CN107779830B - 一种应用于柱形旋转靶的挡板组件 - Google Patents

一种应用于柱形旋转靶的挡板组件 Download PDF

Info

Publication number
CN107779830B
CN107779830B CN201711096028.XA CN201711096028A CN107779830B CN 107779830 B CN107779830 B CN 107779830B CN 201711096028 A CN201711096028 A CN 201711096028A CN 107779830 B CN107779830 B CN 107779830B
Authority
CN
China
Prior art keywords
annular
free ring
ring
baffle
cylindrical rotary
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201711096028.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN107779830A (zh
Inventor
吴疆
李东滨
秦正春
冯斌
王德苗
金浩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zhejiang University Kunshan Innovation Institute
Original Assignee
Zhejiang University Kunshan Innovation Institute
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zhejiang University Kunshan Innovation Institute filed Critical Zhejiang University Kunshan Innovation Institute
Priority to CN201711096028.XA priority Critical patent/CN107779830B/zh
Publication of CN107779830A publication Critical patent/CN107779830A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107779830B publication Critical patent/CN107779830B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3464—Sputtering using more than one target

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Transmission Devices (AREA)

Abstract

本发明公开了一种应用于柱形旋转靶的挡板组件，包括自由环、半圆环挡板、连轴环、环状压板、轴承和滚珠；自由环呈U型，其外侧部上对称设置有两个限位件；半圆环挡板与自由环的底端相连；连轴环呈U型，设于自由环内部，包括圆环状的底部和环状凸起部；环状压板和轴承均套设在连轴环的环状凸起部外侧，环状压板通过外侧套设有弹性件的螺杆与自由环相连；连轴环的圆环状的底部的底表面与自由环的圆环状的底部的顶表面的对应位置处均设有环形凹槽，环形凹槽上设有球形凹坑，滚珠设于环形凹槽或者球形凹坑内。本发明无需使用单独配套的电机或者气缸等驱动装置，同时无需使用单独配套的真空腔体开孔结构和轴封结构，能够减少故障点的同时降低挡板的制作成本。

