CN107764831B - 一种光学平板检测装置 - Google Patents

一种光学平板检测装置 Download PDF

Info

Publication number
CN107764831B
CN107764831B CN201610710555.4A CN201610710555A CN107764831B CN 107764831 B CN107764831 B CN 107764831B CN 201610710555 A CN201610710555 A CN 201610710555A CN 107764831 B CN107764831 B CN 107764831B
Authority
CN
China
Prior art keywords
slit
light source
slits
light
line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201610710555.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107764831A (zh
Inventor
何品将
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hangzhou Hikrobot Co Ltd
Original Assignee
Hangzhou Hikrobot Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hangzhou Hikrobot Technology Co Ltd filed Critical Hangzhou Hikrobot Technology Co Ltd
Priority to CN201610710555.4A priority Critical patent/CN107764831B/zh
Publication of CN107764831A publication Critical patent/CN107764831A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107764831B publication Critical patent/CN107764831B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806Specially adapted optical and illumination features
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N2021/9511Optical elements other than lenses, e.g. mirrors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

本发明实施例公开了一种光学平板检测装置,包括:中空椭圆柱形状的反射镜、光源、线阵相机;反射镜的内表面为反射面,设置有至少两对狭缝,每对狭缝的中心连接面经过反射镜的第一焦线;第一对狭缝放置待测光学平板,使待测光学平板经过第一焦线;光源设置于反射镜的第二焦线处;线阵相机设置于第二对狭缝中的第一狭缝外,线阵相机的镜头对准第一焦线对待测光学平板进行拍摄。本方案中,光源设置于椭圆柱的第二焦线处,光源发出的光汇聚到第一焦线处,待测光学平板放置于第一焦线处。第一焦线处的光线入射角度接近于360度,避免了因光线入射角度小造成的平板表面部分缺陷反射或散射的光线不能进入相机成像的问题,提高了光学平板的检测效果。

Description

一种光学平板检测装置
技术领域
本发明涉及机器视觉技术领域,特别涉及一种光学平板检测装置。
背景技术
光学平板是一种广泛应用于显示、成像、元器件封装等领域的光学器件,其由前后表面相互平行的透明光学材料构成。如果光学平板表面存在划痕、污点等缺陷会严重影响产品的品质。
因此,在光学平板被使用前,需要对其缺陷进行检测。目前,通常采用线阵相机成像系统来检测光学平板的缺陷,其系统构成如图1所示,该系统包括:线阵相机101、LED线阵光源102等。利用该系统对光学平板103进行检测时,在光学平板的前后表面均用高亮度的LED线阵光源照明,且线阵相机的镜头聚焦在平板表面。在光源的朝向和线阵相机的光轴之间保持一定的夹角,使得光源的直射光和平板表面的反射光不会直接进入相机,而光学平板表面缺陷反射或散射出来的光线则进入相机成像,因此相机拍摄的图像即凸显了有缺陷的区域。光学平板沿垂直于线阵的方向直线运动,当通过线阵相机成像区域时,便将其相应区域的缺陷成像并拍摄下来。
但是,LED线阵光源只有两路,入射到光学平板表面的光线的角度范围有限,导致平板表面部分缺陷反射或散射的光线可能不会进入相机成像,从而也就无法检测出该部分的缺陷。因此,利用上述系统进行光学平板检测的效果不佳。
发明内容
本发明实施例的目的在于提供一种光学平板检测装置,提高对光学平板的检测效果。
为达到上述目的,本发明实施例公开了一种光学平板检测装置,包括:中空椭圆柱形状的反射镜、光源和线阵相机;
所述反射镜的内表面为反射面,其设置有至少两对狭缝,每对狭缝的中心连接面均经过所述反射镜的第一焦线;其中,第一对狭缝用于放置待测光学平板,使所述待测光学平板经过所述第一焦线;
所述光源设置于所述反射镜的第二焦线处;
所述线阵相机设置于第二对狭缝中的第一狭缝外,所述线阵相机的镜头对准所述第一焦线对所述待测光学平板进行拍摄。
可选的,所述第一狭缝与所述光源在所述待测光学平板的同一侧。
可选的,所述反射镜仅有两对狭缝,所述第一对狭缝的中心连接面与第二对狭缝的中心连接面垂直。
可选的,所述反射镜还设置有第五狭缝;所述第五狭缝与所述光源在所述待测光学平板的同一侧;
所述第五狭缝的中心线与所述第一焦线的连接面形成第一连接面;
所述第二对狭缝的中心连接面与所述第一对狭缝的中心连接面形成为第一夹角;
所述第一连接面与所述第一对狭缝的中心连接面形成为第二夹角;
所述第一夹角与所述第二夹角角度相等。
可选的,所述反射镜还设置有第六狭缝,所述第六狭缝与所述光源在所述待测光学平板的不同侧;
所述第五狭缝的中心线与所述第六狭缝的中心线形成的连接面经过所述第一焦线。
可选的,所述线阵相机的线阵方向与所述第一焦线方向平行。
可选的,所述线阵相机的光轴方向与所述第一焦线垂直。
可选的,所述装置还可以包括:一个杂光吸收元件;
所述杂光吸收元件包裹所述线阵相机,用于吸收所述第一狭缝处存在的所述光源之外的杂光;或,
所述杂光吸收元件设置于所述第二对狭缝中的第二狭缝外,用于吸收所述第二狭缝处存在的所述光源之外的杂光。
可选的,所述装置还可以包括:两个杂光吸收元件;
其中一个杂光吸收元件包裹所述线阵相机,用于吸收所述第一狭缝处存在的所述光源之外的杂光;
另一个杂光吸收元件设置于所述第二对狭缝中的第二狭缝外,用于吸收所述第二狭缝处存在的所述光源之外的杂光。
可选的,所述光源外设置有滤光器件;所述滤光器件内侧镀有非均匀透过率的薄膜,以使得所述第一焦线处的光线均匀。
可选的,所述滤光器件与所述光源形状相配合,环绕所述光源。
应用本发明实施例,采用中空椭圆柱形状的反射镜,光源设置于椭圆柱的第二焦线处,光源发出的光汇聚到椭圆柱的第一焦线处,将待测光学平板放置于该第一焦线处。这样,第一焦线处的光线入射角度接近于覆盖全空间的0-360度,避免了因光线入射角度小造成的平板表面部分缺陷反射或散射的光线不能进入相机成像的问题,提高了光学平板的检测效果。
当然,实施本发明的任一产品或方法必不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有的线阵相机成像系统结构示意图;
图2为本发明实施例提供的光学平板检测装置的一种剖面结构示意图;
图3为图2所示实施例中椭圆柱形状的反射镜的反射特性示意图;
图4为本发明实施例提供的光学平板检测装置中的另一种椭圆柱形状的反射镜的结构示意图;
图5为本发明实施例提供的光学平板检测装置中的另一种椭圆柱形状的反射镜的结构示意图;
图6为本发明实施例提供的光学平板检测装置的另一种剖面结构示意图;
图7为本发明实施例提供的光学平板检测装置的另一种剖面结构示意图;
图8为本发明实施例提供的光学平板检测装置的另一种剖面结构示意图;
图9为本发明实施例提供的光学平板检测装置的立体结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
为了解决上述技术问题,本发明实施例提供了一种光学平板检测装置,包括:中空椭圆柱形状的反射镜、光源、线阵相机:其中,所述反射镜的内表面为反射面,其设置有至少两对狭缝,每对狭缝的中心连接面均经过所述反射镜的第一焦线;其中,第一对狭缝用于放置待测光学平板,使所述待测光学平板经过所述第一焦线;所述光源设置于所述反射镜的第二焦线处;所述线阵相机设置于第二对狭缝中的第一狭缝外,所述线阵相机的镜头对准所述第一焦线对所述待测光学平板进行拍摄。
图2为本发明实施例提供的光学平板检测装置的一种截面结构示意图,包括:中空椭圆柱形状的反射镜110、光源120、线阵相机130。
反射镜110的内表面为反射面,其设置有至少两对狭缝:第一对狭缝1101和第二对狭缝1102。对于每对狭缝来说,将一对狭缝中两个狭缝的中心线构成的面称为该对狭缝的中心连接面。第一对狭缝1101和第二对狭缝1102的中心连接面均经过反射镜110的第一焦线。其中,第一对狭缝1101用于放置待测光学平板140,使待测光学平板140经过所述第一焦线。
图2中所示的反射镜110为反射镜110在与椭圆柱中心线方向垂直方向的剖面图。可以理解的是,椭圆柱的两个端面为椭圆,椭圆有两个焦点(M和N),将这两个端面对应的焦点分别相连接,可以形成两条与椭圆柱中心线方向平行的焦线,也可以理解为,两个焦点(M和N)分别延着与椭圆柱中心线平行的方向延伸形成两条焦线。焦线方向垂直纸面向里,因此这两条焦线体现在图2中就是两个点:其中一个点为光源120所在的点(M处),将这个点表示的焦线将称作第二焦线;另一个点为第二对狭缝1102在图2中形成的线与待测光学平板140的交点(N处),将这个点表示的焦线将称作第一焦线。
如图2中所示,第一对狭缝1101的中心连接面经过反射镜110的第一焦线,第二对狭缝1102的中心连接面也经过反射镜110的第一焦线。光源120设置于反射镜110的第二焦线处。线阵相机130设置于第二对狭缝1102中的第一狭缝外,线阵相机130的镜头对准第一焦线对待测光学平板140进行拍摄。也就是说,线阵相机130的镜头可以聚焦于第一焦线,如果第一焦线处有射向第二对狭缝1102中的第一狭缝的光线,则该光线可以进入线阵相机,线阵相机可以采集到该光线。
作为本发明的一种实施方式,第一狭缝可以与光源120在待测光学平板140的同一侧,这样,反射进线阵相机130的光线更强一些。当然第一狭缝也可以与光源120在待测光学平板140的不同侧,在此不做限制。
另外,当反射镜110仅有两对狭缝时,第一对狭缝1101的中心连接面与第二对狭缝1102的的中心连接面垂直,反应在图2中,即第二对狭缝1102在图2中形成的线与待测光学平板140垂直,也就是∠β为90度。
椭圆柱形状的反射镜的反射特性如图3所示,图3中所示的也为反射镜在与椭圆柱中心线方向垂直方向的剖面图。在焦线M处设置光源,光源发出的光线会汇聚到另一条焦线N所在的位置。图3中的M可以对应到图2中光源120所在的点(M处),即第二焦线所在的位置,图3中的N可以对应到图2中第一焦线所在位置(N处)。也就是说,在图2中,光源120发出的光线会汇聚到第一焦线所在位置,也就是第二对狭缝1102在图2中形成的线与待测光学平板140的交点处(N处)。因此,在本发明图2所示实施例中,将待测光学平板140放置在第一对狭缝1101处,第一对狭缝1101的中心连接面经过反射镜110的第一焦线,这里光线最强,光线入射角度接近于覆盖全空间的0-360度,避免了现有技术中因光线入射角度小造成的平板表面部分缺陷反射或散射的光线不能进入相机成像的问题,提高了对光学平板的检测效果。
另外,由上述方案可见,本发明实施例提供的检测装置的光线利用率很高,因此,不需要图1中所示的LED线阵光源,使用一些廉价的光源,比如卤钨灯、气体放电灯等,便可以实现高亮度,大大降低了检测装置的成本。在本实施例中,使用点光源、线光源均可以满足亮度需求。
本发明实施例还提供一种光学平板检测方法:由图2可知,光源120设置于反射镜110的第二焦线M处,开启光源120,光源120发出光线,光线汇聚到反射镜110的第一焦线N处。线阵相机设置于第二对狭缝1102中的第一狭缝外,该第一狭缝与光源120在待测光学平板140的同一侧。第一对狭缝1101的中心连接面与第二对狭缝1102的中心连接面垂直,线阵相机130的光轴方向也与待测光学平板140垂直。开启线阵相机130,对待测光学平板140进行逐行检测,待测光学平板140的移动方向如图2中的箭头所示。线阵相机130仅能检测待测光学平板140中位于第一焦线附近的平板区域,因此,按照箭头方向移动待测光学平板140,能够实现对待测光学平板140的逐行检测。
线阵相机130对反射到自身的光线进行采集,根据光的反射原理(反射光线和入射光线分居在法线的两侧;反射角等于入射角),线阵相机130的光轴方向视作反射光线的方向,该方向与待测光学平板140垂直,也就是说反射角为0度,因此,入射角也为0度,也就是说,入射光线方向与待测光学平板140垂直时,才能保证反射光线进入线阵相机130,使得线阵相机130对光线进行采集。由图2可知,光源发射到第二对狭缝1012中的第一狭缝处的光线作为入射光线时,反射光线才能射入线阵相机130。但是,由于此处开了狭缝,失去了反射镜的反射功能,因此,正常情况下,不会有光线进入线阵相机130。只有当该待测光学平板140表面有缺陷(比如划痕、污点等)时,导致光线反射角度发生变化,才会有光线进入线阵相机130。这种情况下,线阵相机130采集到该光线,便检测出了光学平板的缺陷。
需要说明的是,在本实施例中,线阵相机130的光轴方向与第一焦线垂直时,线阵相机拍摄待检测平板的角度较佳。而在上述方案中,将线阵相机130的光轴方向设置为与待测光学平板140垂直,也就是说,如图2所示,将线阵相机130的光轴方向设置为第二对狭缝1102形成的线的方向,这样是线阵相机拍摄待检测平板的最佳角度。
另外,本实施例中线阵相机130的镜头可以单独设置,当然,也可以一体设置,在此不做限制。
作为本发明的另一种实施方式,图2中的反射镜110还可以如图4所示。图4中所示的反射镜有五个狭缝:第一对狭缝CD仍用于放置待测光学平板,第二对狭缝A1B1仍用于线阵相机拍摄待测光学平板,另外,还包括第五狭缝A2,第五狭缝A2与光源120在待测光学平板140的同一侧。
图4中所示的反射镜的第二焦线位于M处,第一焦线位于N处,光源仍设置于第二焦线M处;线阵相机仍设置于第二对狭缝A1B1中第一狭缝A1外,第一狭缝A1与光源120在待测光学平板140的同一侧。
第二对狭缝A1B1的中心连接面与第一对狭缝CD的中心连接面形成为第一夹角∠θ。第五狭缝A2的中心线与第一焦线的连接面形成第一连接面(A2N延纸面向里形成的面),第一连接面与第一对狭缝CD的中心连接面形成为第二夹角∠α,第一夹角∠θ与第二夹角∠α角度相等。
可以理解的是,线阵相机对反射到自身的光线进行采集,根据光的反射原理(反射光线和入射光线分居在法线的两侧;反射角等于入射角),线阵相机的光轴方向为A1B1所示方向,将该方向视作反射光线的方向,该方向与待测光学平板的夹角为∠θ。入射光线方向与待测光学平板的夹角角度应与∠θ的角度相等,才能保证反射光线进入线阵相机,使得线阵相机对光线进行采集。由图4可知,光源发射到A2处的光线作为入射光线时,反射光线才能进入A1处的线阵相机。但是,由于此处开了狭缝,失去了反射镜的反射功能,因此,正常情况下,不会有光线进入线阵相机。只有当该待测光学平板表面有缺陷(比如划痕、污点等)时,导致光线反射角度发生变化,才会有光线进入线阵相机。这种情况下,线阵相机采集该光线,便检测出了光学平板的缺陷。
作为本发明的另一种实施方式,反射镜还可以设置有第六狭缝,第六狭缝与光源在待测光学平板的不同侧;第五狭缝的中心线与第六狭缝的中心线形成的连接面经过第一焦线。也就是说,第五狭缝与第六狭缝组成第三对狭缝,该第三对狭缝的中心连接面也经过反射镜的第一焦线。上述第二夹角也为第三对狭缝的中心连接面与第一对狭缝的中心连接面形成的夹角。
图2中的反射镜110还可以如图5所示:图5中所示的反射镜有三对狭缝,第一对狭缝CD仍用于放置待测光学平板,第二对狭缝A1B1仍用于线阵相机拍摄待测光学平板,另外,还包括第三对狭缝A2B2(第五狭缝A2及第六狭缝B2);图5中所示的反射镜的第二焦线位于M处,第一焦线位于N处,光源仍设置于第二焦线M处;线阵相机仍设置于第二对狭缝A1B1中第一狭缝A1外,第一狭缝A1与光源120在待测光学平板140的同一侧。
第二对狭缝A1B1的中心连接面与第一对狭缝CD的中心连接面形成为第一夹角∠θ,第三对狭缝A2B2的中心连接面与第一对狭缝CD的中心连接面形成为第二夹角∠α,第一夹角∠θ与第二夹角∠α角度相等。
可以理解的是,线阵相机对反射到自身的光线进行采集,根据光的反射原理(反射光线和入射光线分居在法线的两侧;反射角等于入射角),线阵相机的光轴方向为A1B1所示方向,将该方向视作反射光线的方向,该方向与待测光学平板的夹角为∠θ。入射光线方向与待测光学平板的夹角角度应与∠θ的角度相等,才能保证反射光线进入线阵相机,使得线阵相机对光线进行采集。由图4可知,光源发射到A2处的光线作为入射光线时,反射光线才能进入A1处的线阵相机。但是,由于此处开了狭缝,失去了反射镜的反射功能,因此,正常情况下,不会有光线进入线阵相机。只有当该待测光学平板表面有缺陷(比如划痕、污点等)时,导致光线反射角度发生变化,才会有光线进入线阵相机。这种情况下,线阵相机采集该光线,便检测出了光学平板的缺陷。
另外,需要说明的是,光源120发射到B2处的光线也可以透过待测光学平板折射进入A1处的线阵相机,因此,在B2处也可以开狭缝,避免B2处的光线透过待测光学平板折射进入A1处的线阵相机。
作为本发明的一种实施方式,线阵相机的线阵方向可以与反射镜第一焦线方向平行(均为垂直纸面向里的方向)。可以理解的是,待检测光学平板通常情况下为规则的矩形,本发明所示实施例对该矩形平板进行逐行检测时,可以对平行于矩形边的每行进行检测,这样可以保证对平板的每个区域都进行了检测,不会遗漏下边边角角。线阵相机的线阵方向与反射镜第一焦线方向平行,即能实现对平行于矩形边的每行进行检测。
作为本发明的一种实施方式,所述光学平板检测装置还可以包括一个或两个杂光吸收元件。
当包括一个杂光吸收元件时,如图6所示,该杂光吸收元件可以包裹所述线阵相机,用于吸收所述第一狭缝1102A处存在的所述光源之外的杂光;还可以如图7所示,该杂光吸收元件设置于第二对狭缝中的第二狭缝1102B外,用于吸收所述第二狭缝1102B处存在的所述光源之外的杂光。由上述描述可知,线阵相机位于第二对狭缝中的第一狭缝1102A外,也就是说第二狭缝1102B即为第二对狭缝中未设置线阵相机的狭缝。
当包括两个杂光吸收元件时,如图8所示,其中一个杂光吸收元件可以包裹所述线阵相机,用于吸收所述第一狭缝1102A处存在的所述光源之外的杂光;另一个杂光吸收元件可以设置于第二对狭缝中的第二狭缝1102B外,用于吸收所述第二狭缝处1102B存在的所述光源之外的杂光。
杂光吸收元件一侧开狭缝,狭缝方向与第二对狭缝方向相配合,以使得杂光吸收元件不会遮挡光源反射的光线进入线阵相机,并且杂光吸收元件的空腔内壁喷涂或粘贴吸光材料,以使得进入空腔的光线被吸收掉,减少外界光线对线阵相机成像造成的影响。
作为本发明所示的一种实施方式,光源外可以设置有滤光器件。滤光器件内侧镀有非均匀透过率的薄膜,以使得所述第一焦线处的光线均匀。本领域技术人员可以理解的是,光源发射的光线汇聚到第一焦线处是不均匀的。可以根据汇聚到第一焦线处的光线的不均匀情况,在滤光器件内设置非均匀透过率的薄膜,使两处不均匀互相抵消,使得第一焦线处的光线均匀。
在本发明所示实施例中,光源可以为柱形光源,柱线方向的长度可以与椭圆柱反射镜柱线方向的长度相等,当然也可以长于或者短于椭圆柱反射镜柱线方向的长度,在此不做限制。
当光源为柱形光源时,滤光器件也可以为柱状,并环绕该光源,使得光源发出的射向反射镜的光线均经过该滤光器件;当光源为点状光源时,滤光器件可以为球形,并环绕该光源,使得光源发出的射向反射镜的光线均经过该滤光器件。
图9为本发明实施例提供的光学平板检测装置的立体结构示意图,包括:中空椭圆柱形状的反射镜110、光源120、线阵相机130。
反射镜110的内表面为反射面,其设置有至少两对狭缝:第一对狭缝1101和第二对狭缝1102,每对狭缝的中心连接面均经过反射镜110的第一焦线;其中,第一对狭缝1101用于放置待测光学平板140,使待测光学平板140经过所述第一焦线。
光源120设置于反射镜110的第二焦线处。
线阵相机130设置于第二对狭缝1102中的第一狭缝外,线阵相机130的镜头对准第一焦线对待测光学平板140进行拍摄。
当然,还可以包括杂光吸收元件150。
应用本发明所示实施例,采用中空椭圆柱形状的反射镜,光源设置于椭圆柱的第二焦线处,光源发出的光汇聚到椭圆柱的第一焦线处,将待测光学平板放置于该第一焦线处。这样,第一焦线处的光线入射角度接近于覆盖全空间0-360度,避免了因光线入射角度小造成的平板表面部分缺陷反射或散射的光线不能进入相机成像的问题,提高了光学平板的检测效果。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
本说明书中的各个实施例均采用相关的方式描述,各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其,对于装置实施例而言,由于其基本相似于方法实施例,所以描述的比较简单,相关之处参见方法实施例的部分说明即可。
本领域普通技术人员可以理解实现上述方法实施方式中的全部或部分步骤是可以通过程序来指令相关的硬件来完成,所述的程序可以存储于计算机可读取存储介质中,这里所称得的存储介质,如:ROM/RAM、磁碟、光盘等。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并非用于限定本发明的保护范围。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换、改进等,均包含在本发明的保护范围内。

Claims (15)

1.一种光学平板检测装置,其特征在于,包括:中空椭圆柱形状的反射镜、光源和线阵相机;
所述反射镜的内表面为反射面,其设置有两对狭缝,每对狭缝的中心连接面均经过所述反射镜的第一焦线;其中,第一对狭缝用于放置待测光学平板,使所述待测光学平板经过所述第一焦线;
所述光源设置于所述反射镜的第二焦线处,所述光源外设置有滤光器件,所述滤光器件与所述光源形状相配合,环绕所述光源,所述滤光器件内侧镀有非均匀透过率的薄膜,以使得所述第一焦线处的光线均匀;
所述线阵相机设置于第二对狭缝中的第一狭缝外,所述线阵相机的镜头对准所述第一焦线对所述待测光学平板进行拍摄,所述第一对狭缝的中心连接面与第二对狭缝的中心连接面垂直。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一狭缝与所述光源在所述待测光学平板的同一侧。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述线阵相机的线阵方向与所述第一焦线方向平行。
4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述线阵相机的光轴方向与所述第一焦线垂直。
5.根据权利要求1-4任一项所述的装置,其特征在于,还包括:一个杂光吸收元件;
所述杂光吸收元件包裹所述线阵相机,用于吸收所述第一狭缝处存在的所述光源之外的杂光;或,
所述杂光吸收元件设置于所述第二对狭缝中的第二狭缝外,用于吸收所述第二狭缝处存在的所述光源之外的杂光。
6.根据权利要求1-4任一项所述的装置,其特征在于,还包括:两个杂光吸收元件;
其中一个杂光吸收元件包裹所述线阵相机,用于吸收所述第一狭缝处存在的所述光源之外的杂光;
另一个杂光吸收元件设置于所述第二对狭缝中的第二狭缝外,用于吸收所述第二狭缝处存在的所述光源之外的杂光。
7.一种光学平板检测装置,其特征在于,包括:中空椭圆柱形状的反射镜、光源和线阵相机;
所述反射镜的内表面为反射面,其设置有至少两对狭缝,每对狭缝的中心连接面均经过所述反射镜的第一焦线;其中,第一对狭缝用于放置待测光学平板,使所述待测光学平板经过所述第一焦线;
所述光源设置于所述反射镜的第二焦线处;
所述线阵相机设置于第二对狭缝中的第一狭缝外,所述线阵相机的镜头对准所述第一焦线对所述待测光学平板进行拍摄;
所述反射镜还设置有第五狭缝;所述第五狭缝与所述光源在所述待测光学平板的同一侧;
所述第五狭缝的中心线与所述第一焦线的连接面形成第一连接面;
所述第二对狭缝的中心连接面与所述第一对狭缝的中心连接面形成为第一夹角;
所述第一连接面与所述第一对狭缝的中心连接面形成为第二夹角;
所述第一夹角与所述第二夹角角度相等。
8.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述第一狭缝与所述光源在所述待测光学平板的同一侧。
9.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述反射镜还设置有第六狭缝,所述第六狭缝与所述光源在所述待测光学平板的不同侧;
所述第五狭缝的中心线与所述第六狭缝的中心线形成的连接面经过所述第一焦线。
10.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述线阵相机的线阵方向与所述第一焦线方向平行。
11.根据权利要求10所述的装置,其特征在于,所述线阵相机的光轴方向与所述第一焦线垂直。
12.根据权利要求7-11任一项所述的装置,其特征在于,还包括:一个杂光吸收元件;
所述杂光吸收元件包裹所述线阵相机,用于吸收所述第一狭缝处存在的所述光源之外的杂光;或,
所述杂光吸收元件设置于所述第二对狭缝中的第二狭缝外,用于吸收所述第二狭缝处存在的所述光源之外的杂光。
13.根据权利要求7-11任一项所述的装置,其特征在于,还包括:两个杂光吸收元件;
其中一个杂光吸收元件包裹所述线阵相机,用于吸收所述第一狭缝处存在的所述光源之外的杂光;
另一个杂光吸收元件设置于所述第二对狭缝中的第二狭缝外,用于吸收所述第二狭缝处存在的所述光源之外的杂光。
14.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述光源外设置有滤光器件;所述滤光器件内侧镀有非均匀透过率的薄膜,以使得所述第一焦线处的光线均匀。
15.根据权利要求14所述的装置,其特征在于,所述滤光器件与所述光源形状相配合,环绕所述光源。
CN201610710555.4A 2016-08-23 2016-08-23 一种光学平板检测装置 Active CN107764831B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610710555.4A CN107764831B (zh) 2016-08-23 2016-08-23 一种光学平板检测装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610710555.4A CN107764831B (zh) 2016-08-23 2016-08-23 一种光学平板检测装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107764831A CN107764831A (zh) 2018-03-06
CN107764831B true CN107764831B (zh) 2020-09-25

Family

ID=61264718

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610710555.4A Active CN107764831B (zh) 2016-08-23 2016-08-23 一种光学平板检测装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107764831B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109738362A (zh) * 2019-01-31 2019-05-10 浙江工业大学 一种基于线扫描的金属轴表面图像采集方法
CN114324365B (zh) * 2022-01-10 2023-06-23 合肥御微半导体技术有限公司 一种曲面检测装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4801810A (en) * 1987-07-13 1989-01-31 Gerber Scientific, Inc. Elliptical reflector illumination system for inspection of printed wiring boards
JPH11218498A (ja) * 1998-01-30 1999-08-10 Nikon Corp 異物検査方法
CN101443647B (zh) * 2006-05-10 2012-02-29 睿励科学仪器(上海)有限公司 同时具有多波长、多入射角和多方位角的光学测量系统

Also Published As

Publication number Publication date
CN107764831A (zh) 2018-03-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101900691B (zh) 玻璃板检查系统
US10598603B2 (en) Lighting device for inspection and inspection system
US7957636B2 (en) Illumination apparatus and appearance inspection apparatus including the same
EP2482058B1 (en) Apparatus for detecting particles in flat glass and detecting method using same
CN107561089B (zh) 内孔检测光学系统及内孔检测设备
US20160077017A1 (en) Method of inspecting a surface of an object and optical system for performing the same
CN102944563B (zh) 具有透射及反射光源的照明装置、检测系统及其检测方法
US20200158657A1 (en) Inspection system and method of inspection
CN107764831B (zh) 一种光学平板检测装置
US20180299592A1 (en) Lens Elements and Lens Module Using Same
JPH06160288A (ja) 検出装置、特に紙巻き煙草の表面検査をするための装置
JP2007333563A (ja) 光透過性シートの検査装置および検査方法
KR101416860B1 (ko) 카메라 렌즈 모듈 이물 검사 시스템
CN108490598B (zh) 一种光学元件体散射缺陷探测装置及探测方法
KR20040105831A (ko) 화상 형성 방법 및 장치
CN108732115B (zh) 一种用于观察圆形管道内流场的纹影系统
KR101447857B1 (ko) 렌즈 모듈 이물 검사 시스템
US3370176A (en) Radiation-sensitive means for detecting flaws in radiation-transmissive materials
KR101555542B1 (ko) 평판패널 검사장치
CN112703393B (zh) 片状物的缺陷检查用照明、片状物的缺陷检查装置和片状物的缺陷检查方法
KR101517097B1 (ko) 평판패널 검사장치
JP6187153B2 (ja) 検査装置
US20190033207A1 (en) Microscopic analysis device
CN212674054U (zh) 表面检测装置和显微镜
JP5820634B2 (ja) 検査装置および検査方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CP03 Change of name, title or address

Address after: 310051 room 304, B / F, building 2, 399 Danfeng Road, Binjiang District, Hangzhou City, Zhejiang Province

Patentee after: Hangzhou Hikvision Robot Co.,Ltd.

Address before: 310052 5 / F, building 1, building 2, no.700 Dongliu Road, Binjiang District, Hangzhou City, Zhejiang Province

Patentee before: HANGZHOU HIKROBOT TECHNOLOGY Co.,Ltd.

CP03 Change of name, title or address