盖所述子金属电极在所述衬底上的正投影。由此，子金属电极并不会影响光线的射出，可以为透明的也可以为不透明的，材料选择范围更加广泛，并且导电性能良好，有效提高显示质量，使用性能较佳。

根据本发明的实施例，所述电极由一个第二透明金属面电极构成。由此，结构简单，易于实现，导电性能较佳。

根据本发明的实施例，所述黑矩阵限定出多个开口区域，所述彩色滤光片设置在所述开口区域，且覆盖所述黑矩阵的边缘。将彩色滤光片覆盖黑矩阵的边缘使得透过开口区域的光能够有效经过彩色滤光片的过滤，可以降低漏光现象，提高含有上述彩膜基板的显示装置的显示质量，提高消费者的消费体验。

根据本发明的实施例，所述黑矩阵在所述衬底上的正投影覆盖所述隔垫物在所述衬底上的正投影，且在第一方向上，所述隔垫物的宽度小于相邻两个所述开口区域之间的距离。由于隔垫物与黑矩阵相对应，且宽度小于相邻两个开口区域之间的距离，使得光的透过不受隔垫物的影响，透过率较高，使用性能较佳。

在本发明的另一方面，本发明提供了一种显示装置。根据本发明的实施例，所述显示装置包括前面所述的彩膜基板。所述显示装置含有前面所述的彩膜基板的全部特征和优点，在此不再过多赘述，并且所述显示装置的显示质量较佳，使用性能较佳。

在本发明的再一方面，本发明提供了一种制备彩膜基板的方法。根据本方面的实施例，所述方法包括：在衬底的第一表面上形成彩膜层；在所述彩膜层远离所述的衬底的表面上形成覆盖层；在所述覆盖层远离所述衬底的表面上形成隔垫物；在所述覆盖层远离所述衬底的表面上形成覆盖所述隔垫物的电极。发明人发现，采用上述方法制备彩膜基板操作简单方便，易于实现，并且将隔垫物形成在覆盖层的表面粘附力较强，隔垫物不容易脱落，提高产品良率，节约成本，且所述电极能够在导电的同时起到保护隔垫物的作用。

根据本发明的实施例，形成所述电极的方法包括：在所述覆盖层远离所述衬底的表面上形成覆盖所述隔垫物的透明导电氧化物电极；在所述透明导电氧化物电极远离所述衬底的表面上形成金属电极。由此，操作简单方便，易于实现，金属电极在透明导电氧化物电极的表面粘附力较强，不易脱落，产品良率较高，且将金属电极设置在透明导电氧化物电极的表面有利于提高导电性，提高显示装置的显示质量。

附图说明

图1是本发明一个实施例中彩膜基板的结构示意图。

图2是本发明另一个实施例中彩膜基板的结构示意图。

图3是本发明另一个实施例中彩膜基板的结构示意图。

图4是本发明另一个实施例中彩膜基板的结构示意图。

图5是本发明一个实施例中制备彩膜基板的方法的流程示意图。

图6和图7是本发明一个实施例中步骤S100中获得的产品的结构示意图。

图8是本发明一个实施例中步骤S200中获得的产品的结构示意图。

图9是本发明一个实施例中步骤S300中获得的产品的结构示意图。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。

本发明是基于发明人以下认识和发现而完成的：

借鉴LCD显示装置的结构，若想实现OLED顶发射显示装置，需要通过将阵列基板和彩膜基板压合的工艺实现顶发射结构。目前用于OLED顶发射显示装置的彩膜基板，通常将透明金属电极设置在覆盖层的表面，隔垫物设置在透明金属电极远离覆盖层的表面，但这种结构形成OLED顶发射结构件存在很多工艺问题：1、对于彩膜基板的设计中，怎样实现TFT阵列基板与彩膜基板精确的压合，如何降低金属走线短路的风险，提高良率；2、如何提高透明金属电极与覆盖层的粘附力，避免透明金属电极的脱落；3、如何提高隔垫物在透明金属电极层上的粘附力，避免隔垫物发生脱落；4、如何降低金属走线电阻等。针对上述问题，发明人进行了深入的研究，研究后发现，将隔垫物直接设置在覆盖层的表面，可以有效提高隔垫物与覆盖层的粘附力，防止隔垫物脱落，有效避免了将隔垫物设置在透明金属电极上容易脱落的问题；类似的，将透明金属电极设置在透明金属氧化物电极的表面，二者之间的粘附力较强，可以防止透明金属电极的脱落，有效避免了将透明金属电极设置在覆盖层上容易脱落的问题，进而实现TFT阵列基板与彩膜基板精确的压合；并且金属电极的材料来源广泛，工艺容限较大，采用铜金属制程能够有效降低金属走线电阻，并能有效避免金属走线短路的风险。

有鉴于此，在本发明的一个方面，本发明提供了一种彩膜基板。根据本发明的实施例，参照图1，所述彩膜基板包括：衬底10；彩膜层20，彩膜层20设置在所述衬底10的第一表面上，包括同层设置的黑矩阵21和彩色滤光片22；覆盖层30，所述覆盖层30设置在所述彩膜层20远离所述衬底10的表面上；隔垫物40，所述隔垫物40设置在所述覆盖层30远离所述衬底10的表面上；电极50，所述电极50设置在所述覆盖层30远离所述衬底10的表面上，且覆盖所述隔垫物40。发明人发现，将隔垫物直接设置在覆盖层表面粘附力较强，使得隔垫物能够牢固的贴附在覆盖层表面上且不易脱落，提高产品良率，并且上述彩膜基板的结构简单，易于实现，成本较低，且电极能够有效起到保护隔垫物和导电的作用。

根据本发明的实施例，形成覆盖层的材料没有特别限制，只要能够有效覆盖彩膜层并且使得远离彩膜层的表面平坦，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择。例如形成覆盖层的材料可以包括但不限于树脂(resin)、硅-玻璃层合材料(SOG)或者苯并环丁烯(BCB)等，其中树脂可以包括光学胶等。

根据本发明的实施例，形成隔垫物的材料没有特别限制，只要能够有效起到支撑作用或者具有合适的力学性能，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择。例如形成隔垫物的材料可以包括但不限于聚酰亚胺或者树脂等，由此，材料来源广泛，弹性较佳，支撑效果较佳。

根据本发明的实施例，形成隔垫物与覆盖层的材料均可以为有机材料，因此二者的性质类似，根据相似相容的原理，将隔垫物直接设置在覆盖层的表面，由此隔垫物与覆盖层之间的粘附力较强，能够有效避免隔垫物的脱落，提高产品良率。

根据本发明的实施例，隔垫物的形状没有特别限制，只要能够有效起到支撑作用，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择。例如隔垫物的形状可以为柱状，由此，隔垫物的支撑效果较佳，并能够使盒厚比较均匀。根据本发明的实施例，隔垫物的数量也没有特别限制，只要支撑效果较佳，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择。

根据本发明的实施例，上述电极的种类没有特别限制，只要能够满足要求，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择。例如电极的种类可以包括但不限于透明金属电极、透明金属氧化物电极或者二者的组合或者不透明金属电极等。

根据本发明的实施例，透明电极的结构没有特别限制，只要能够满足要求，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择。在本发明的一些实施例中，参照图2和图3，所述电极50包括：透明导电氧化物电极51和金属电极52，所述透明导电氧化物电极51设置在所述覆盖层30远离所述衬底10的表面上，且覆盖所述隔垫物40；所述金属电极52设置在所述透明导电氧化物电极51远离所述衬底10的表面上。由此，结构简单，易于实现，且可以使得透明电极兼具较高的透光率和较佳的导电性能，并能有效保护隔垫物，且由于金属电极与透明导电氧化物电极的性质类似，将金属电极设置在透明导电氧化物电极的表面上粘附性较佳，不易脱落，二者结合的比较紧密、牢固，使得产品的良率较高，并可以简化工艺，成本较低，使用性能较佳。

根据本发明的实施例，形成透明导电氧化物电极的材料没有特别限制，只要能够有效导电，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择。例如形成透明导电氧化物电极的材料可以包括但不限于铝掺杂的氧化锌(AZO)、氧化铝锌锡(AZTO)、氧化铟锡(ITO)或者掺杂氟的二氧化锡(FTO)等。

根据本发明的实施例，金属电极的结构没有特别限制，只要能够满足要求，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择。在本发明的一些实施例中，参照图3，所述金属电极52由一个第一透明金属面电极522构成；由此，结构简单，易于实现，导电性能较佳，使用性能较佳。在本发明的另一些实施例中，参照图2，所述金属电极52由多个在第一方向上间隔设置的子金属电极521构成。由此，结构简单，易于实现，导电性能较佳，且间隔设置的子金属电极能够使光线的透过率较大，使用性能较佳。

根据本发明的实施例，形成金属电极的材料没有特别限制，只要能够满足要求，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择，当金属电极由第一透明金属面电极构成时，形成金属电极的材料可以包括但不限于Ag、Al、Mg、Ca、Sm、Ba等，或其合金如Mg/Ag，Ca/Ag，Sm/Ag，Al/Ag，Ba/Ag等；由此，材料来源广泛，工艺容限较大，上述材料的导电性能较佳，使用性能较好。当金属电极由多个在第一方向上间隔设置的子金属电极521构成时，形成金属电极的材料可以包括但不限于Mo、Al、Ti、Au、Cu、Hf、Ta等常用金属，或其合金如AlNd，MoNb等，也可为多层金属如MoNb/Cu/MoNb、AlNd/Mo/AlNd等，由此，材料来源广泛，工艺容限较大。

根据本发明的实施例，上述子金属电极可以为透明电极也可以为不透明电极，且当子金属电极为不透明电极时可以采用Cu金属制程，以利于降低金属走线电阻。

根据本发明的实施例，为了提高显示质量并且不影响光的射出，参照图2，所述黑矩阵21在所述衬底10上的正投影覆盖所述子金属电极521在所述衬底10上的正投影。由此，子金属电极不会影响光线的射出，并且导电性能良好，有效提高显示质量，使用性能较佳。

在本发明的另一些实施例中，参照图4，所述电极50由一个第二透明金属面电极523构成，所述第二透明金属面电极523设置在所述覆盖层30远离所述衬底10的表面上，且覆盖所述隔垫物40。由此，结构简单，易于实现，并且能够起到保护隔垫物和导电的作用。

根据本发明的实施例，形成第二透明金属面电极的材料没有特别限制，只要能够满足要求，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择，例如形成第二透明金属面电极的材料可以包括但不限于Ag、Al、Mg、Ca、Sm、Ba等，或其合金如Mg/Ag，Ca/Ag，Sm/Ag，Al/Ag，Ba/Ag等；由此，材料来源广泛，工艺容限较大，且上述材料导电性能良好，使用性能较佳。

根据本发明的实施例，为了有效防止漏光现象以及实现彩色显示，在彩膜层中设置有黑矩阵和彩色滤光片，参照图1，所述黑矩阵21限定出多个开口区域，所述彩色滤光片22设置在所述开口区域，且覆盖所述黑矩阵21的边缘。将彩色滤光片覆盖黑矩阵的边缘使得透过开口区域的光能够有效经过彩色滤光片22的过滤，可以降低漏光现象，提高含有上述彩膜基板的显示装置的显示质量，体高消费者的消费体验。

根据本发明的实施例，参照图1，所述黑矩阵21在所述衬底上10的正投影覆盖所述隔垫物40在所述衬底10上的正投影，且在第一方向上，所述隔垫物40的宽度小于相邻两个所述开口区域之间的距离。由于隔垫物的宽度小于相邻两个开口区域之间的距离，使得光的透过不受隔垫物的影响，透过率较高，使用性能较佳。

根据本发明的实施例，形成黑矩阵的材料没有特别限制，只要能够有效避免漏光现象，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择。例如形成黑矩阵的材料可以包括但不限于掺入黑色颜料的树脂、金属或者掺杂有金属或者碳的光刻胶等。

根据本发明的实施例，彩色滤光片的颜色和排布方式没有特别限制，只要能够满足显示要求，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择。例如彩色滤光片的颜色可以包括红色、蓝色、绿色、黄色和透明的等；不同颜色的彩色滤光片的分布方式也没有特别限制，只要能够有效实现彩色显示，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择。

根据本发明的实施例，形成衬底的材料没有特别限制，只要能够满足透光要求，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择。例如形成衬底的材料可以包括但不限于玻璃、透明金属、树脂或者聚酰亚胺等。

在本发明的另一方面，本发明提供了一种显示装置。根据本发明的实施例，所述显示装置包括前面所述的彩膜基板。所述显示装置含有前面所述的彩膜基板的全部特征和优点，在此不再过多赘述，并且所述显示装置的显示质量较佳，使用性能较佳。

根据本发明的实施例，上述显示装置除了包括前面所述的彩膜基板之外，还包括一般显示装置应该具备的结构，例如阵列基板、OLED显示器件或液晶、电路或者封装层等。根据本发明的实施例，上述显示装置的类型可以为电脑、电视、手机、平板电脑、可穿戴设备或者车载显示器等，应用较为广泛。

在本发明的再一方面，本发明提供了一种制备彩膜基板的方法。根据本发明的实施例，参照图5，所述方法包括：

S100：在衬底10的第一表面上形成彩膜层20，结构示意图可参见图6和图7。

根据本发明的实施例，所述衬底与彩膜层与前面的描述一致，在此不再过多赘述。

需要说明的是，上述衬底的第一表面为使用时面向用户的表面。

根据本发明的实施例，形成彩膜层包括形成黑色矩阵和彩色滤光片的步骤，形成黑矩阵的步骤可以在形成彩色滤光片之前进行，只要能够满足彩色滤光片能够覆盖黑矩阵的边缘的要求即可。其中，形成黑色矩阵或者彩色滤光片的方式没有特别限制，只要能够满足要求，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择，例如形成黑色矩阵的或者彩色滤光片的方式各自可以独立的为溅射、涂覆、印刷、喷墨、电镀或者光刻等。

S200：在所述彩膜层20远离所述衬底10的表面上形成覆盖层30，结构示意图可参见图8。

根据本发明的实施例，上述覆盖层与前面描述的一致，在此不再过多赘述。

根据本发明的实施例，形成覆盖层的方式没有特别限制，只要能够使覆盖层的表面比较平坦，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择。例如形成覆盖层的方式可以为将形成覆盖层的材料涂覆在彩膜层远离衬底的表面，经过加热或者光照使得材料硬化形成。

S300：在所述覆盖层30远离所述衬底10的表面上形成隔垫物40，结构示意图可参见图9。

根据本发明的实施例，上述隔垫物与前面的描述一致，在此不再过多赘述。

根据本发明的实施例，形成隔垫物的方式没有特别限制，只要能够使隔垫物有效粘附在覆盖层表面，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择。在本发明的一些实施例中，将形成隔垫物的方式可以先将形成隔垫物的材料设置在覆盖层远离衬底的表面上，然后经过光刻或者切割等方式形成隔垫物。

S400：在所述覆盖层30远离所述衬底10的表面上形成覆盖所述隔垫物40的电极50，结构示意图可参见图1。

由此，操作简单方便，易于实现，电极的导电性能较佳，使用性能较佳。

根据本发明的实施例，上述电极与前面的描述一致，在此不再过多赘述。

根据本发明的实施例，形成电极的方式没有特别限制，只要能够使电极导电，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择，例如形成电极的方式可以为淀积、溅射、印刷或者涂覆等。

发明人发现，采用上述方法制备彩膜基板操作简单方便，易于实现，并且将隔垫物形成在覆盖层的表面，可以使其与覆盖层的结合比较紧密，粘附力较强，隔垫物不容易脱落，提高产品良率，节约成本。

根据本发明的实施例，形成所述电极的方法包括：在所述覆盖层30远离所述衬底10的表面上形成覆盖所述隔垫物40的透明导电氧化物电极51；在所述透明导电氧化物电极51远离所述衬底10的表面上形成金属电极52，结构示意图可参照图1。由此，操作简单方便，易于实现，金属电极在透明导电氧化物电极的表面粘附力较强，不易脱落，产品良率较高，且将金属电极设置在透明导电氧化物电极的表面有利于提高导电性，提高显示装置的显示质量。

根据本发明的实施例，所述透明导电氧化物电极以及金属电极与前面的描述一致，在此不再过多赘述。根据本发明的实施例，形成透明导电氧化电极的方式没有特别限制，可以包括但不限于淀积、溅射、印刷或者涂覆等，形成金属电极的方式也没有特别限制，可以包括但不限于淀积、溅射、刻蚀或者涂覆等，只要能够满足要求，本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择。

根据本发明的实施例，在一般的显示装置中，其中的彩膜基板中的隔垫物设置在金属电极上，金属电极设置在覆盖层上，由于隔垫物与金属电极之间以及金属电极与覆盖层的结合能力较差，导致隔垫物和金属电极比较容易脱落，使得产品的良率较低，降低显示装置的显示质量，进而限制其应用。而在本申请中，利用了形成隔垫物与覆盖层以及形成透明导电氧化物电极和金属电极的材料的性质相似的特点，根据相似相容的原理，将隔垫物设置在覆盖层上，将金属电极设置在透明导电氧化物电极上，有效使得覆盖层与隔垫物或者金属电极与透明导电氧化物电极粘结在一起，使得隔垫物或者金属电极不容易脱落，提高产品良率，并且工艺简单，有效节约了成本。

下面根据本发明的具体示例，详细描述本发明的制备彩膜基板的方法，具体如下：

实施例1：

在本实施例中，参照图6至图9和图2，其中，电极50包括透明导电氧化物电极51以及在第一方向上间隔设置的子金属电极521，制备彩膜基板的方法如下：

1.对玻璃衬底10进行清洗，在衬底10上连续沉积黑矩阵21、彩色滤光片22、覆盖层30，其中彩色滤光片22制备时先后沉积R、G、B各彩膜，并使彩色滤光片22对黑矩阵21有一定的覆盖；

2.沉积隔垫物40材料并形成图形，使隔垫物40图形位于挡光金属图形(或者黑矩阵21图形)的正上方，且图形的宽度要略小于黑矩阵21图形的宽度；

3.淀积一层透明导电氧化物电极51薄膜，其中透明导电氧化物材料可为ITO、AZO、IZO、AZTO等材料，或这几种材料的组合如AZO/ITO等；

4.最后淀积金属电极521，图形化后形成间隔设置的子金属电极，其材料可为Mo、Al、Ti、Au、Cu、Hf、Ta等常用金属，或其合金如AlNd，MoNb等，也可为多层金属如MoNb/Cu/MoNb、AlNd/Mo/AlNd等。

实施例2：

在本实施例中，参照图6至图9和图3，其中，电极50包括透明导电氧化物电极51以及第一透明金属面电极522，制备彩膜基板的方法如下：

1.对玻璃衬底10进行清洗，在衬底10上连续沉积黑矩阵21、彩色滤光片22、覆盖层30，其中彩色滤光片22层制备时先后沉积R、G、B各彩膜，并使彩色滤光片22对黑矩阵21有一定的覆盖；

2.沉积隔垫物40层材料并形成图形，使隔垫物40图形位于黑矩阵21图形的正上方，且图形的宽度要略小于黑矩阵21图形的宽度；

3.最后淀积一层透明导电氧化物电极51薄膜和一薄层透明金属电极522，其中透明导电氧化物材料可为ITO、AZO、IZO、AZTO等常用材料，或这几种材料的组合如AZO/ITO等；透明金属电极材料可为Ag、Al、Mg、Ca、Sm等，或其合金如Ca/Ag，Sm/Ag，Al/Ag等。

实施例3：

在本实施例中，参照图6至图9和图4，其中，电极50包括一个第二透明金属面电极523，制备彩膜基板的方法如下：

1.对玻璃衬底10进行清洗，在衬底上连续沉积黑矩阵21、彩色滤光片22、覆盖层30，其中彩色滤光片22层制备时先后沉积R、G、B各彩膜，并使彩色滤光片22对黑矩阵21有一定的覆盖；

2.沉积隔垫物40层材料并形成图形，使隔垫物40图形位于黑矩阵22图形的正上方，且图形的宽度要略小于黑矩阵22图形的宽度；

3.最后淀积一薄层透明金属电极523，其材料可为Ag、Al、Mg、Ca、Sm等，或其合金如Ca/Ag，Sm/Ag，Al/Ag等。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

衬底；

彩膜层，设置在所述衬底的第一表面上，包括同层设置的黑矩阵和彩色滤光片；

覆盖层，所述覆盖层设置在所述彩膜层远离所述衬底的表面上；

隔垫物，所述隔垫物设置在所述光学胶层远离所述衬底的表面上；

电极，所述电极设置在所述覆盖层远离所述衬底的表面上，且覆盖所述隔垫物。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述电极包括：

透明导电氧化物电极，所述透明导电氧化物电极设置在所述覆盖层远离所述衬底的表面上，且覆盖所述隔垫物；

金属电极，所述金属电极设置在所述透明导电氧化物电极远离所述衬底的表面上。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述金属电极由一个第一透明金属面电极或多个在第一方向上间隔设置的子金属电极构成。

4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵在所述衬底上的正投影覆盖所述子金属电极在所述衬底上的正投影。

5.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述电极由一个第二透明金属面电极构成。

6.根据权利要求1-5任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵限定出多个开口区域，所述彩色滤光片设置在所述开口区域，且覆盖所述黑矩阵的边缘。

7.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵在所述衬底上的正投影覆盖所述隔垫物在所述衬底上的正投影，且在第一方向上，所述隔垫物的宽度小于相邻两个所述开口区域之间的距离。

8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7中任一项所述的彩膜基板。

9.一种制备彩膜基板的方法，其特征在于，包括：

在衬底的第一表面上形成彩膜层；

在所述彩膜层远离所述衬底的表面上形成覆盖层；

在所述覆盖层远离所述衬底的表面上形成隔垫物；

在所述覆盖层远离所述衬底的表面上形成覆盖所述隔垫物的电极。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，形成所述电极的方法包括：

在所述覆盖层远离所述衬底的表面上形成覆盖所述隔垫物的透明导电氧化物电极；

在所述透明导电氧化物电极远离所述衬底的表面上形成金属电极。