CN107787173A - 吸波贴片及其制造方法 - Google Patents

吸波贴片及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107787173A
CN107787173A CN201610751858.0A CN201610751858A CN107787173A CN 107787173 A CN107787173 A CN 107787173A CN 201610751858 A CN201610751858 A CN 201610751858A CN 107787173 A CN107787173 A CN 107787173A
Authority
CN
China
Prior art keywords
wave absorbing
absorbing patch
manufacture method
step cure
laminated construction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201610751858.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107787173B (zh
Inventor
不公告发明人
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Guangqi Sophisticated Technique LLC
Original Assignee
Shenzhen Guangqi Sophisticated Technique LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Guangqi Sophisticated Technique LLC filed Critical Shenzhen Guangqi Sophisticated Technique LLC
Priority to CN201610751858.0A priority Critical patent/CN107787173B/zh
Publication of CN107787173A publication Critical patent/CN107787173A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107787173B publication Critical patent/CN107787173B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • H05K9/0073Shielding materials
    • H05K9/0081Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding
    • H05K9/0088Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding comprising a plurality of shielding layers; combining different shielding material structure

Abstract

本发明提出了一种吸波贴片及其制造方法,该吸波贴片的制造方法包括:将N个吸波层依次叠置,获得叠层结构,其中,N≥2;对叠层结构进行进行一段硫化处理;对一段硫化处理后的叠层结构进行二段硫化处理,以使任意两个吸波层的相邻界面变为曲形界面,形成吸波贴片。本发明通过采用二段硫化的成型方式,形成非平行的曲面界面,该曲面界面有利于增加入射电磁波在界面透射与散射的次数以及加强产生波叠加的干涉效果,从而增大吸波贴片的有效吸波频宽,同时,经硫化完全的多层结构吸波贴片界面结合力好,不会发生脱层现象。