Description

一种应用于柱形旋转靶的挡板组件
技术领域
本发明属于溅射镀膜挡板结构技术领域，具体涉及一种应用于柱形旋转靶的挡板组件。
背景技术
溅射镀膜靶材的挡板结构用于防止不同材料靶材溅射的相互污染问题，对于柱形旋转靶而言，常采用半环形挡板结构。现有的半环形挡板开关一般采用两种方式：一种是采用独立的电机加传感器实现挡板的关闭；另一种方式是采用气缸驱动，前述的两种方式均需要配置与挡板单独配套的真空腔体开孔结构和轴封结构，从而会导致增加真空漏气故障点。
发明内容
针对上述问题，本发明提出一种应用于柱形旋转靶的挡板组件，无需使用单独配套的电机或者气缸等驱动装置，同时无需使用单独配套的真空腔体开孔结构和轴封结构，能够减少故障点的同时降低挡板的制作成本。
实现上述技术目的，达到上述技术效果，本发明通过以下技术方案实现：
一种应用于柱形旋转靶的挡板组件，包括自由环、半圆环挡板、连轴环、环状压板、轴承和滚珠；
所述自由环呈U型，包括圆环状的底部和环状凸起部，其外侧部上对称设置有两个限位件；
所述半圆环挡板与自由环的底端相连，其延伸方向与自由环的底部的延伸方向相垂直，且半圆环挡板的两个端部分别位于自由环上对应的限位件下方；
所述连轴环呈U型，设于自由环内部，且与自由环同轴设置，包括圆环状的底部和环状凸起部；
所述环状压板和轴承均套设在连轴环的环状凸起部外侧，所述环状压板位于轴承上方，且环状压板通过外侧套设有弹性件的螺杆与自由环上的环状凸起部相连；
所述连轴环的圆环状的底部的底表面与自由环的圆环状的底部的顶表面的对应位置处均设有环形凹槽，环形凹槽上还设有球形凹坑，连轴环和自由环上的环形凹槽共同形成跑道，所述滚珠设于环形凹槽或者球形凹坑内。
作为本发明的进一步改进，所述自由环外侧部的限位件为限位螺钉，两个限位螺钉之间的连线与自由环的轴线交叉垂直。
作为本发明的进一步改进，所述自由环的环状凸起部处设有至少3个用于容纳螺杆的孔。
作为本发明的进一步改进，所述环状压板上设有与螺杆数量一致的定位孔，所述定位孔的位置与自由环的环状凸起部处的孔的位置相对应。
作为本发明的进一步改进，所述自由环的底端通过焊接或螺钉与半圆环挡板相连。
作为本发明的进一步改进，所述弹性件为弹簧。
作为本发明的进一步改进，所述环形凹槽上至少设有3个球形凹坑。
作为本发明的进一步改进，所述球形凹坑均布在环形凹槽上。
本发明的有益效果：
本发明提出一种应用于柱形旋转靶的挡板组件，该组件中的连轴环用于通过螺钉固定在旋转靶的旋转轴上，自由环和环状压板通过滚珠和平面轴承与连轴环形成滚动结构；通过螺母调节弹簧的弹力以实现对滚动摩擦力的调节，当连轴环随着柱形旋转靶旋转时，将带动自由环和连接在自由环上的半圆环挡板旋转，直至定位螺钉碰到设于所述应用于柱形旋转靶的挡板组件外侧的腔体的某个设定位置而停止自由环的转动，所以通过旋转靶的正反转，即可实现半圆环挡板的开与关，从而实现了无需独立设置挡板旋转电机、气缸、真空腔体开孔和轴封等结构，能够减少故障点的同时降低挡板的制作成本。
附图说明
图1是本发明的一种实施例的剖面示意图；
图2是本发明的一种实施例的连轴环仰视示意图；
图3是本发明的一种实施例的自由环俯视示意图；
图4是本发明的一种实施例的环状压板俯视示意图；
图中附图标记的含义：
1为连轴环，1-1为连轴环环形凹槽，1-1-1为连轴环球形凹坑，2为自由环，2-1为自由环环形凹槽，2-1-1为自由环球形凹坑，2-2为用于容纳螺杆的孔，2-3为限位螺钉孔，3为螺母，4为环状压板，4-1为定位孔，5为轴承，6为弹性件、7为螺杆、8为滚珠、9为限位螺钉，10为半圆环挡板。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
下面结合附图对本发明的应用原理作详细的描述。
如图1-4所示，一种应用于柱形旋转靶的挡板组件，包括自由环2、半圆环挡板10、连轴环1、环状压板4、轴承5和滚珠8；
所述自由环2呈U型，包括圆环状的底部和环状凸起部，其外侧部上180°对称设置有两个限位螺钉孔2-3，限位螺钉孔2-3内设有限位螺钉9，两个限位螺钉9之间的连线与自由环2的中轴线交叉垂直；
所述半圆环挡板10与自由环2的底端相连，其延伸方向与自由环2的底部的延伸方向相垂直，且半圆环挡板10的两个端部分别位于自由环2上对应的限位螺钉9下方；具体实施时，所述自由环2的底端通过焊接或螺钉与半圆环挡板10相连；
所述连轴环1呈U型，设于自由环2内部，且与自由环2同轴设置，包括圆环状的底部和环状凸起部；
所述环状压板4和轴承5均套设在连轴环1的环状凸起部外侧，所述环状压板4位于轴承5上方，且环状压板4通过外侧套设有弹性件6的螺杆7与自由环2上的环状凸起部相连，螺杆7的一端设于自由环2上的环状凸起部内，另一端上设有螺母3；具体实施时，所述环状压板4上设有与螺杆7数量一致的定位孔4-1，所述定位孔4-1的位置与自由环2的环状凸起部处用于容纳螺杆的孔2-2的位置相对应；所述轴承5的横截面尺寸与连轴环1的环状凸起部的横截面尺寸相同，或者略小于连轴环1的环状凸起部的横截面尺寸；所述环状压板4的横截面尺寸大于连轴环1的环状凸起部的横截面尺寸，优选与自由环2的圆环状的底部的横截面尺寸相同；
所述连轴环1的圆环状的底部的底表面与自由环2的圆环状的底部的顶表面的对应位置处均设有环形凹槽(1-1，2-1)，环形凹槽(1-1，2-1)上还设有球形凹坑(1-1-1，2-1-1)，连轴环1和自由环2上的环形凹槽(1-1，2-1)共同形成跑道，所述滚珠8设于环形凹槽(1-1，2-1)或者球形凹坑(1-1-1，2-1-1)内，球形凹坑(1-1-1，2-1-1)的尺寸与滚珠相匹配。
在本发明的一种具体实施例中，所述自由环2的环状凸起部处设有至少3个用于容纳螺杆的孔2-2，容纳螺杆的孔2-2等间隔设置。
在本发明的一种具体实施例中，所述弹性件为弹簧，在本发明的其他实施例中，所述弹性件还可以是其他任意能够具有弹性的物件。
在本发明的一种具体实施例中，所述环形凹槽(1-1，2-1)上至少设有3个球形凹坑(1-1-1，2-1-1)；进一步地，所述球形凹坑(1-1-1，2-1-1)均布在环形凹槽(1-1，2-1)上。
综上所述：本发明的应用于柱形旋转靶的挡板组件的工作原理具体为：
正常工作时，连轴环通过螺钉连接在旋转靶的旋转轴上，并随着靶的旋转而旋转；通过调节螺帽而调节弹簧的弹力，将调节自由环和连轴环通过滚珠及平面轴承形成的滚动摩擦力，当滚动摩擦力足够大时，连轴环将随着自由环旋转，直至定位螺钉碰到设于所述应用于柱形旋转靶的挡板组件外侧的腔体的某个设定位置而停止自由环的转动，本发明中自由环上180°对称安装的限位螺钉将可限制自由环最大的旋转角度为180°，所以通过改变靶的旋转方向即可实现连接在自由环的挡板的开关，如此，在不需要额外增加电机或气缸，不需要在真空设备上额外打孔和增加轴封的情况下便可实现柱形旋转靶的挡板。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (8)

