CN107749563B - 基于随机光栅的单片集成半导体随机激光器 - Google Patents
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Abstract
基于随机光栅的单片集成半导体随机激光器由增益区和随机反馈区两部分组成，包括：一衬底；一下限制层，制作在衬底上；一有源层，制作在下限制层上；一上限制层，制作在有源层上；一波导层，为条状，纵向制作在上限制层上面的中间；一P+电极层，用隔离沟将其分为两段，制作在波导层上；一N+电极层，制作在下限制层的背面。其中，分为两段的P+电极层分别对应于增益区和随机反馈区。随机反馈区制有随机光栅，对增益区发出的光进行随机后向散射，进而产生随机激光。本发明采用随机光栅形成随机谐振腔，是一种新型的单片集成半导体随机激光器，其出射激光的频率、强度都具有随机性，采用单片集成结构，具有重量轻、体积小、性能稳定、集成性强等优点。
Description
技术领域
本发明涉及随机激光器领域，具体是涉及基于随机光栅的单片集成半导体随机激光器。
背景技术
近年来，随机激光器由于其特殊的反馈机制和广阔的应用前景得到了广泛的研究。在传统的激光器中，光学谐振腔决定了激光的模式，即决定了激光的出射频率。随机激光器利用随机光反馈形成随机谐振腔，取代了传统激光器中的光学谐振腔，其出射激光的频率、强度都具有随机性。
2009年，墨西哥E.I.Chaikina等人提出了基于分布式布拉格光栅反馈的Er / Ge共掺单模光纤随机激光器（Lizã r N, Puente N P, Chaikina E I, et al. Single-modeEr-doped fiber random laser with distributed Bragg grating feedback[J].Optics Express, 2009, 17(2):395-404.），其使用掩模板技术在掺杂光纤中刻蚀布拉格光栅，通过大量随机分布的布拉格光栅增加了谐振腔的有效长度，并且以这种方式提高了系统的效率和频率选择。
2012年，北京化工大学公开了一种随机光纤激光器系统，采用全光纤化连接结构，将光纤激光器作为泵浦光源，利用光纤中的瑞利后向散射光放大形成激光（见中国专利：随机光纤激光器，专利号：ZL201210328766.3）。光在光纤中传播时产生的瑞利散射光较弱，在反馈过程中，由于光纤长度、光纤材料及分立器件结构缺陷等原因导致部分反馈光损耗。
2013年，马向阳等人提出了一种基于双重SiO2-ZnO结构的电抽运随机激光器（见中国专利：基于双重SiO2-ZnO结构的电抽运随机激光器、其制备方法及用途，专利号：201210490468.4）。在硅衬底的正面自下而上依次沉积有第一ZnO薄膜、第一SiO2薄膜、第二ZnO薄膜、第二SiO2薄膜和半透明电极，在硅衬底背面沉积有欧姆接触电极，即制得了基于双重SiO2-ZnO结构的电抽运随机激光器，阈值电流显著降低，光输出功率明显提高。
2015年，电子科技大学公开了一种随机激光器(见中国专利：随机激光器、随机谐振腔制造及探测微小颗粒浓度的方法，专利号：201510513253.3)，采用泵浦光源、激光反射镜等器件，通过在随机激光器谐振腔内壁涂有纳米TiO2颗粒和紫外胶混合而成的随机介质薄膜，在多重散射作用下，实现了随机激光的可控输出。该发明工艺复杂、技术要求高，这些都将对最终随机激光的产生有较大影响。
2015年，电子科技大学提供了一种模式可控随机反馈光纤随机激光器（见中国专利：一种模式可控随机反馈光纤随机激光器，专利号：201510066432），其采用泵浦光源、波分复用器、光纤光栅等控制光源产生控制光，减少了不同谐振模式的随机激光之间的干扰，提高了输出稳定性，增加了功率效率。
2016年，鲍晓毅课题组提出了基于随机光栅的低噪声布里渊随机光纤激光器（XuY, Gao S, Lu P, et al. Low-noise Brillouin random fiber laser with a randomgrating-based resonator[J]. Optics Letters, 2016, 41(14):3197.），其采用飞秒激光写入法制作的随机光纤光栅，随机光栅形成的滤光效果减少了谐振模式和模式竞争，从而有效抑制了随机激光器的噪声。
然而，上述随机激光的产生都是利用薄膜材料或光纤中的随机光反馈加上外部分立元件搭建而成的随机激光器，体积庞大，易受环境影响，输出不稳定。要真正实现随机激光器的实用化和产业化，必须研制体积小、性能稳定、低成本的集成随机激光器。
发明内容
本发明是提供基于随机光栅的单片集成半导体随机激光器。本发明采用随机光栅，光束在随机光栅内发生随机光反馈,从而形成随机谐振腔。因此随机激光器出射激光的频率、强度都具有随机性，且制作简便。采用单片集成结构，具有重量轻、体积小、性能稳定、集成性强等优点。
本发明公开了基于随机光栅的单片集成半导体随机激光器，由增益区和随机反馈区两部分组成。具体包括：
一衬底；
一下限制层，其制作在衬底上；
一有源层，其制作在下限制层上；
一上限制层，其制作在有源层上；
一波导层，为条状，其纵向制作在上限制层上面的中间；
一P+电极层，其是用隔离沟将其分为两段，制作在波导层上；
一N+电极层，其制作在下限制层的背面。
其中，分为两段的P+电极层分别对应于增益区和随机反馈区。
其中所述的增益区为整个芯片提供增益，其对应的有源层部分为多量子阱材料，增益区的长度为300±50μm；
其中所述的随机反馈区对增益区所述发出的光进行随机反馈，其对应的有源层部分为体材料，该随机反馈区对应的有源层部分制作有随机光栅，随机反馈区的长度为300±50μm。
本发明提出了一种出射激光的频率、强度都具有随机性，制作简便的基于随机光栅的单片集成半导体随机激光器，且采用单片集成结构，具有重量轻、体积小、性能稳定、集成性强等优点，对推动随机激光在科学研究、基础应用、工程技术等领域的应用具有重要的意义和价值。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。图中：1-N+电极层，2-衬底，3-下限制层，4-有源层，5-上限制层，6-波导层，7- P+电极层，8-隔离沟，9-随机光栅，A-增益区，B-随机反馈区。
具体实施方式
参阅图1所示，本发明公开了基于随机光栅的单片集成半导体随机激光器，由增益区A和随机反馈区B两部分组成。具体包括：
一衬底2；
一下限制层3，其制作在衬底2上, 厚度为80至200nm，用于垂直方向限制载流子和光子；
一有源层4，其制作在下限制层3上，厚度为80至200nm，其中增益区A对应的有源层部分为多量子阱材料，用于受激辐射产生光子，增益峰值波长对应1310nm或1550nm；随机反馈区B对应的有源层部分为体材料；
一上限制层5，其制作在有源层4上，和下限制层3共同作用，用于垂直方向限制载流子和光子；
一波导层6，为条状，其纵向制作在上限制层上面的中间，其作用主要为对光进行导引；
一P+电极层7，制作在波导层6上,其是用隔离沟8将其分为两段,隔离沟8是通过注入He+离子或者刻蚀的方式使之成为高阻区，从而实现各电极之间的电隔离；
一N+电极层1，其制作在衬底2的背面。
其中，分为两段的P+电极层7分别对应于增益区A和随机反馈区B；
其中所述的增益区A为整个芯片提供增益，其对应的有源层4部分为多量子阱材料；增益区的长度为300±50μm；
其中所述的随机反馈区B对增益区A所述发出的光进行随机反馈，该随机反馈区对应的有源层4为体材料；该随机反馈区对应的有源层4制作有随机光栅9；随机反馈区B的长度为300±50μm；
其中所述的基于随机光栅的单片集成半导体随机激光器在增益区A一侧的端面为自然解离端面，反射率为0.32；随机反馈区B一侧为出光端面，若需提高出光功率镀增透膜，反射率可减小到0.1，最终从该端面输出随机激光。
本发明采用随机光栅形成随机谐振腔，是一种新型的单片集成随机激光器。光束在随机光栅内发生随机反馈形成随机谐振腔，随机光栅对入射光的随机反馈决定了辐射激光的特性，因此随机激光器出射激光的频率、强度都具有随机性。且采用单片集成结构，具有重量轻、体积小、性能稳定、集成性强等优点。
以上所述的具体实施例，对本发明基于随机光栅的单片集成半导体随机激光器进行了进一步详细说明，应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施例而已，并不用于限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (3)
1.基于随机光栅的单片集成半导体随机激光器，其特征在于，包括：
一衬底；
一下限制层，其制作在衬底上；
一有源层，其制作在下限制层上；
一上限制层，其制作在有源层上；
一波导层，为条状，其纵向制作在上限制层上面的中间；
一P+电极层，其是用隔离沟将其分为两段，制作在波导层上；
一N+电极层，其制作在下限制层的背面；
其中，分为两段的P+电极层分别对应于增益区和随机反馈区；
所述的随机反馈区对增益区发出的光进行随机反馈，随机反馈区对应的有源层部分为体材料；该随机反馈区对应的有源层部分制作随机光栅。
2.根据权利要求1所述的基于随机光栅的单片集成半导体随机激光器，其特征在于，其中所述的增益区为整个芯片提供增益，增益区对应的有源层部分为多量子阱材料；增益区的长度为300±50μm。
3.根据权利要求1所述的基于随机光栅的单片集成半导体随机激光器，其特征在于，随机反馈区的长度为300±50μm。
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