Description

吸波贴片及其制造方法
技术领域
本发明涉及超材料领域,具体来说,涉及一种吸波贴片及其制造方法。
背景技术
随着电子行业的发展,越来越多的电子电器产品走进了人们的生活,而这些产品带来的电磁辐射对环境的影响也日益增加。电子产品释放的电磁波,会给周围的其它电子设备带来电磁干扰,使其工作异常;同时也会对人体健康造成危害。因此,研发能够削弱电磁辐射的吸波材料,已经成为材料科学关注的热门课题。
吸波材料是指能够有效吸收入射电磁波并使其衰减的一类材料,它通过不同的损耗机制将入射电磁波转化成热能或者其它能量形式以达到吸波的目的。吸波材料中,贴片型吸波材料厚度薄,使用方便,对于降低电磁辐射、防止电磁干扰有很好的效果,比较适合应用在电子产品中。目前,吸波贴片包括单层吸波贴片和多层结构的吸波贴片,其中,单层吸波贴片存在着吸波频带窄的问题,无法达到宽频的吸收效果,而多层结构的吸波贴片的制造方法采用的是将不同的吸波层采用热轧粘合或粘结剂层间黏合的方式,从而构建多层结构的吸波贴片,但是该多层结构的吸波材料的表面与层间界面平行,从而导致入射电磁波与界面的夹角不会发生变化,电磁波层间干涉效果较弱,且长时间使用易发生脱层现象的问题。
针对相关技术中的问题,目前尚未提出有效的解决方案。
发明内容
针对相关技术中的问题,本发明提出一种吸波贴片及其制造方法,能够通过采用二段硫化的成型方式,形成非平行的曲面界面,该曲面界面有利于增加入射电磁波在界面透射与散射的次数以及加强产生波叠加的干涉效果,从而增大吸波贴片的有效吸波频宽,同时,经硫化完全的多层结构吸波贴片界面结合力好,不会发生脱层现象。
本发明的技术方案是这样实现的:
根据本发明的一个方面,提供了一种吸波贴片的制造方法。
该吸波贴片的制造方法包括:
将N个吸波层依次叠置,获得叠层结构,其中,N≥2;
对叠层结构进行进行一段硫化处理;
对一段硫化处理后的叠层结构进行二段硫化处理,以使任意两个吸波层的相邻界面变为曲形界面,形成吸波贴片。
根据本发明的一个实施例,吸波贴片的外表面与相邻界面为非平行界面。
根据本发明的一个实施例,进一步包括:一段硫化温度为80℃~140℃,一段硫化时间为10min~20min,硫化压强为0.5MPa~5MPa。
根据本发明的一个实施例,一段硫化时间为30min。
根据本发明的一个实施例,进一步包括:二段硫化温度为150℃~180℃,二段硫化时间为20min~40min,硫化压强为3MPa~10MPa。
根据本发明的一个实施例,二段硫化时间为30min。
根据本发明的一个实施例,在热压机中进行一段硫化处理和二段硫化处理。
根据本发明的一个实施例,吸波层为薄片结构。
根据本发明的一个实施例,N个吸波层的厚度相同。
根据本发明的另一方面,提供了一种吸波贴片。
该吸波贴片包括:采用上述任一项吸波贴片的制造方法制得的吸波贴片。
本发明的有益技术效果在于:
本发明通过将N个吸波层依次叠置,获得叠层结构,随后对叠层结构进行进行一段硫化处理,最后对一段硫化处理后的叠层结构进行二段硫化处理,以使任意两个吸波层的相邻界面变为非平行的曲形界面,形成吸波贴片。本发明通过采用二段硫化的成型方式,形成非平行的曲面界面,该曲面界面有利于增加入射电磁波在界面透射与散射的次数以及加强产生波叠加的干涉效果,从而增大吸波贴片的有效吸波频宽,同时,经硫化完全的多层结构吸波贴片界面结合力好,不会发生脱层现象。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是根据本发明实施例的吸波贴片的制造方法的流程图;
图2是根据本发明实施例的叠层结构的示意图;
图3是根据本发明实施例的吸波贴片的侧视图;
图4是根据本发明实施例的吸波贴片的透射和反射的示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
根据本发明的实施例,提供了一种吸波贴片的制造方法。
如图1所示,根据本发明实施例的吸波贴片的制造方法包括:
步骤S101,将N个吸波层依次叠置,获得叠层结构,其中,N≥2;
步骤S103,对叠层结构进行进行一段硫化处理;
步骤S105,对一段硫化处理后的叠层结构进行二段硫化处理,以使任意两个吸波层的相邻界面变为曲形界面,形成吸波贴片。
在该实施例中,如图2所示,将吸波层A、B、……N依次叠置,其中,吸波层为通过开炼机进行薄通处理得到均匀的薄片A、B、……N(N≥2),当然可以理解,吸波层的叠置方式也可根据实际需求进行放置,例如,根据本发明的一个实施例,将吸波层A放置于最低端,随后依次进行叠置,本发明对此不作限制,随后将该叠层结构进行进行一段硫化处理,最后将一段硫化处理后的叠层结构进行二段硫化处理,以使任意两个吸波层的相邻界面变为曲形界面,如图4所示,吸波贴片的层间界面与吸波界面的外表面不平行,有利于增加入射电磁波在界面透射与散射的次数以及加强产生波叠加的干涉效果,从而增大吸波贴片的有效吸波频宽。当然可以理解,根据实际需求将任意两个相连界面形成的曲面界面设置成互相平行或者不平行,本发明对此不作限制。
通过本发明的上述方案,能够通过将N个吸波层依次叠置,获得叠层结构,随后对叠层结构进行进行一段硫化处理,最后对一段硫化处理后的叠层结构进行二段硫化处理,以使任意两个吸波层的相邻界面变为非平行的曲形界面,形成吸波贴片。本发明通过采用二段硫化的成型方式,形成非平行的曲面界面,该曲面界面有利于增加入射电磁波在界面透射与散射的次数以及加强产生波叠加的干涉效果,从而增大吸波贴片的有效吸波频宽,同时,经硫化完全的多层结构吸波贴片界面结合力好,不会发生脱层现象,此外,该制造方法仍采用传统的加工设备,无需改变现有生产线,从而具有较大的适用性。
根据本发明的一个实施例,吸波贴片的外表面与相邻界面为非平行界面。例如,如图3所示,吸波贴片的侧面为矩形界面,该矩形界面的上下表面与层间界面为非平行界面,其中,层间界面为任意两个吸波层的相连界面。
根据本发明的一个实施例,进一步包括:一段硫化温度为80℃~140℃,一段硫化时间为10min~20min,硫化压强为0.5MPa~5MPa。
在该实施例中,一段硫化的目的是防止一次性过快的硫化导致吸波层间的气泡无法及时排除,当然可以理解,根据根据实际需求,对一段硫化的条件进行设置,例如,根据本发明的一个实施例,一段硫化温度为75℃,本发明对此不做限定。
根据本发明的一个实施例,一段硫化时间为30min,该时间为优先的一段硫化时间,可保证一段硫化的效率,同时,防止一次性过快的硫化导致吸波层间的气泡无法及时排除的情况。
根据本发明的一个实施例,进一步包括:二段硫化温度为150℃~180℃,二段硫化时间为20min~40min,硫化压强为3MPa~10MPa。
在该实施例中,二段硫化的目的是形成曲面界面,该曲面界面有利于增加入射电磁波在界面透射与散射的次数以及加强产生波叠加的干涉效果,进而提高多层结构吸波贴片的有效频宽,当然可以理解,根据根据实际需求,对一段硫化的条件进行设置,例如,根据本发明的一个实施例,二段硫化温度为190℃,本发明对此不做限定。
根据本发明的一个实施例,二段硫化时间为30min,该时间为优先的二段硫化时间,可保证二段硫化的效率。
根据本发明的一个实施例,在热压机中进行一段硫化处理和二段硫化处理。
在该实施例中,将叠层结构放置于热压机中,将该热压机的温度设置为80-140℃,压强设置为0.5-5MPa,时间设置为15min,进行一段预硫化,随后将该热压机的温度设置为150-180℃,压强设置为3-10MPa,时间设置为30min,进行二段预硫化。
根据本发明的一个实施例,吸波层为薄片结构,例如,如图2所示,吸波层A、B、……N均为薄片,当然可以理解,可根据实际需求,对吸波层A、B、……N的类型和形状进行设置,例如,根据本发明的一个实施例,吸波层A为超材料层,本发明对此不作限定。
根据本发明的一个实施例,N个吸波层的厚度相同,例如,如图2所示,吸波层A、B、……N的厚度相同,当然可以理解,可根据实际需求,对吸波层A、B、……N的厚度进行设置,例如,根据本发明的一个实施例,吸波层A为5mm,而吸波层B为10mm,本发明对此不作限定。
根据本发明的实施例,还提供了一种吸波贴片。
根据本发明实施例的吸波贴片包括:采用上述任一项吸波贴片的制造方法制得的吸波贴片。
综上所述,借助于本发明的上述技术方案,通过将N个吸波层依次叠置,获得叠层结构,随后对叠层结构进行进行一段硫化处理,最后对一段硫化处理后的叠层结构进行二段硫化处理,以使任意两个吸波层的相邻界面变为非平行的曲形界面,形成吸波贴片。本发明通过采用二段硫化的成型方式,形成非平行的曲面界面,该曲面界面有利于增加入射电磁波在界面透射与散射的次数以及加强产生波叠加的干涉效果,从而增大吸波贴片的有效吸波频宽,同时,经硫化完全的多层结构吸波贴片界面结合力好,不会发生脱层现象,此外,该制造方法仍采用传统的加工设备,无需改变现有生产线,从而具有较大的适用性。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种吸波贴片的制造方法,其特征在于,包括:
将N个吸波层依次叠置,获得叠层结构,其中,N≥2;
对所述叠层结构进行进行一段硫化处理;
对所述一段硫化处理后的叠层结构进行二段硫化处理,以使任意两个吸波层的相邻界面变为曲形界面,形成所述吸波贴片。
2.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述吸波贴片的外表面与所述相邻界面为非平行界面。
3.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,进一步包括:
所述一段硫化温度为80℃~140℃,所述一段硫化时间为10min~20min,硫化压强为0.5MPa~5MPa。
4.根据权利要求3所述的制造方法,其特征在于,所述一段硫化时间为30min。
5.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,进一步包括:
所述二段硫化温度为150℃~180℃,所述二段硫化时间为20min~40min,硫化压强为3MPa~10MPa。
6.根据权利要求5所述的制造方法,其特征在于,所述二段硫化时间为30min。
7.根据权利要求3和5任一项所述的制造方法,其特征在于,在热压机中进行所述一段硫化处理和所述二段硫化处理。
8.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述吸波层为薄片结构。
9.根据权利要求8所述的制造方法,其特征在于,所述N个吸波层的厚度相同。
10.一种吸波贴片,其特征在于,包括:采用上述权利要求1-9任一项所述吸波贴片的制造方法制得的吸波贴片。
CN201610751858.0A 2016-08-29 2016-08-29 吸波贴片及其制造方法 Active CN107787173B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610751858.0A CN107787173B (zh) 2016-08-29 2016-08-29 吸波贴片及其制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610751858.0A CN107787173B (zh) 2016-08-29 2016-08-29 吸波贴片及其制造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107787173A true CN107787173A (zh) 2018-03-09
CN107787173B CN107787173B (zh) 2020-03-24

Family

ID=61440791

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610751858.0A Active CN107787173B (zh) 2016-08-29 2016-08-29 吸波贴片及其制造方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107787173B (zh)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201816261U (zh) * 2010-04-16 2011-05-04 泰州拓谷超细粉体材料有限公司 多层结构Ku波段雷达吸波薄膜
CN102983407A (zh) * 2012-11-20 2013-03-20 深圳光启创新技术有限公司 三维结构超材料
JP2013093463A (ja) * 2011-10-26 2013-05-16 Nitto Denko Corp 電磁波吸収体及び電磁波吸収体の製造方法
CN104425720A (zh) * 2013-08-22 2015-03-18 海洋王照明科技股份有限公司 一种有机电致发光器件及其制备方法
CN105304248A (zh) * 2015-11-23 2016-02-03 上海无线电设备研究所 一种磁性吸波贴片缩比模拟复合材料配制方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201816261U (zh) * 2010-04-16 2011-05-04 泰州拓谷超细粉体材料有限公司 多层结构Ku波段雷达吸波薄膜
JP2013093463A (ja) * 2011-10-26 2013-05-16 Nitto Denko Corp 電磁波吸収体及び電磁波吸収体の製造方法
CN102983407A (zh) * 2012-11-20 2013-03-20 深圳光启创新技术有限公司 三维结构超材料
CN104425720A (zh) * 2013-08-22 2015-03-18 海洋王照明科技股份有限公司 一种有机电致发光器件及其制备方法
CN105304248A (zh) * 2015-11-23 2016-02-03 上海无线电设备研究所 一种磁性吸波贴片缩比模拟复合材料配制方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
礼嵩明等: "《"超材料"结构吸波复合材料》", 《材料工程》 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN107787173B (zh) 2020-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10090715B2 (en) System and method for transmitting data or power across a structural component
CN107171008A (zh) 膜电极的制备系统、膜电极的制备方法及燃料电池
WO2013122635A3 (en) Gas turbine fan composite containment case and methods of manufacture
CN103687347B (zh) 一种局部混压印制电路板的制作方法
JP2013538271A5 (zh)
CN203190888U (zh) 一种防弹陶瓷插板
RU2011100296A (ru) Слоистая панель с интегрированной усиливающей структурой и способ ее производства
CN108274830B (zh) 一种具有宽频屏蔽功能的轻量化的方舱壁板及其制备方法
CN102514353B (zh) 覆铜板的生产方法及该覆铜板
WO2016194671A1 (ja) 樹脂複合材料、その硬化方法、および樹脂成形品
JP2013028154A5 (zh)
WO2012056230A1 (en) Wind turbine component comprising radar -absorbing material
CN203537743U (zh) 一种电磁屏蔽吸波导热膜
CN107787173A (zh) 吸波贴片及其制造方法
TW201822993A (zh) 整合式耐燒蝕絕熱披覆
JP2012193374A5 (zh)
CN102963062B (zh) 复合板、超材料及其加工方法
CN107351512A (zh) 一种复合膜的生产工艺
CN208014534U (zh) 无线充电用导磁板及无线充电模块、接收装置和发射装置
JP2015024515A5 (ja) キャリア付銅箔、銅張積層板の製造方法及びプリント配線板の製造方法
CN103369872A (zh) 多层印刷电路板的压合方法
CN108638619B (zh) 一种耐冲击的电磁屏蔽层压板及其制备方法与应用
KR101617270B1 (ko) 금속 클래드 적층판의 제조 방법 및 인쇄 배선판
MX2009010955A (es) Tratamiento en linea de membrana y metodo para la formacion de un substrato para productos superpuestos.
CN108215385A (zh) 一种高吸收性能的电磁屏蔽薄膜及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant