CN107419244A - 一种纳米银导电膜及其制备方法 - Google Patents

一种纳米银导电膜及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107419244A
CN107419244A CN201710521080.9A CN201710521080A CN107419244A CN 107419244 A CN107419244 A CN 107419244A CN 201710521080 A CN201710521080 A CN 201710521080A CN 107419244 A CN107419244 A CN 107419244A
Authority
CN
China
Prior art keywords
nano
silver
preparation
dopamine
conductive film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201710521080.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107419244B (zh
Inventor
吴慧青
谢安
张羽
曹光
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xiamen University of Technology
Original Assignee
Xiamen University of Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xiamen University of Technology filed Critical Xiamen University of Technology
Priority to CN201710521080.9A priority Critical patent/CN107419244B/zh
Publication of CN107419244A publication Critical patent/CN107419244A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107419244B publication Critical patent/CN107419244B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/42Coating with noble metals
    • C23C18/44Coating with noble metals using reducing agents
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1603Process or apparatus coating on selected surface areas
    • C23C18/1605Process or apparatus coating on selected surface areas by masking
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1655Process features
    • C23C18/166Process features with two steps starting with addition of reducing agent followed by metal deposition
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1655Process features
    • C23C18/1662Use of incorporated material in the solution or dispersion, e.g. particles, whiskers, wires

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本发明提供一种纳米银导电膜及其制备方法,涉及纳米材料技术领域。一种纳米银导电膜的制备方法,包括:在基材表面形成聚多巴胺功能表层。然后,选取一定图形的光掩膜,对多巴胺功能表层进行光照刻蚀。接着,涂覆银纳米线/硝酸银溶液,反应后,在基材表面原位形成银纳米线/银纳米颗粒网络结构。最后,清洗干燥,得到图形化纳米银导电膜。制得的纳米银导电膜实现图形化处理,且稳定性好、导电性高、透光率好。聚多巴胺活性功能基团使得银纳米线在基材上能紧密黏附,且能将硝酸银还原生成银纳米粒子,形成银纳米线/银纳米颗粒网络结构,有利于减低膜电阻。该制备方法简便、高效、经济,具有工业化生产的潜力和广阔的应用前景。

Description

一种纳米银导电膜及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种纳米材料领域,且特别涉及一种纳米银导电膜及其制备方法。
背景技术
透明导电膜是一种具有较高透光率和良好导电能力的功能薄膜,已广泛应用于平板显示、光伏器件、触控面板等领域,具有极其广阔的市场空间。目前主要膜产品的材料是氧化铟锡(ITO),但是ITO导电膜存在铟资源稀缺、生产工艺复杂、能耗高、保存困难、易黄花等问题,尤其是ITO作为一种氧化物,脆性大,柔韧性及抗挠折性极差。随着移动终端、可穿戴设备、智能家电等产品的迅猛发展,对触摸面板的需求愈加强劲,而且触控面板表示出大尺寸化、低价化的发展趋势,众面板厂商纷纷开始研究ITO的替代品,包括银、碳纳米管以及石墨烯等材料。其中,碳纳米管制成的薄膜产品导电性还不能达到ITO薄膜水平,工业量产技术也尚未完善;石墨烯薄膜仍处于研发阶段,离量产有较远的距离。相比之下,以银为材料的导电膜特别是纳米银图形化导电膜具有良好的柔性及透明导电性、耐屈挠性好等优点,为实现柔性、可弯曲触摸屏提供了可能,具有极大的商用潜力和价值,是目前的研究焦点和发展趋势。
利用金属网格技术可以在基材上压制形成银导电金属网格图案,得到网格银导电膜。受限于印刷制作的工艺水平,所制得的金属线宽较粗,通常大于5um,这样会导致在高像素下莫瑞干涉波纹非常明显。因此制成的薄膜产品不适用在智能手机、平板电脑等高分辨率的产品上,仅仅适用于观测距离较远的显示器屏幕。若能将薄膜中金属网格的线宽降低到1um左右,则能有效的避免莫瑞干涉的问题,但是制作成本大幅增加。另外,过细的金属线宽易在外力挤压时断裂,网格的阻值升高,对下游的控制IC芯片提出更高的灵敏度要求,这些都阻碍了金属网格银导电膜的产业应用。
Cima NanoTech公司开发了SANTE纳米银颗粒涂布技术,其专利核心是将含有银纳米粒子的有机乳液涂布到各类基底材料上,数秒内自组形成透明导电网络。不过该网络结构的图形不规则,无法精细调控,且线宽较大,约为5um。
田中贵金属工业公司的SuPR-NaP法是向氟类聚合物层照射紫外线,使图案部分形成潜影,然后在上面扫过银纳米墨,以化学方式使银纳米墨仅吸附在图案部分,实现图形化。所制得的纳米银图形化导电膜可用于触摸面板传感器,预定从2017年开始制造并销售。不过所用到的银纳米墨加工费用昂贵,且并不单独销售。
除此之外,现有其他技术与方法制备的纳米银导电膜往往也存在银纳米线与基材结合力差容易分离剥落、银导电膜导电性较低、透光性较低等问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种纳米银导电膜的制备方法,此制备方法简单、反应条件温和、成本低廉、高效经济,适用于工业化大规模生产。
本发明的另一目的在于提供一种纳米银导电膜,此纳米银导电膜稳定性好、透明性高、导电性高,是一种图形化的银柔性透明导电膜。
本发明解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。
本发明提出一种纳米银导电膜的制备方法,包括以下步骤:
S1:在基材表面形成聚多巴胺功能表层;
S2:选取一定图形的光掩膜,对多巴胺功能表层进行光照刻蚀;
S3:涂覆银纳米线/硝酸银溶液,反应后,在基材表面原位形成银纳米线/银纳米颗粒网络结构;
S4:清洗干燥,得到图形化纳米银导电膜。
本发明提出一种纳米银导电膜,其根据上述制备方法制备得到。
本发明实施例的纳米银导电膜及其制备方法的有益效果是:
本发明通过基板改性和涂覆技术,构建银纳米线/银纳米颗粒网络结构,使银纳米结构自组装成为线宽为1~5um的细线图形,得到一种稳定性好、透明性高、导电性高的图形化银柔性透明导电膜。
利用多巴胺的自聚合反应在基材表面形成黏附性很强的聚多巴胺功能薄层,反应条件简单温和,成本较低。
对多巴胺功能表层进行光照刻蚀处理,可以使光照射处的聚多巴胺的功能基团失去活性。同时,利用光掩膜,可以实现导电膜的图形化设计。
聚多巴胺活性功能基团与银纳米线之间有螯合相互作用,有利于银纳米线在基材上的紧密黏附。聚多巴胺活性功能基团还具有还原性,能将硝酸银还原生成银纳米粒子,形成银纳米线/银纳米颗粒网络结构,有利于减低膜电阻。
本发明的制备方法简便、易于操作,反应条件温和,各项参数容易调控,成本低廉,高效经济,具有工业化生产的潜力和广阔的应用前景。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本发明的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本发明实施例的1的纳米银导电膜的制备方法的步骤示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者,按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者,均为可以通过市售购买获得的常规产品。
下面对本发明实施例的纳米银导电膜及其制备方法进行具体说明。
本发明实施例提供的一种纳米银导电膜的制备方法,包括以下步骤:
S1:在基材表面形成聚多巴胺功能表层;
S2:选取一定图形的光掩膜,对多巴胺功能表层进行光照刻蚀;
S3:涂覆银纳米线/硝酸银溶液,反应后,在基材表面原位形成银纳米线/银纳米颗粒网络结构;
S4:清洗干燥,得到图形化纳米银导电膜。
进一步地,在本发明较佳实施例中,基材选自玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯和聚二甲基硅氧烷中的任意一种。
进一步地,在本发明较佳实施例中,S1步骤中,将基材浸入含多巴胺的碱性水溶液中进行反应,以形成聚多巴胺功能表层。碱性水溶液的pH值优选为7.5~12,更进一步地,pH值为8~8.5。在弱碱性条件下,反应条件更温和,且获得的聚多巴胺功能表层具有更优异的表面活性和黏附能力。
多巴胺能够在碱性水溶液条件下发生氧化-自聚合反应,形成强力黏附于基材表面的聚多巴胺功能表层。聚多巴胺功能表层具有非凡的表面活性,可以应用于多种类型的基材的表面。
进一步地,在本发明较佳实施例中,碱性水溶液中,多巴胺的浓度为0.01~5g/L。进一步地,多巴胺的浓度为1.0~1.5g/L,更为优选地,多巴胺的浓度为1.2g/L。在优选的浓度条件下,能够形成适宜的聚多巴胺功能表层,具有极强的黏附性且保证后续操作中,有效与银纳米线进行螯合,得到稳定性能优良的纳米银导电膜。
进一步地,在本发明较佳实施例中,S1步骤中,基材在碱性水溶液中的反应时间为1~48h。进一步优选地,反应时间为4~12h。
进一步地,在本发明较佳实施例中,S2步骤中,使用紫外光源进行光照刻蚀,紫外光源的波长为200~450nm、功率为100w~25kw。在上述紫外光照条件下,能够迅速使聚多巴胺的功能基团失去活性,缩短反应时间,提升生产效率。
紫外光源可以使所照射处的聚多巴胺的功能基团失去活性。在特定图形的光掩膜的作用下,未被紫外光源照射的部分保持聚多巴胺的功能基团的活性,而被紫外光源照射的部分失去活性,从而只在未被紫外光源照射处形成银纳米线/银纳米颗粒,实现导电膜的图形化设计。
进一步地,在本发明较佳实施例中,S2步骤中,光照刻蚀的时间为5~120min。进一步地,光照刻蚀的时间为15~20min。在上述条件下,保证聚多巴胺功能基团的失活,且避免能量浪费。
进一步地,在本发明较佳实施例中,S3步骤中,银纳米线/硝酸银溶液中,银纳米线的质量分数为0.1~5%。
进一步地,在本发明较佳实施例中,S3步骤中,银纳米线/硝酸银溶液中,硝酸银的质量分数为0.1~5%。
更进一步地,银纳米线/硝酸银溶液中,银纳米线和硝酸银的质量比为1:1.5~2。
银纳米线是一种一维纳米材料,其具有优越的光电性能和耐弯折性能。银是电的良导体,电阻率低、导电率高。将其作为代替传统ITO透明电极的材料,为实现柔性、可弯折LED显示、触摸屏提供了可能。
进一步地,在本发明的实施例中,银纳米线的直径为5~50nm,长径比为10~800。更为优选地,银纳米线的直径为40~50nm,长径比为15~30。长径比越大的银纳米线越适合导电膜的制备,获得性能越优越的导电膜。然而,在制备获得长度较长的银纳米线容易相互缠绕,而使得其难以均匀分散且容易发生沉淀。
进一步地,在本发明较佳实施例中,S3步骤中,采用喷涂法、旋涂法或浸渍法进行涂覆所述银纳米线/硝酸银溶液的操作,涂覆后,反应0.5~5h,以形成所述银纳米线/银纳米颗粒网络结构。进一步地,S3步骤中,反应时间为1~2h。
更为优选地,采用浸渍法进行涂覆操作。浸渍法的操作简单,易实现,能够形成均一稳定的产品。
本发明还提供了一种纳米银导电膜,其根据上述制备方法制备得到。此纳米银导电膜在基材的表面形成图形化的纳米结构。该纳米结构为银纳米线/纳米颗粒网络结构。进一步地,图形化的纳米结构的线宽为1~5μm。
以下结合实施例对本发明的特征和性能作进一步的详细描述。
实施例1
本实施例提供的一种纳米银导电膜,其根据以下步骤制备得到:
将素玻璃基材浸入含多巴胺的碱性水溶液中反应6h,在基材表面形成聚多巴胺功能表层,其中,碱性水溶液中,pH为8.4,多巴胺的浓度为1.2g/L。
利用光源(波长254nm,功率160w),选取特定图形的光掩膜,对聚多巴胺层进行15min光照处理。
采用浸渍法进行涂覆银纳米线/硝酸银溶液,反应1.5h后,原位形成银纳米线/银纳米颗粒网络结构,其中,银纳米线直径为50nm,长径比为20,质量分数为0.1%;硝酸银的质量分数为0.2%。
冲洗干燥,得到图形化纳米银导电膜。
测试结果表明,本发明实施例中的纳米银导电膜透光率为90%,方阻为12Ω/sq。
实施例2
本实施例提供的一种纳米银导电膜,其根据以下步骤制备得到:
将素玻璃基材浸入含多巴胺的碱性水溶液中反应8h,在基材表面形成聚多巴胺功能表层,其中,碱性水溶液中,pH为8,多巴胺的浓度为1.0g/L。
利用光源(波长325nm,功率240w),选取特定图形的光掩膜,对聚多巴胺层进行20min光照处理。
采用浸渍法进行涂覆银纳米线/硝酸银溶液,反应2h后,原位形成银纳米线/银纳米颗粒网络结构,其中,银纳米线直径为40nm,长径比为30,质量分数为0.2%;硝酸银的质量分数为0.3%。
冲洗干燥,得到图形化纳米银导电膜。
测试结果表明,本发明实施例中的纳米银导电膜透光率为83%,方阻为14Ω/sq。
实施例3
本实施例提供的一种纳米银导电膜,其根据以下步骤制备得到:
将素玻璃基材浸入含多巴胺的碱性水溶液中反应10h,在基材表面形成聚多巴胺功能表层,其中,碱性水溶液中,pH为10,多巴胺的浓度为0.03g/L。
利用光源(波长450nm,功率25kw),选取特定图形的光掩膜,对聚多巴胺层进行120min光照处理。
采用浸渍法进行涂覆银纳米线/硝酸银溶液,反应5h后,原位形成银纳米线/银纳米颗粒网络结构,其中,银纳米线直径为5nm,长径比为10,质量分数为0.1%;硝酸银的质量分数为0.1%。
冲洗干燥,得到图形化纳米银导电膜。
测试结果表明,本发明实施例中的纳米银导电膜透光率为85%,方阻为15Ω/sq。
实施例4
本实施例提供的一种纳米银导电膜,其根据以下步骤制备得到:
将素玻璃基材浸入含多巴胺的碱性水溶液中反应12h,在基材表面形成聚多巴胺功能表层,其中,碱性水溶液中,pH为11,多巴胺的浓度为5g/L。
利用光源(波长450nm,功率25kw),选取特定图形的光掩膜,对聚多巴胺层进行5min光照处理。
采用浸渍法进行涂覆银纳米线/硝酸银溶液,反应0.5h后,原位形成银纳米线/银纳米颗粒网络结构,其中,银纳米线直径为50nm,长径比为800,质量分数为5%;硝酸银的质量分数为5%。
冲洗干燥,得到图形化纳米银导电膜。
测试结果表明,本发明实施例中的纳米银导电膜透光率为79%,方阻为16Ω/sq。
此外,按照实施例1的参数制备银纳米导电膜,不同之处在于,改变基材在含多巴胺的碱性水溶液中的反应时间,反应时间分别为4h、6h、8h、10h和12h。测试结果表明,透光率随着浸入含多巴胺的碱性水溶液中的反应时间增加而略有下降。
综上所述,本发明实施例的纳米银导电膜,利用多巴胺的自聚合反应在基材表面形成很薄的聚多巴胺功能表层。聚多巴胺功能表层的黏附性很强,且具有多种特殊的功能基团。利用紫外光源可以对聚多巴胺功能表层进行图形化处理,在光掩膜的作用下,聚多巴胺功能表层被光源照射的地方失去活性。聚多巴胺功能表层的活性功能基团与银纳米线之间有螯合相互作用,有利于银纳米线在基材上的紧密黏附;聚多巴胺活性功能基团还具有还原性,能将硝酸银还原生成银纳米粒子,形成银纳米线/银纳米颗粒网络结构,有利于减低膜电阻。该方法简便、高效、经济,具有工业化生产的潜力和广阔的应用前景。
以上所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围,而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

Claims (10)

1.一种纳米银导电膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤::
S1:在基材表面形成聚多巴胺功能表层;
S2:选取一定图形的光掩膜,对所述多巴胺功能表层进行光照刻蚀;
S3:涂覆银纳米线/硝酸银溶液,反应后,在所述基材表面原位形成银纳米线/银纳米颗粒网络结构;
S4:清洗干燥,得到图形化纳米银导电膜。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,S1步骤中,将所述基材浸入含多巴胺的碱性水溶液中进行反应,以形成所述聚多巴胺功能表层。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述碱性水溶液中,所述多巴胺的浓度为0.01~5g/L,所述碱性水溶液的pH值为7.5~12。
4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,S1步骤中,所述基材在所述碱性水溶液中的反应时间为1~48h。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,S2步骤中,使用紫外光源进行光照刻蚀,所述紫外光源的波长为200~450nm、功率为100w~25kw。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,S2步骤中,光照刻蚀的时间为5~120min。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,S3步骤中,所述银纳米线/硝酸银溶液中,银纳米线的质量分数为0.1~5%,硝酸银的质量分数为0.1~5%。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,S3步骤中,采用喷涂法、旋涂法或浸渍法进行涂覆所述银纳米线/硝酸银溶液的操作,涂覆后,反应0.5~5h,以形成所述银纳米线/银纳米颗粒网络结构。
9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述基材选自玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯和聚二甲基硅氧烷中的一种。
10.一种纳米银导电膜,其特征在于,根据权利要求1~9任意一项所述的制备方法制备得到。
CN201710521080.9A 2017-06-30 2017-06-30 一种纳米银导电膜及其制备方法 Active CN107419244B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710521080.9A CN107419244B (zh) 2017-06-30 2017-06-30 一种纳米银导电膜及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710521080.9A CN107419244B (zh) 2017-06-30 2017-06-30 一种纳米银导电膜及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107419244A true CN107419244A (zh) 2017-12-01
CN107419244B CN107419244B (zh) 2019-03-29

