CN107459098B - 一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法及装置 - Google Patents
一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法及装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107459098B CN107459098B CN201710795294.5A CN201710795294A CN107459098B CN 107459098 B CN107459098 B CN 107459098B CN 201710795294 A CN201710795294 A CN 201710795294A CN 107459098 B CN107459098 B CN 107459098B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- gas
- liquid
- wastewater
- conical distributor
- temperature plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 claims abstract description 59
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 239000002957 persistent organic pollutant Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000009471 action Effects 0.000 claims abstract description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 94
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 239000003570 air Substances 0.000 claims description 18
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 12
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 11
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical class O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 claims description 3
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 abstract description 9
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 abstract description 9
- 239000003403 water pollutant Substances 0.000 abstract description 2
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 61
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 32
- 239000010408 film Substances 0.000 description 24
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 238000004939 coking Methods 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 3
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 2
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000002306 biochemical method Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N methane;hydrate Chemical compound C.O VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010525 oxidative degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 230000036470 plasma concentration Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003440 toxic substance Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/722—Oxidation by peroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/78—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2305/00—Use of specific compounds during water treatment
- C02F2305/02—Specific form of oxidant
- C02F2305/023—Reactive oxygen species, singlet oxygen, OH radical
Abstract
一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法及装置，将废水和工作气体分别通入等离子体装置内，其中工作气体引入到气带锥形分布器内部，废水则沿着气带锥形分布器的外表面缓慢流下；工作气体通过气带锥形分布器表面分布的气带，在气体压力作用下，与气带锥形分布器外壁的废水形成气液两相薄膜向四周散开并进入到高压电极内部的低温等离子体环境；气液两相薄膜在低温等离子体环境下放电产生活性基团与水中的有机污染物发生反应。本发明采用气带锥形分布器将废水与工作气体形成气液两相薄膜向四周散开并进入到高压电极内部等离子体环境，形成气液两相薄膜同时放电产生活性基团与水污染物直接接触并反应，提高污染物的去除率和能量利用率。
Description
技术领域
本发明涉及等离子体技术处理废水领域，尤其涉及一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法及装置。
背景技术
随着我国工业化进程的快速发展，大量废水的产生及排放给人们的日常生活和健康都带来了严重的威胁。这些废水的成分复杂，化学需氧量COD高，可生化性差且废水排放量大等，使得传统的生化法、物理法和化学法处理在一定条件下很难达到该类废水水质的净化要求和目标。等离子体技术是近年来发展的一种新型、绿色环保的高级氧化技术，它利用高压放电形成的臭氧、紫外线、高能电子、富集粒子、激发态原子、分子及活性自由基(·OH、·H、·O、·N)等具有氧化性的高活性基团降解有机物，使有毒有害的物质变成无毒无害或低毒的物质，大分子有机物转变为小分子有机物，甚至彻底矿化成CO2、H2O和无机盐，从而使得污染物被降解去除。等离子体技术作为一种新兴的环境友好型的高级氧化技术，具有零污染、低排放、适用性广和处理效率高等优点，在废水处理领域具有良好的应用前景。
目前，利用介质阻挡放电产生等离子体处理废水存在三种形式，即气相放电、纯液放电和气液混合放电。其中，气相放电等离子体技术最为常见，但是该种放电形式中工作气与废水是相分离的，放电产生的具有氧化性的活性基团从气相传递到废水中需要一定的时间，而活性基团的寿命有限，瞬时消散，所以真正能与废水参与反应的活性基团数量有限，这样会降低污染物的去除率及去除效率。此外，纯液放电产生等离子体的效果相对较差，并不常用。所以，气液混合放电产生等离子体的形式越来越受到重视。
现在已经有一些研究者采用气液混合放电来产生等离子体的方法或技术。如《一种全入水式脉冲放电等离子体废水处理装置》(专利申请号201520611873.6)，通过曝气孔往废水中通入空气使气液两相混合放电产生的活性基团与有机污染物直接接触和反应，对废水的处理取得了良好的效果，但其主要的缺点是采用曝气形式进行气液混合放电，导致反应器中等离子体产生速度的不均匀以及液相、气相产生的等离子体浓度不均匀，废水的污染物去除情况不稳定；而且液相的体积远大于气相，所以放电激发产生等离子体的效果也会相对较差。
为了解决上述难题，有些研究者采用形成水气薄膜的形式进行放电，提高等离子体的激发效果。如《一种线形DBD等离子体有机废水处理装置》(专利申请号201410482440.5)，采用一种水膜与气体混放电的形式，使废水通过下部的进水管道进入接地电极之间，在接地电极外的石英罩周围形成均匀连续的水膜，外部气源通过进气管道向两绝缘介质板之间输入工作气，从而混合放电产生等离子体；该方法在气液混合放电产生等离子体效果方面有所改进，但由于其采用顶部进气激发产生等离子体、底部进水形成水膜的形式，同样存在气相、产生的等离子体和液相之间传质效果差的问题。如《一种等离子体废水处理装置》(专利申请号201520997031.9)，采用了溶气装置，将空气和废水先进行混合后，再进入到等离子体反应装置内进行反应，取得较好的废水处理效果，但该装置采用的是将气液混合物直接喷淋在正负电极之间，流速较难控制，水滴较大、不能均匀分散，并且气水混合物放电时间较短，激发产生的等离子体的效果相对较差。
发明内容
本发明的目的是提供一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法及装置，采用气带锥形分布器将废水与工作气体形成气液两相薄膜向四周散开并进入到高压电极内部的等离子体环境，形成的气液两相薄膜同时放电产生活性基团与水污染物直接接触并反应，提高污染物的去除率和能量利用率。
为实现上述目的，本发明采用以下技术方案实现：
一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法，具体方法如下：将废水和工作气体按照流速比例分别通入等离子体废水处理装置内，由等离子体装置的顶部进入到低温等离子体环境中；其中工作气体引入到气带锥形分布器内部，废水则沿着气带锥形分布器的外表面缓慢流下；工作气体通过气带锥形分布器表面分布的气带，在气体压力作用下，与气带锥形分布器外壁的废水形成气液两相薄膜向四周散开并进入到高压电极内部的低温等离子体环境；在这个过程中，气液两相薄膜在低温等离子体环境下放电产生活性基团与水中的有机污染物直接接触和发生反应。
所述低温等离子体环境由螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置提供，其高压交流电源输出电压为0-30KV，频率为6-7KHz。
所述工作气体与废水的气水流速比为5:1-20:1，废水处理反应时间为10-180min。
所述工作气体可为空气、氧气、氮气中的一种或几种气体组合。
一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法采用的装置，包括反应器、气带锥形分布器、螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置、高压交流电源；反应器为绝缘的密封壳体，反应器顶端设置有工作气体进口、废水进口，反应器底端设置有出水口；螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置设置在反应器内；气带锥形分布器位于螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置的中心处且不与电极相接触，气带锥形分布器的锥形角度为10-60°，为密封的圆锥体，表面设置有若干气带，气带锥形分布器的顶部与工作气体进口相连通，废水进口直接引入到气带锥形分布器的外壁上，所述螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置连接高压交流电源。
所述螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置包括高压螺旋电极、阻挡介质、接地电极，高压螺旋电极在阻挡介质内部至上向下呈螺旋线形延伸，阻挡介质外部整圈配有网状接地电极，高压螺旋电极和接地电极通过导线连接反应器外部的高压交流电源。
所述阻挡介质的材质为脱羟型的石英玻璃管，所述高压螺旋电极为316L不锈钢材质，螺纹间距为10-50mm，与阻挡介质等长；所述接地电极为316L不锈钢材质的网状电极，长度与阻挡介质等长。
所述反应器包括外套管、底座，底座固定在外套管的底部，外套管的上端通过密封塞和密封环密封，所述外套管与底座的材质为亚克力材质，外套管高径比为2:1-10:1。
与现有的技术相比，本发明的有益效果是：
1)本发明提供了一种气液两相膜低温等离子体废水处理装置及处理方法，可有效提高废水处理的能力和效率。
2)本发明采用气带锥形分布器将其内部一定压力的工作气体和其外表面的废水形成流速稳定、薄厚适中且均匀、不呈喷淋液滴状的气液两相薄膜向四周散开，在低温等离子体环境下同时放电产生活性基团，并且使水中的有机污染物与产生的活性基团直接原位接触和原位发生反应，减少活性基团在迁移传质过程中的衰减或消散的现象，使得污染物与活性基团的接触概率增大，提高污染物的去除率。
3)螺旋状电极型式的改进增大了气液薄膜与等离子体发生器的接触面积，保证了等离子体的激发效率，最大效率的产生·OH、H2O2、O3等高活性氧化物，降解废水中有机物，使其矿化成为二氧化碳和水。在定量废水处理的条件下，减少了处理时间和处理次数。
附图说明
图1是本发明一种气液两相膜低温等离子体废水处理装置的结构示意图。
图中：1-密封环、2-高压交流电源、3-废水原液储罐、4-空气泵、5-密封塞、6-外套管、7-接地电极、8-阻挡介质、9-气带锥形分布器、10-高压螺旋电极、11-底座、12-处理液回收槽。
具体实施方式
下面结合说明书附图对本发明的实施方式进一步说明：
一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法，具体方法如下：将废水和工作气体按照流速比例分别通入等离子体废水处理装置内，由等离子体装置的顶部进入到低温等离子体环境中；其中工作气体引入到气带锥形分布器9内部，废水则沿着气带锥形分布器9的外表面缓慢流下；工作气体通过气带锥形分布器9表面分布的气带，在气体压力作用下，与气带锥形分布器9外壁的废水以一定角度形成气液两相薄膜向四周散开并进入到高压电极内部的低温等离子体环境；在这个过程中，气液两相薄膜在低温等离子体环境下放电产生活性基团与水中的有机污染物直接接触和发生反应。
接通高压交流电源2，通过高压螺旋电极10和阻挡介质8形成介质阻挡放电，激发气液两相薄膜产生活性基团与水中的有机污染物直接接触及反应，使废水中的有机物彻底被矿化为水和二氧化碳。
所述低温等离子体环境由螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置提供，其高压交流电源2输出电压为0-30KV，频率为6-7KHz。
所述工作气体与废水的气水流速比为5:1-20:1，废水处理反应时间为10-180min。
所述工作气体可为空气、氧气、氮气中的一种或几种气体组合。
一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法采用的装置，包括反应器、气带锥形分布器9、螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置、高压交流电源2；反应器为绝缘的密封壳体，反应器顶端设置有工作气体进口、废水进口，反应器底端设置有出水口；螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置设置在反应器内；气带锥形分布器9位于螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置的中心处且不与电极相接触，气带锥形分布器9的锥形角度为10-60°，为密封的圆锥体，表面设置有若干气带，气带锥形分布器9的顶部与工作气体进口相连通，废水进口直接引入到气带锥形分布器9的外壁上，所述螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置连接高压交流电源2。
所述螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置包括高压螺旋电极10、阻挡介质8、接地电极7，高压螺旋电极10在阻挡介质8内部至上向下呈螺旋线形延伸，阻挡介质8外部整圈配有网状接地电极7，高压螺旋电极10和接地电极7通过导线连接反应器外部的高压交流电源2。在螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置的底部设有底盖，该底盖安装在阻挡介质8的下端，其上设有通孔。
所述阻挡介质8的材质为脱羟型的石英玻璃管，所述高压螺旋电极10为316L不锈钢材质，螺纹间距为10-50mm，与阻挡介质8等长；所述接地电极7为316L不锈钢材质的网状电极，长度与阻挡介质8等长。
所述反应器包括外套管6、底座11，底座11固定在外套管6的底部，外套管6的上端通过密封塞5和密封环1密封，所述外套管6与底座11的材质为亚克力材质，外套管6高径比为2:1-10:1。
考虑到阻挡介质8壳体的耐高温性、透光性等要求，阻挡介质8的优选材质为脱羟型的石英玻璃管，玻璃管外径及长度应小于外套管6的内径及高度，且有足够的间距。阻挡介质8的上端与密封塞5固定连接，高压螺旋电极10也由密封塞5固定，上端伸出密封塞5连接高压交流电源2。
气带锥形分布器9一定程度地起到气液混合以及形成均匀气液两相薄膜的作用，使得产生的活性基团瞬时原位处理废水中的有机物，减少活性基团在迁移传质过程中的衰减或消散的现象，提高污染物的去除率。将一定流速比例的废水和工作气体由等离子体装置的顶部分别进入到低温等离子体环境中；其中工作气体进入到气带锥形分布器9内部，废水则沿着气带锥形分布器9的外表面缓慢流下。在气带锥形分布器9上设置有多层长宽比为20:1的长方形气带，每层气带在气带锥形分布器9的圆周方向上均布环绕，上下层气带之间左右交错。利用工作气体的压力，可将气带锥形分布器9外壁的废水和扩散出的工作气体形成气液两相薄膜向四周散开。在高压交流电源的作用下，气液两相薄膜同时激发产生活性基团，形成高密度的活性基团区域，使得其中的有机污染物与活性基团相互作用，从而达到氧化降解水中污染物的目的。