1.一种应用于柱形旋转靶的挡板组件，其特征在于：包括自由环、半圆环挡板、连轴环、环状压板、轴承和滚珠；
所述自由环呈U型，包括圆环状的底部和环状凸起部，其外侧部上对称设置有两个限位件；
所述半圆环挡板与自由环的底端相连，其延伸方向与自由环的底部的延伸方向相垂直，且半圆环挡板的两个端部分别位于自由环上对应的限位件下方；
所述连轴环呈U型，设于自由环内部，且与自由环同轴设置，包括圆环状的底部和环状凸起部；
所述环状压板和轴承均套设在连轴环的环状凸起部外侧，所述环状压板位于轴承上方，且环状压板通过外侧套设有弹性件的螺杆与自由环上的环状凸起部相连；
所述连轴环的圆环状的底部的底表面与自由环的圆环状的底部的顶表面的对应位置处均设有环形凹槽，环形凹槽上还设有球形凹坑，连轴环和自由环上的环形凹槽共同形成跑道，所述滚珠设于环形凹槽或者球形凹坑内。
2.根据权利要求1所述的一种应用于柱形旋转靶的挡板组件，其特征在于：所述自由环外侧部的限位件为限位螺钉，两个限位螺钉之间的连线与自由环的轴线交叉垂直。
3.根据权利要求1所述的一种应用于柱形旋转靶的挡板组件，其特征在于：所述自由环的环状凸起部处设有至少3个用于容纳螺杆的孔。
4.根据权利要求3所述的一种应用于柱形旋转靶的挡板组件，其特征在于：所述环状压板上设有与螺杆数量一致的定位孔，所述定位孔的位置与自由环的环状凸起部处的孔的位置相对应。
5.根据权利要求1所述的一种应用于柱形旋转靶的挡板组件，其特征在于：所述自由环的底端通过焊接或螺钉与半圆环挡板相连。
6.根据权利要求1所述的一种应用于柱形旋转靶的挡板组件，其特征在于：所述弹性件为弹簧。
7.根据权利要求1所述的一种应用于柱形旋转靶的挡板组件，其特征在于：所述环形凹槽上至少设有3个球形凹坑。
8.根据权利要求7所述的一种应用于柱形旋转靶的挡板组件，其特征在于：所述球形凹坑均布在环形凹槽上。
CN201711096028.XA 2017-11-09 2017-11-09 一种应用于柱形旋转靶的挡板组件 Active CN107779830B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711096028.XA CN107779830B (zh) 2017-11-09 2017-11-09 一种应用于柱形旋转靶的挡板组件

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711096028.XA CN107779830B (zh) 2017-11-09 2017-11-09 一种应用于柱形旋转靶的挡板组件

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107779830A CN107779830A (zh) 2018-03-09
CN107779830B true CN107779830B (zh) 2023-10-10

Family

ID=61432513

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201711096028.XA Active CN107779830B (zh) 2017-11-09 2017-11-09 一种应用于柱形旋转靶的挡板组件

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107779830B (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5240580A (en) * 1992-04-02 1993-08-31 Vlsi Technology, Inc. Conmag shield
EP2371992A1 (en) * 2010-04-01 2011-10-05 Applied Materials, Inc. End-block and sputtering installation
CN202157118U (zh) * 2011-07-18 2012-03-07 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 连续性镀膜生产线活动挡板装置
WO2015169393A1 (en) * 2014-05-09 2015-11-12 Applied Materials, Inc. Shielding device for rotatable cathode assembly and method for shielding a dark space in a deposition apparatus
CN106435499A (zh) * 2016-09-29 2017-02-22 中国电子科技集团公司第四十八研究所 一种磁控溅射镀膜机
CN207512254U (zh) * 2017-11-09 2018-06-19 浙江大学昆山创新中心 一种应用于柱形旋转靶的挡板组件

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5240580A (en) * 1992-04-02 1993-08-31 Vlsi Technology, Inc. Conmag shield
EP2371992A1 (en) * 2010-04-01 2011-10-05 Applied Materials, Inc. End-block and sputtering installation
CN202157118U (zh) * 2011-07-18 2012-03-07 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 连续性镀膜生产线活动挡板装置
WO2015169393A1 (en) * 2014-05-09 2015-11-12 Applied Materials, Inc. Shielding device for rotatable cathode assembly and method for shielding a dark space in a deposition apparatus
CN106435499A (zh) * 2016-09-29 2017-02-22 中国电子科技集团公司第四十八研究所 一种磁控溅射镀膜机
CN207512254U (zh) * 2017-11-09 2018-06-19 浙江大学昆山创新中心 一种应用于柱形旋转靶的挡板组件

Also Published As

Publication number Publication date
CN107779830A (zh) 2018-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20170098990A1 (en) Self-alignment Protection Device for Permanent-magnet Coupling
CN104985608A (zh) 刚度可调的柔性关节驱动器机构
CN204019549U (zh) 一种旋转限位对零机构
CN104708620A (zh) 水平多关节机械手臂
JP2011122724A (ja) リニアアクチュエータおよびボールベアリング・スプライン
TWI806436B (zh) 磁控管裝置和半導體製程設備
CN107779830B (zh) 一种应用于柱形旋转靶的挡板组件
CN105485197A (zh) 带弹性膜片联轴节的扭矩限制器
CN103107679B (zh) 一种圆盘式时滞效应较小的永磁涡流联轴器
CN101749292B (zh) 一种旋转斜盘可调液压变压器
CN215432515U (zh) 一种回转调位器
CN207512254U (zh) 一种应用于柱形旋转靶的挡板组件
CN203257546U (zh) 一种油门旋钮装置
CN202001516U (zh) 一种钢珠脱开式转矩限制器
CN206419365U (zh) 一种扭力限制器
WO2014148349A1 (ja) 磁気リニアアクチュエータ
CN212432516U (zh) 一种非平行油膜间隙式液粘调速测试装置
CN109990024B (zh) 一种大于正负180°的限位机构
CN110953241B (zh) 一种旋转关节
CN104595446B (zh) 一种机电作动器用新型防卡死装置
WO2021056173A1 (en) Brake mechanism, joint actuator, and robot
CN201606918U (zh) 开关套件
WO2019176712A1 (ja) 検出機構付き流体圧シリンダ
CN102182756A (zh) 可承受双向轴向力的圆柱滚子轴承
CN206670691U (zh) 一种直接加装于电机及旋转运动机构的测速测距检测装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant