CN107932196A - 碳化硅光学镜面加工方法 - Google Patents
碳化硅光学镜面加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107932196A CN107932196A CN201711137549.5A CN201711137549A CN107932196A CN 107932196 A CN107932196 A CN 107932196A CN 201711137549 A CN201711137549 A CN 201711137549A CN 107932196 A CN107932196 A CN 107932196A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- grinding
- abrasive material
- grinding tool
- workpiece
- polishing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B1/00—Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
本发明碳化硅光学镜面加工方法涉及镜面加工领域,具体涉及碳化硅光学镜面加工方法,包括以下步骤:将磨料与水按质量比1:1混合调匀备用;粗磨,工件粗磨时,磨具采用碳化硅盘,在研磨过程中不断的将调好的磨料加入磨具与工件之间,并以一定的压力和相对运动速度进行研磨;细磨阶段一般采用研磨法,磨具沿用粗磨阶段磨具,磨料选用粒径在10~100um之间的碳化硼粉或金刚石微粉,与粗磨相似,在研磨过程中不断的将调好的磨料加入磨具与工件之间,并以一定的压力和相对运动速度进行研磨;本发明可对碳化硅镜面加工,能保证加工精度,提高上产效率,降低成本及工人劳动强度,具有一定的经济价值。
Description
技术领域
本发明涉及镜面加工领域,具体涉及碳化硅光学镜面加工方法。
背景技术
碳化硅材料由于其较高的弹性模量、适中的密度、较小的热膨胀系数、较高的导热系数、耐热冲击性、高的比刚度、高度的尺寸稳定性及热性能与机械性能的各向同性等一系列优良的物理性质,受到越来越多的重视。碳化硅介质的光学镜面也越来越广泛的应用于空间光学系统和激光元器件中。一般认为,当碳化硅介质的表面粗糙度的均方根值小于工作波长的1/100—在可见红外区内一般为4 nm,面形精度均方根值达到加工要求,就认为该表面为碳化硅光学镜面。
碳化硅作为光学材料的研究大约开始于20世纪70年。目前,碳化硅材料的制造技术已经比较成熟,但是其光学加工非常困难。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提供一种可对碳化硅镜面加工,能保证加工精度,提高上产效率,降低成本及工人劳动强度,具有一定的经济价值的碳化硅光学镜面加工方法。
本发明碳化硅光学镜面加工方法,包括以下步骤:
第一步,将磨料与水按质量比1:1混合调匀备用;
第二步,粗磨,工件粗磨时,磨具采用碳化硅盘,在研磨过程中不断的将调好的磨料加入磨具与工件之间,并以一定的压力和相对运动速度进行研磨;
第三步,细磨阶段一般采用研磨法,磨具沿用粗磨阶段磨具,磨料选用粒径在10~100um之间的碳化硼粉或金刚石微粉, 与粗磨相似,在研磨过程中不断的将调好的磨料加入磨具与工件之间,并以一定的压力和相对运动速度进行研磨;细磨过程中的压力与相对速度也不宜过大,但是由于细磨阶段磨具与工件之间接触更紧密,接触面积变大,因此压力与速度可以比粗磨阶段相应加大;
第四步,抛光,在抛光阶段的初期,采用聚氨酯制成的抛光盘,以较大的压力和较高的速度,以提高抛光效率;当细磨阶段的下表面破坏层被完全去除后,就应当逐渐降低压力与速度,以便于更好的控制面形精度,在抛光的最后阶段采用沥青抛光盘。
优选地,粗磨磨料为粒径在100~200um之间的碳化硅粉或碳化硼粉。
本发明可对碳化硅镜面加工,能保证加工精度,提高上产效率,降低成本及工人劳动强度,具有一定的经济价值。
具体实施方式
碳化硅光学镜面加工方法,包括以下步骤:
第一步,将磨料与水按质量比1:1混合调匀备用;
第二步,粗磨,工件粗磨时,磨具采用碳化硅盘,在研磨过程中不断的将调好的磨料加入磨具与工件之间,并以一定的压力和相对运动速度进行研磨;
第三步,细磨阶段一般采用研磨法,磨具沿用粗磨阶段磨具,磨料选用粒径在10~100um之间的碳化硼粉或金刚石微粉, 与粗磨相似,在研磨过程中不断的将调好的磨料加入磨具与工件之间,并以一定的压力和相对运动速度进行研磨;细磨过程中的压力与相对速度也不宜过大,但是由于细磨阶段磨具与工件之间接触更紧密,接触面积变大,因此压力与速度可以比粗磨阶段相应加大;
第四步,抛光,在抛光阶段的初期,采用聚氨酯制成的抛光盘,以较大的压力和较高的速度,以提高抛光效率;当细磨阶段的下表面破坏层被完全去除后,就应当逐渐降低压力与速度,以便于更好的控制面形精度,在抛光的最后阶段采用沥青抛光盘。
粗磨磨料为粒径在100~200um之间的碳化硅粉或碳化硼粉。
抛光完成后,碳化硅工件的最佳表面粗糙度与其材料的制备方法有关。化学气相沉积制备的碳化硅的表面粗糙度均方根值可以达到0.5nm-1nm,而反应烧结制备的碳化硅为1.5nm-4nm。
Claims (2)
1.一种碳化硅光学镜面加工方法,其特征在于,包括以下步骤:
第一步,将磨料与水按质量比1:1混合调匀备用;
第二步,粗磨,工件粗磨时,磨具采用碳化硅盘,在研磨过程中不断的将调好的磨料加入磨具与工件之间,并以一定的压力和相对运动速度进行研磨;
第三步,细磨阶段采用研磨法,磨具沿用粗磨阶段磨具,磨料选用粒径在10~100um之间的碳化硼粉或金刚石微粉, 与粗磨相似,在研磨过程中不断的将调好的磨料加入磨具与工件之间,并以一定的压力和相对运动速度进行研磨;
第四步,抛光,在抛光阶段的初期,采用聚氨酯制成的抛光盘,以较大的压力和较高的速度,以提高抛光效率;当细磨阶段的下表面破坏层被完全去除后,降低压力与速度,以便于更好的控制面形精度,在抛光的最后阶段采用沥青抛光盘。
2.如权利要求1所述碳化硅光学镜面加工方法,其特征在于,所述粗磨磨料为粒径在100~200um之间的碳化硅粉或碳化硼粉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201711137549.5A CN107932196A (zh) | 2017-11-16 | 2017-11-16 | 碳化硅光学镜面加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201711137549.5A CN107932196A (zh) | 2017-11-16 | 2017-11-16 | 碳化硅光学镜面加工方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN107932196A true CN107932196A (zh) | 2018-04-20 |
Family
ID=61931524
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201711137549.5A Withdrawn CN107932196A (zh) | 2017-11-16 | 2017-11-16 | 碳化硅光学镜面加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN107932196A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113118879A (zh) * | 2021-04-16 | 2021-07-16 | 南京英田光学工程股份有限公司 | 避免镜面表面出现断层孔洞的烧结碳化硅的加工方法 |
-
2017
- 2017-11-16 CN CN201711137549.5A patent/CN107932196A/zh not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113118879A (zh) * | 2021-04-16 | 2021-07-16 | 南京英田光学工程股份有限公司 | 避免镜面表面出现断层孔洞的烧结碳化硅的加工方法 |
CN113118879B (zh) * | 2021-04-16 | 2022-06-03 | 南京英田光学工程股份有限公司 | 避免镜面表面出现断层孔洞的烧结碳化硅的加工方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Liu et al. | Grinding wheels for manufacturing of silicon wafers: a literature review | |
CN100579723C (zh) | 激光玻璃机械化学抛光方法 | |
CN101870091B (zh) | 一种陶瓷结合剂超细金刚石砂轮制备方法 | |
AU2002360393B2 (en) | Porous abrasive tool and method for making the same | |
JP2006346857A (ja) | 研磨工具 | |
Xie et al. | Study on axial-feed mirror finish grinding of hard and brittle materials in relation to micron-scale grain protrusion parameters | |
CN102172879A (zh) | 基于固结磨料抛光垫的软脆lbo晶体的加工方法 | |
CN109108844A (zh) | 一种耐热耐磨的树脂结合剂切割砂轮 | |
CN105817976A (zh) | 一种纳米深度损伤层高效超精密磨削方法 | |
CN106041761A (zh) | 一种陶瓷结合剂金刚石砂轮 | |
CN105437091A (zh) | 一种不锈钢端面磨削用大气孔树脂结合剂超硬材料砂轮及其制备方法 | |
Su et al. | Experimental research on performance of monolayer brazed diamond wheel through a new precise dressing method—plate wheel dressing | |
CN106041764A (zh) | 一种复合结合剂金刚石砂轮 | |
CN107932196A (zh) | 碳化硅光学镜面加工方法 | |
CN102407483A (zh) | 一种半导体晶圆高效纳米精度减薄方法 | |
Fiocchi et al. | Ultra-precision face grinding with constant pressure, lapping kinematics, and SiC grinding wheels dressed with overlap factor | |
CN106002654A (zh) | 一种磁场辅助镀镍金刚石有序排布砂轮及其制备方法 | |
CN104625888A (zh) | 碳化硅光学镜面加工方法 | |
JPH08506769A (ja) | 脆性材料製部材の機械加工方法およびこの方法を実施する装置 | |
CN104802043B (zh) | 一种自发热辅助高效延性域超精密磨削石英玻璃的方法 | |
CN203343907U (zh) | 一种上表面有导风槽的镜面抛光用金刚石砂轮 | |
Yang et al. | Characteristics of textured polishing wheels (TPW) for dry fixed abrasive polishing fused silica | |
Yin et al. | Ultraprecision finishing process integrated ELID grinding and MRF for BK glass | |
Yamaguchi et al. | Study on lapping and constant-pressure grinding of single-crystal SiC | |
CN111136589B (zh) | 一种磨粒晶界结合固着磨具的制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |
Application publication date: 20180420 |