Family

ID=60426837

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710521080.9A Active CN107419244B (zh) 2017-06-30 2017-06-30 一种纳米银导电膜及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107419244B (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109346242A (zh) * 2018-09-29 2019-02-15 华南理工大学 一种基于银纳米线的透明电极及其制备方法
CN109609935A (zh) * 2019-01-11 2019-04-12 东南大学 一种在材料表面制备高密度单分散金属纳米颗粒的方法
CN110253995A (zh) * 2019-06-20 2019-09-20 云南电网有限责任公司电力科学研究院 一种绝缘材料结构及其制备方法
CN110364628A (zh) * 2019-07-15 2019-10-22 上海大学 一种混合维度柔性透明电极及其制备方法和应用
CN113501990A (zh) * 2021-06-29 2021-10-15 浙江中科玖源新材料有限公司 一种复合导电膜及其制备方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103219243A (zh) * 2012-09-28 2013-07-24 复旦大学 图案化金属线路的制备方法
CN104835555A (zh) * 2015-05-13 2015-08-12 南京邮电大学 一种图案化金属透明导电薄膜的制备方法
CN105575477A (zh) * 2016-01-27 2016-05-11 深圳先进技术研究院 一种提高银纳米线柔性透明导电膜导电性的方法
CN105671525A (zh) * 2016-01-27 2016-06-15 西南大学 一种基于聚多巴胺的制备图案化金属薄膜的方法及其产品
CN106001601A (zh) * 2016-06-01 2016-10-12 合肥微晶材料科技有限公司 一种表面改性的银纳米线导电液及其制备方法
CN106356298A (zh) * 2016-09-18 2017-01-25 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 一种银纳米线膜图案的制备方法、显示基板及显示装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103219243A (zh) * 2012-09-28 2013-07-24 复旦大学 图案化金属线路的制备方法
CN104835555A (zh) * 2015-05-13 2015-08-12 南京邮电大学 一种图案化金属透明导电薄膜的制备方法
CN105575477A (zh) * 2016-01-27 2016-05-11 深圳先进技术研究院 一种提高银纳米线柔性透明导电膜导电性的方法
CN105671525A (zh) * 2016-01-27 2016-06-15 西南大学 一种基于聚多巴胺的制备图案化金属薄膜的方法及其产品
CN106001601A (zh) * 2016-06-01 2016-10-12 合肥微晶材料科技有限公司 一种表面改性的银纳米线导电液及其制备方法
CN106356298A (zh) * 2016-09-18 2017-01-25 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 一种银纳米线膜图案的制备方法、显示基板及显示装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109346242A (zh) * 2018-09-29 2019-02-15 华南理工大学 一种基于银纳米线的透明电极及其制备方法
CN109609935A (zh) * 2019-01-11 2019-04-12 东南大学 一种在材料表面制备高密度单分散金属纳米颗粒的方法
CN110253995A (zh) * 2019-06-20 2019-09-20 云南电网有限责任公司电力科学研究院 一种绝缘材料结构及其制备方法
CN110253995B (zh) * 2019-06-20 2021-07-27 云南电网有限责任公司电力科学研究院 一种绝缘材料结构及其制备方法
CN110364628A (zh) * 2019-07-15 2019-10-22 上海大学 一种混合维度柔性透明电极及其制备方法和应用
CN113501990A (zh) * 2021-06-29 2021-10-15 浙江中科玖源新材料有限公司 一种复合导电膜及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN107419244B (zh) 2019-03-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107419244B (zh) 一种纳米银导电膜及其制备方法
CN103961073B (zh) 压阻式电子皮肤及其制备方法
CN106782769A (zh) 低粗糙度低方阻的柔性透明导电复合薄膜及其制备方法
Mayousse et al. Synthesis and purification of long copper nanowires. Application to high performance flexible transparent electrodes with and without PEDOT: PSS
CN106205774B (zh) 一种导电浆料及透明导电涂层
JP5785226B2 (ja) ナノワイヤベースの透明導電体およびその適用
CN102834936B (zh) 基于纳米线的透明导体及对其进行构图的方法
TWI512763B (zh) 導電膜及其製造方法、觸控面板及集積型太陽電池
Jin et al. Site-selective growth of patterned silver grid networks as flexible transparent conductive film by using poly (dopamine) at room temperature
Yu et al. Flexible, transparent and tough silver nanowire/nanocellulose electrodes for flexible touch screen panels
CN106297966A (zh) 一种金属纳米线‑抗氧化材料复合的透明导电膜及其制备
An et al. A wearable and highly sensitive textile-based pressure sensor with Ti3C2Tx nanosheets
CN102250506A (zh) 基于纳米线的透明导体
CN108707997A (zh) 还原氧化石墨烯包覆铜纳米线导电复合材料的制备方法
WO2018040953A1 (zh) 一种基于亲水改性pet基材的纳米银线透明导电膜的制备方法
TW201005438A (en) Conductive-film-forming photosensitive material and conductive material
CN108288513A (zh) 一种基于分形结构银微粒的柔性和可拉伸导体及其制备方法
CN107799236A (zh) 一种石墨烯电极快速制备方法
CN109427449A (zh) 一种柔性基透明导电薄膜的制备方法
Qi et al. Realization of a flexible and mechanically robust Ag mesh transparent electrode and its application in a PDLC device
CN110364628A (zh) 一种混合维度柔性透明电极及其制备方法和应用
Zamanpour et al. Transparent and flexible touch on/off switch based on BaTiO3/silicone polymer triboelectric nanogenerator
CN104615304B (zh) 一种高导电率低反射率金属网格的制作方法及其制品
Li et al. Facile fabrication of large-scale silver nanowire transparent conductive films by screen printing
Valasma et al. Grid-type transparent conductive thin films of carbon nanotubes as capacitive touch sensors

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
CB03 Change of inventor or designer information

Inventor after: Xie An

Inventor after: Wu Huiqing

Inventor after: Zhang Yu

Inventor after: Cao Guang

Inventor before: Wu Huiqing

Inventor before: Xie An

Inventor before: Zhang Yu

Inventor before: Cao Guang

CB03 Change of inventor or designer information
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant