CN107553700B - 一种陶器自动刻花施釉方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种陶器自动刻花施釉方法,属于陶器制作技术领域,通过面状的红外射线发射器发射出面状的红外射线,利用多个陶胚遮挡红外射线而形成的阴影结合,生成3D模型,通过模拟结合技术模拟刻花和施釉过程,得出相关参数并根据相关参数控制同步进行刻花和施釉,提高生产效率和实现自动化生产。本发明提供的方法具有自动化、标准化和生产效率高的优点。

Description

一种陶器自动刻花施釉方法
技术领域
本发明属于陶器制作技术领域,尤其涉及一种陶器自动刻花施釉方法。
背景技术
陶器,是用黏土或陶土经捏制成形后烧制而成的器具。陶器历史悠久,在新石器时代就已初见简单粗糙的陶器。陶器在古代作为一种生活用品,在现在一般作为工艺品收藏。在目前的陶器制作流程多采用人工制作,人工制作人力成本高且效率低,而且做出来的陶器质量参差不齐。
工业自动化就是工业生产中的各种参数为控制目的,实现各种过程控制,在整个工业生产中,尽量减少人力的操作,而能充分利用动物以外的能源与各种资讯来进行生产工作,主要解决生产效率与一致性问题,达到增加产量、提高质量、降低消耗和确保安全等目的。
另外,在传统制作工艺中,刻花和施釉是两道不同的工序,需要先后分别进行,极大地浪费了人力物力,降低了生产效率。
发明内容
基于现有技术存在上述问题,本发明提供一种陶器自动刻花施釉方法,其通过面状的红外射线发射器发射出面状的红外射线,利用多个陶胚遮挡红外射线而形成的阴影结合,生成3D模型,通过模拟结合技术模拟刻花和施釉过程,得出相关参数并根据相关参数控制同步进行刻花和施釉,提高生产效率和实现自动化生产。
本发明通过以下详细技术方案达到目的:
一种陶器自动刻花施釉方法,其通过计算机自动控制刻花和施釉两道工序同步进行。
一种陶器自动刻花施釉方法,其包括以下步骤:
步骤S10,通过电脑绘图软件设计并绘制出需要的图案,将图案导入刻花施釉设备;
步骤S20,将已经经过晒胚工序晒干的陶胚放置在旋转托盘中,旋转托盘两面分别设置有面状红外发射器和接收器;
步骤S30,启动转盘和红外线发射器,位于旋转托盘上的陶胚阻挡部分红外射线射到接收器中,在接收器面上形成一个陶胚正视图状阴影,系统记录阴影形状;
步骤S40,计算机根据旋转托盘的转速和方向,系统自动将记录到的红外射线阴影按顺序合成陶胚外形3D模型;
步骤S50,计算机根据3D模型计算出泥胚形状物理参数,自动渲染调整步骤S10中绘制的图像并将图像模拟绘制在3D模型中;
步骤S60,根据模拟绘制结果,控制刻花刀在陶器表面进行刻花并同步控制喷釉枪对刻花完成的部位进行喷釉。
其中,所述的面状红外射线截面能完全覆盖陶器最大剖面,只有面状红外射线截面大于陶器最大剖面才能完整的记录下陶胚的阴影。
其中,所述的转盘通过高敏压力传感器监测压力变化,当检测到托盘压力受到冲击力时停止作业并发出错误警报。
本发明具有的有益效果:通过面状的红外射线发射器发射出面状的红外射线,面状的红外射线中的部分射线因为照射在陶胚上而被陶胚遮挡,无法到达红外射线接收器,从而在接收器上形成阴影,记录阴影形状,通过调用转盘转动方向和转动速度等参数,将记录到的多个阴影形状合成实时3D模型,再在3D模型上通过模拟技术模拟刻花和施釉过程,得出相关参数并根据相关参数控制同步进行刻花和施釉,使刻花和施釉同时进行,节省了生产时间,提高生产效率和实现自动化生产。
具体实施方式
下面结合具体事例对本发明作进一步的描述。
一种陶器自动刻花施釉方法,其包括以下步骤:
步骤S10,通过电脑绘图软件设计并绘制出需要的图案,将图案导入刻花施釉设备;
步骤S20,将已经经过晒胚工序晒干的陶胚放置在旋转托盘中,旋转托盘两面分别设置有面状红外发射器和接收器;
步骤S30,启动转盘和红外线发射器,位于旋转托盘上的陶胚阻挡部分红外射线射到接收器中,在接收器面上形成一个陶胚正视图状阴影,系统记录阴影形状;
步骤S40,计算机根据旋转托盘的转速和方向,系统自动将记录到的红外射线阴影按顺序合成陶胚外形3D模型;
步骤S50,计算机根据3D模型计算出泥胚形状物理参数,自动渲染调整步骤S10中绘制的图像并将图像模拟绘制在3D模型中;
步骤S60,根据模拟绘制结果,控制刻花刀在陶器表面进行刻花并同步控制喷釉枪对刻花完成的部位进行喷釉。
作为优实施例,所述的面状红外射线截面能完全覆盖陶器最大剖面。
作为优实施例,所述的转盘通过高敏压力传感器监测压力变化,当检测到托盘压力受到冲击力时停止作业并发出错误警报。
以上所述实施例仅表达了本发明的一种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (3)

1.一种陶器自动刻花施釉方法,其特征在于,其通过计算机自动控制刻花和施釉两道工序同步进行,其包括以下详细步骤:
步骤S10,通过电脑绘图软件设计并绘制出需要的图案,将图案导入刻花施釉设备;
步骤S20,将已经经过晒胚工序晒干的陶胚放置在旋转托盘中,旋转托盘两面分别设置有面状红外发射器和接收器;
步骤S30,启动转盘和红外线发射器,位于旋转托盘上的陶胚阻挡部分红外射线射到接收器中,在接收器面上形成一个陶胚正视图状阴影,系统记录阴影形状;
步骤S40,计算机根据旋转托盘的转速和方向,系统自动将记录到的红外射线阴影按顺序合成陶胚外形3D模型;
步骤S50,计算机根据3D模型计算出泥胚形状物理参数,自动渲染调整步骤S10中绘制的图像并将图像模拟绘制在3D模型中;
步骤S60,根据模拟绘制结果,控制刻花刀在陶器表面进行刻花并同步控制喷釉枪对刻花完成的部位进行喷釉。
2.根据权利要求1所述的一种陶器自动刻花施釉方法,其特征在于,所述的面状红外射线截面能完全覆盖陶器最大剖面。
3.根据权利要求1所述的一种陶器自动刻花施釉方法,其特征在于,所述的转盘通过高敏压力传感器监测压力变化,当检测到托盘压力受到冲击力时停止作业并发出错误警报。
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Address before: 528000 Third Building, No. 2, Second Avenue, Zhangcha Dasha Industrial Zone, Chancheng District, Foshan City, Guangdong Province

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