锥形气带锥形分布器9的锥形角度在10-60°范围内，此时气液两相薄膜激发产生的活性基团浓度高，并且此时气液两相膜流速稳定、薄厚适中且均匀、可形成气液两相薄膜而不变成喷淋的液滴、与活性基团的接触概率更大，有利于提高污染物的去除率。
实施例1：高浓度难降解废水预处理
某焦化厂废水的原水水质如表1所示。
表1某焦化厂废水的原水水质
取焦化废水原水，原水pH＝8.5，分别通入氧气和废水，气水流速比为7:1，反应器外套管6的高径比为3：1。气带锥形分布器9的锥形角度为45°。整个反应在电压10KV下进行，电源频率为7KHz。反应60min后，取样测定COD、挥发酚和色度，处理后的水质如表2所示。
表2等离子体装置处理后出水水质(实施例1)
实施例2：低浓度难降解废水深度处理
某焦化厂生化处理后二沉池出水水质如表3所示。
表3某焦化厂生化处理后二沉池的出水水质
取焦化废水二沉池出水，原水pH＝6.5，分别通入空气和废水，气水流速比为5:1，反应器外套管6的高径比为3:1。气带锥形分布器9的锥形角度为45°。整个反应在电压6KV下进行，电源频率为7KHz。反应45min后，取样测定COD、色度，处理后的水质如表4所示。
表4等离子体装置处理后出水水质(实施例2)
以上举例仅为本发明的有限的具体实施例。需注意的是，本发明不限于以上实施例，本领域的技术人员通过上述实施例产生联想和变形，均在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法，其特征在于，具体方法如下：将废水和工作气体按照流速比例分别通入等离子体废水处理装置内，其中工作气体引入到气带锥形分布器内部，废水则沿着气带锥形分布器的外表面缓慢流下；工作气体通过气带锥形分布器表面分布的气带，在气体压力作用下，与气带锥形分布器外壁的废水形成气液两相薄膜向四周散开并进入到高压电极内部的低温等离子体环境；在这个过程中，气液两相薄膜在低温等离子体环境下放电产生活性基团与水中的有机污染物直接接触和发生反应；
气液两相膜低温等离子体废水处理方法采用的装置，包括反应器、气带锥形分布器、螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置、高压交流电源；反应器为绝缘的密封壳体，反应器顶端设置有工作气体进口、废水进口，反应器底端设置有出水口；螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置设置在反应器内；气带锥形分布器位于螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置的中心处且不与电极相接触，气带锥形分布器的锥形角度为10-60°，为密封的圆锥体，表面设置有若干气带，气带锥形分布器的顶部与工作气体进口相连通，废水进口直接引入到气带锥形分布器的外壁上，所述螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置连接高压交流电源；
所述螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置包括高压螺旋电极、阻挡介质、接地电极，高压螺旋电极在阻挡介质内部至上向下呈螺旋线形延伸，阻挡介质外部整圈配有网状接地电极，高压螺旋电极和接地电极通过导线连接反应器外部的高压交流电源。
2.根据权利要求1所述的一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法，其特征在于，所述低温等离子体环境由螺旋状电极的介质阻挡放电等离子体装置提供，其高压交流电源输出电压为0-30KV，频率为6-7KHz。
3.根据权利要求1所述的一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法，其特征在于，所述工作气体与废水的气水流速比为5:1-20:1，废水处理反应时间为10-180min。
4.根据权利要求1所述的一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法，其特征在于，所述工作气体为空气、氧气、氮气中的一种或几种气体组合。
5.根据权利要求1所述的一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法，其特征在于，所述阻挡介质的材质为脱羟型的石英玻璃管，所述高压螺旋电极为316L不锈钢材质，与阻挡介质等长，螺纹间距为10-50mm；所述接地电极为316L不锈钢材质的网状电极，长度与阻挡介质等长。
6.根据权利要求1所述的一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法，其特征在于，所述反应器包括外套管、底座，底座固定在外套管的底部，外套管的上端通过密封塞和密封环密封，所述外套管与底座的材质为亚克力材质，外套管高径比为2:1-10:1。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201710795294.5A CN107459098B (zh) | 2017-09-06 | 2017-09-06 | 一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法及装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201710795294.5A CN107459098B (zh) | 2017-09-06 | 2017-09-06 | 一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法及装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN107459098A CN107459098A (zh) | 2017-12-12 |
| CN107459098B true CN107459098B (zh) | 2024-02-02 |
Family
ID=60551844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201710795294.5A Active CN107459098B (zh) | 2017-09-06 | 2017-09-06 | 一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法及装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN107459098B (zh) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102642913A (zh) * | 2012-04-28 | 2012-08-22 | 清华大学 | 常压液膜式气泡放电等离子体反应装置 |
| CN104944654A (zh) * | 2015-06-18 | 2015-09-30 | 燕山大学 | 一种介质阻挡放电水处理反应器及其处理废水的方法 |
| CN106430454A (zh) * | 2016-11-16 | 2017-02-22 | 中钢集团鞍山热能研究院有限公司 | 一种基于电化学原理的废水处理装置及方法 |
| CN207330422U (zh) * | 2017-09-06 | 2018-05-08 | 中钢集团鞍山热能研究院有限公司 | 一种气液两相膜低温等离子体废水处理装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6911225B2 (en) * | 2001-05-07 | 2005-06-28 | Regents Of The University Of Minnesota | Method and apparatus for non-thermal pasteurization of living-mammal-instillable liquids |
-
2017
- 2017-09-06 CN CN201710795294.5A patent/CN107459098B/zh active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102642913A (zh) * | 2012-04-28 | 2012-08-22 | 清华大学 | 常压液膜式气泡放电等离子体反应装置 |
| CN104944654A (zh) * | 2015-06-18 | 2015-09-30 | 燕山大学 | 一种介质阻挡放电水处理反应器及其处理废水的方法 |
| CN106430454A (zh) * | 2016-11-16 | 2017-02-22 | 中钢集团鞍山热能研究院有限公司 | 一种基于电化学原理的废水处理装置及方法 |
| CN207330422U (zh) * | 2017-09-06 | 2018-05-08 | 中钢集团鞍山热能研究院有限公司 | 一种气液两相膜低温等离子体废水处理装置 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 竹涛.《低温等离子体技术处理工业源VOCs》.竹涛,2015,第194-196页. * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN107459098A (zh) | 2017-12-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1323950C (zh) | 用于废水处理的脉冲等离子体气液放电装置 | |
| CN105905976A (zh) | 一种微气泡气液两相流低温等离子体水处理技术及方法 | |
| CN101215027A (zh) | 一种采用低温等离子体技术处理废水的方法及其装置 | |
| CN101066791A (zh) | 三相交流滑动弧非平衡等离子体污水处理装置 | |
| CN206692391U (zh) | 一种采用多针板气液水中放电等离子体的污水处理装置 | |
| CN107673445A (zh) | 一种文式喉管放电等离子体处理废水的方法 | |
| CN207330422U (zh) | 一种气液两相膜低温等离子体废水处理装置 | |
| CN1557731A (zh) | 滑动弧放电等离子体有机废水处理装置 | |
| CN203754483U (zh) | 一种坝式dbd等离子体制药工业废水处理装置 | |
| CN111470587B (zh) | 一种泡-膜式介质阻挡放电等离子体的污染物处理装置 | |
| CN101148285A (zh) | 高压脉冲气相增湿放电处理废水的方法 | |
| CN107459099B (zh) | 一种气液混合膜低温等离子体废水处理方法及装置 | |
| CN110563091A (zh) | 一种气液两相电气水处理装置及其方法 | |
| CN110482642A (zh) | 一种泡沫类介质阻挡放电等离子体的污染物处理装置 | |
| CN107459098B (zh) | 一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法及装置 | |
| WO2023236541A1 (zh) | 一种等离子体催化氧化处理装置及其处理废水的方法 | |
| CN110935295B (zh) | 一种旋转同心圆介质阻挡微缝隙放电污染物处理装置 | |
| CN114426322A (zh) | 一种含微孔道的介质阻挡放电处理有机废水的装置 | |
| CN111889049A (zh) | 一种脉冲放电等离子体反应器和有机废水的处理装置以及处理方法 | |
| CN116004315A (zh) | 等离子体技术联合催化剂降解废变压器油的装置及方法 | |
| CN204939042U (zh) | 一种水下低温等离子体废水处理装置 | |
| CN207330423U (zh) | 一种气液混合膜低温等离子体废水处理装置 | |
| Jiang et al. | Investigation of pulsed dielectric barrier discharge system on water treatment by liquid droplets in air | |
| CN203866083U (zh) | 一种旋流气柱的气液界面放电等离子反应装置 | |
| CN2780745Y (zh) | 处理废水用的脉冲等离子体气液放电装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |