CN107363714A - 混凝土化学物理混合抛光的方法 - Google Patents

混凝土化学物理混合抛光的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107363714A
CN107363714A CN201710574597.4A CN201710574597A CN107363714A CN 107363714 A CN107363714 A CN 107363714A CN 201710574597 A CN201710574597 A CN 201710574597A CN 107363714 A CN107363714 A CN 107363714A
Authority
CN
China
Prior art keywords
concrete
polished
face
grinding
agent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201710574597.4A
Other languages
English (en)
Inventor
郭蓬莱
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xiaoyu Abrasive Co Ltd
Original Assignee
Xiaoyu Abrasive Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xiaoyu Abrasive Co Ltd filed Critical Xiaoyu Abrasive Co Ltd
Priority to CN201710574597.4A priority Critical patent/CN107363714A/zh
Publication of CN107363714A publication Critical patent/CN107363714A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • B24B37/042—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces operating processes therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • B24B37/042—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces operating processes therefor
    • B24B37/044—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces operating processes therefor characterised by the composition of the lapping agent
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B55/00—Safety devices for grinding or polishing machines; Accessories fitted to grinding or polishing machines for keeping tools or parts of the machine in good working condition
    • B24B55/12—Devices for exhausting mist of oil or coolant; Devices for collecting or recovering materials resulting from grinding or polishing, e.g. of precious metals, precious stones, diamonds or the like
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
    • C09K3/1463—Aqueous liquid suspensions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

本公开提供了一种混凝土化学物理混合抛光的方法，包括：令混凝土软化研磨剂渗透到混凝土待抛光面；以及采用机械物理方式对混凝土待抛光面进行抛光。本公开采用化学物理混合抛光的方法，相比于单纯的物理抛光，效率大大提高。

Description

混凝土化学物理混合抛光的方法
技术领域
本公开涉及混凝土抛光领域，尤其涉及一种混凝土化学物理混合抛光的方法。
背景技术
普通混凝土作为地坪材料在使用过程中由于其固有的一些缺陷和不足，通常出现易于起灰、耐磨性差、表面不平整、容易油污等影响其作用效果的现象。为了避免这些现象产生，市场上出现了混凝土表面喷涂硬化剂然后进行抛光的工艺，以提高混凝土结构的密实性和表面硬度达到改善混凝土地坪的使用效果。
当前混凝土抛光工艺，人们通常采用的是先用3遍金属刀头粗磨，再进行7道树脂磨片的打磨，期间上3遍到4遍的固化剂，然后再进行2遍的抛光处理，整个过程属于纯机械物理研磨，需要7-15道不同工序的研磨，过程繁杂、麻烦，不易控制质量，难以去除地坪的凸起部分，且时间长、成本高。
公开内容
(一)要解决的技术问题
本公开提供了一种混凝土化学物理混合抛光的方法，以至少部分解决以上所提出的技术问题。
(二)技术方案
本公开提供了一种混凝土化学物理混合抛光的方法，包括：令混凝土软化研磨剂渗透到混凝土待抛光面；以及采用机械物理方式对混凝土待抛光面进行抛光。
在本公开的一些实施例中，混凝土软化研磨剂为液体；令混凝土软化研磨剂渗透到混凝土待抛光面的步骤包括：用水浸泡混凝土待抛光面；在混凝土待抛光面上喷洒混凝土软化研磨剂；预留预设时间，供混凝土软化研磨剂沿渗入混凝土待抛光面的水分浸透到混凝土内部。
在本公开的一些实施例中，用水浸泡待抛光的混凝土待抛光面的时间大于15min；和/或用水浸泡待抛光的混凝土待抛光面的步骤之后还包括：清理混凝土待抛光面的水；和/或预留的预设时间大于15min，供混凝土软化研磨剂沿先前渗入混凝土待抛光面的水分浸透到混凝土内部。
在本公开的一些实施例中，混凝土软化研磨剂包含：10～45重量份的纳米二氧化硅；5～30重量份的硅酸盐研磨剂；5重量份的CMP浆料；0.5～10重量份的活性剂；1～10重量份的分散剂；30～70重量份的水。
在本公开的一些实施例中，每公斤的混凝土软化研磨剂覆盖的混凝土待抛光面面积为10～15m2。
在本公开的一些实施例中，采用多次喷洒，多次渗透的方式供该混凝土软化研磨剂渗透到混凝土待抛光面。
在本公开的一些实施例中，采用机械物理方式对混凝土待抛光面进行抛光的步骤包括：采用颗粒尺寸逐渐减小的磨片进行抛光面湿磨；在混凝土待抛光面喷洒致密剂，并预留时间供混凝土待抛光面吸收致密剂；以及进行抛光面干磨。
在本公开的一些实施例中，采用颗粒尺寸逐渐减小的磨片进行抛光面湿磨的步骤包括：采用1H磨片进行抛光面湿磨，加水研磨至RA值为135；采用2H磨片进行抛光面湿磨，加水研磨至Ra值为72；采用4H磨片进行抛光面湿磨，加水研磨至Ra值为25。
在本公开的一些实施例中，进行抛光面干磨的步骤包括：采用L3磨片干磨混凝土地面，研磨机的转速设定在900RPM以上，交叉干磨至RA值小于5。
在本公开的一些实施例中，将湿磨产生的泥浆收集至泥浆收集袋中，使其在泥浆收集袋中沉淀，过滤，过滤后的水达标后排放，留存在泥浆收集袋内的泥浆密封后当作工业垃圾处理。
在本公开的一些实施例中，采用机械物理方式对混凝土待抛光面进行抛光的步骤之后还包括：清理混凝土表面；喷洒混凝土防滑养护剂，将混凝土防滑养护剂均匀地涂抹在混凝土待抛光面上，晾干，用抛光垫抛光。
(三)有益效果
从上述技术方案可以看出，本公开混凝土化学物理混合抛光的方法至少具有以下有益效果其中之一：
(1)采用化学物理混合抛光的方法，相比于单纯的物理抛光，效率大大提高；
(2)首先令混凝土待抛光面吸收水分，而后软化研磨剂沿水分渗透至待抛光混凝土中，将其软化，大大降低了后期物理研磨的难度和工作量；
(3)采用干湿结合，湿磨为主的施工工艺，最大限度的降低了混凝土抛光过程中产生的粉尘对环境的污染；
(4)用四步研磨代替原有旧工艺七步甚至十五步的工艺，迅速达到混凝土抛光面平整、致密、增光的完美效果，大大提升了效率；
(5)研磨所产生的泥浆用泥浆收集袋收集沉淀，排出清水留下泥浆密封排放，操作简单，化学研磨剂和胶体二氧化硅致密剂成分组成简单、环保，无污染物产生。
附图说明
图1为本公开实施例混凝土化学物理混合抛光的方法的流程图。
具体实施方式
本公开采用化学研磨和机械物理研磨相结合的工艺，简化了混凝土的抛光步骤，缩短了混凝土地面的施工时间，提高了效率。
为使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本公开进一步详细说明。
在本公开的第一个示例性实施例中，提供了一种混凝土化学物理混合抛光的方法。本实施例混凝土化学物理混合抛光的方法包括三个阶段：准备阶段、抛光阶段和验收阶段。
更具体地，图1为本公开第一实施例混凝土化学物理混合抛光的方法的结构示意图。如图1所示，本公开混凝土化学物理混合抛光的方法包括：
一、准备阶段
该准备阶段包括以下步骤：
步骤A1，清理待抛光的混凝土地面；
步骤A2，用泥浆收集袋蒙住下手道口，混凝土抛光面湿磨的产物将经由泥浆收集袋过滤后才能流入下水道。
二、施工阶段
该施工阶段将是本公开的核心部分，包括：
子步骤B1，用水浸泡待抛光的混凝土地面；
作为一种具体的实施方式，水浸泡的时间为30min。在本公开其他一些实施例中，浸泡时间大于15min，以使水分渗入混凝土地面内的一定深度。该子步骤的目的是为了后续的混凝土软化研磨剂能够更好地渗入混凝土内部。
在浸泡时间到达之后，用吸水机吸干或用拖布拖干混凝土地面的水。该步骤是为了避免残留的水分影响混凝土软化研磨剂的浓度。
子步骤B2，在混凝土地面喷洒混凝土软化研磨剂，该混凝土软化研磨剂沿先前渗入混凝土地面的水分浸透到混凝土地面内部；
该混凝土软化研磨剂的成分包括：10～45重量份的纳米二氧化硅；5～30重量份的硅酸盐研磨剂；5重量份的CMP浆料；0.5～10重量份的活性剂；1～10重量份的分散剂；30～70重量份的水。其中，纳米二氧化硅和硅酸盐研磨剂的作用是软化混凝土表面，CMP浆料是辅助研磨作用；活性剂和分散剂的作用是增加软化剂的亲水性，其中分散剂例如可以采用聚乙二醇、HPMA(水解聚马来酸酐)等；活性剂例如可以采用聚乙烯吡咯烷酮(polyvinylpyrrolidone，简称PVP)，但其它本领域公知的分散剂和活性剂并不影响本公开的实施。水的作用是基础溶液。
下面通过具体实施例和对比例来对使用了本发明不同配比的混凝土软化研磨剂和未使用本发明的混凝土软化研磨剂的若干情形进行阐述说明，其中重点关注了各实施例达到预设抛光度所达到的时间，以突出本公开的优异技术效果。
制备例
在CMP浆料中加入部分水，开启强搅拌，依次加入规定配比的硅酸盐研磨剂、活性剂、分散剂，最后加入纳米二氧化硅并继续充分搅拌使其均匀，逐步加入余量水，搅拌均匀得本发明的混凝土软化研磨剂，具体配比参见表1。
其中，分散剂采用聚乙二醇或HPMA；活性剂采用聚乙烯吡咯烷酮。
实施例1-10
采用表1中配比、通过上述制备例制备得到的混凝土软化研磨剂对混凝土地面进行软化，而后进行机械物理研磨，测试达到预设抛光度所需要的时间，结果同样见表1。
对比例1
未采用本发明的混凝土软化研磨剂对混凝土地面进行软化，而是直接对该混凝土地面进行机械物理研磨，测试达到预设抛光度所需要的时间，结果同样见表1。
表1
作为一种具体的实施方式，本实施例中，在喷洒混凝土软化研磨剂后，供其渗透到混凝土地面内部的渗透时间为30min。在本公开的其他一些实施例中，渗透时间大于15min，其原理是混凝土软化研磨剂的分子由于其独特的亲水性会寻找水分子，从而迅速的到达水分子所到之处，快速渗透进入混凝土。
作为一种具体的实施方式，本实施例中，每公斤的混凝土软化研磨剂覆盖混凝土底面的面积为12m2。在本公开的一些实施例中，每公斤的混凝土软化研磨剂覆盖的面积为10～15m2，在喷洒量较大的情况下，可以采用多次喷洒，多次渗透的方式进行。
还需要注意的是，如果混凝土软化研磨剂在混凝土中的渗入性能较好，则子步骤B1可以省略。
本步骤中，混凝土软化研磨剂渗透入混凝土内部之后，将混凝土软化，大大降低了后期物理研磨的难度和工作量。
子步骤B3，采用机械物理方式对混凝土地面进行抛光面湿磨；
由于前期混凝土软化研磨剂的渗透，该子步骤的机械物理研磨的效率将大大提升。
在本公开的一些实施例中，采用1H、2H、4H磨片加水交叉研磨施工。作为一种具体的实施方式，本实施例中，在该子步骤中，具体而言，采用1H磨片，研磨机的速度在600-750转/分，加水研磨至RA值为135，再使用2H磨片RA值72，吸除泥浆后用4H磨片加水研磨，4H磨片研磨完后，用RA仪测量得到的数据应为25，可进行下一步。
需要说明的是，在本子步骤中，如果在研磨4H之前发现地面有小裂纹和微小空洞，可以先喷洒一遍胶体二氧化硅致密剂再研磨4H，可以有效的封堵上述缺陷。
三道抛光面湿磨产生的泥浆，用吸水机收集后用泥浆泵泵入泥浆收集袋中，使其在泥浆收集袋中沉淀，过滤，过滤后的水可以达标排放。留存在泥浆收集袋内的泥浆密封后当作工业垃圾处理。
子步骤B4，在混凝土地面上喷洒致密剂，而后再次采用机械物理方式对混凝土地面进行干磨。
其中，喷洒致密剂后，供混凝土地面吸收致密剂的时间大于15min。在时间到达之后，如果致密剂仍然没有晾干，则可以用拖布将其拖干后，开始后续的研磨工序。
作为一种具体的实施方式，在该子步骤中，采用L3磨片干磨混凝土地面，机器转速设定在900RPM以上，交叉干磨至RA值小于5。
子步骤B5，用抛光垫清理混凝土表面，喷洒混凝土防滑养护剂，用布拖将混凝土防滑养护剂均匀地涂抹在混凝土地面上，晾干，用抛光垫抛光。
该子步骤之后，混凝土地面的最高光泽度可以达到95度以上，且地面不滑。
本实施例中，用四步研磨代替原有旧工艺七步甚至十五步的工艺，迅速达到混凝土地面平整、致密、增光的完美效果，大大提升了效率。
三、验收阶段
经过仪器检测：采用这套工艺处理后的混凝土地面，平整度提高了20％，耐磨度提高26％、硬度比原有的地面提高了硬度2度，光泽度达到96度，且防滑。整体施工效率提高了2.5倍
本实施例中，采用环保的混凝土软化研磨剂、金刚石磨片、机械设备共同对混凝土地面进行化学物理致密和抛光处理，采用干湿结合的施工工艺，用四步研磨代替原有旧工艺七步甚至十五步的工艺，迅速达到混凝土地面平整、致密、增光的完美效果。整个研磨过程无粉尘产生，极大的保护了环境，研磨所产生的泥浆用泥浆收集袋收集沉淀，排出清水留下泥浆密封排放，操作简单，化学研磨剂和胶体二氧化硅致密剂成分组成简单、环保，无污染物产生。
至此，已经结合附图对本公开实施例进行了详细描述。需要说明的是，在附图或说明书正文中，未绘示或描述的实现方式，均为所属技术领域中普通技术人员所知的形式，并未进行详细说明。此外，上述对各元件和方法的定义并不仅限于实施例中提到的各种方式，本领域普通技术人员可对其进行简单地更改或替换，例如：
(1)除了可以对混凝土地面进行抛光之外，还可以对其他面，如混凝土墙面、坡面、弧面等所有混凝土构成的表面进行抛光；
(2)H磨片可以用普通磨片来代替；设备可以选择市场上通用的研磨机代替；胶体二氧化硅致密剂可以选择其他类型混凝土硬化剂、致密剂代替等。
依据以上描述，本领域技术人员应当对本公开混凝土化学物理混合抛光的方法有了清楚的认识。
综上所述，本公开采用化学研磨和机械物理研磨相结合的工艺，简化混凝土地面的抛光步骤，缩短混凝土地面的施工时间，提高效率，提供一套快速简便、可量化，易操作的混凝土地面化学物理抛光施工的整体解决方案，具有较好的推广应用前景。
除非有所知名为相反之意，本说明书及所附权利要求中的数值参数是近似值，能够根据通过本公开的内容所得的所需特性改变。具体而言，所有使用于说明书及权利要求中表示组成的含量、反应条件等等的数字，应理解为在所有情况中是受到「约」的用语所修饰。一般情况下，其表达的含义是指包含由特定数量在一些实施例中±10％的变化、在一些实施例中±5％的变化、在一些实施例中±1％的变化、在一些实施例中±0.5％的变化。
此外，除非特别描述或必须依序发生的步骤，上述步骤的顺序并无限制于以上所列，且可根据所需设计而变化或重新安排。并且上述实施例可基于设计及可靠度的考虑，彼此混合搭配使用或与其他实施例混合搭配使用，即不同实施例中的技术特征可以自由组合形成更多的实施例。
类似地，应当理解，为了精简本公开并帮助理解各个公开方面中的一个或多个，在上面对本公开的示例性实施例的描述中，本公开的各个特征有时被一起分组到单个实施例、图、或者对其的描述中。然而，并不应将该公开的方法解释成反映如下意图：即所要求保护的本公开要求比在每个权利要求中所明确记载的特征更多的特征。更确切地说，如下面的权利要求书所反映的那样，公开方面在于少于前面公开的单个实施例的所有特征。因此，遵循具体实施方式的权利要求书由此明确地并入该具体实施方式，其中每个权利要求本身都作为本公开的单独实施例。
以上所述的具体实施例，对本公开的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本公开的具体实施例而已，并不用于限制本公开，凡在本公开的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本公开的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种混凝土化学物理混合抛光的方法，包括：
令混凝土软化研磨剂渗透到混凝土待抛光面；以及
采用机械物理方式对混凝土待抛光面进行抛光。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述混凝土软化研磨剂包含：
10～45重量份的纳米二氧化硅；
5～30重量份的硅酸盐研磨剂；
5重量份的CMP浆料；
0.5～10重量份的活性剂；
1～10重量份的分散剂；
30～70重量份的水。
3.根据权利要求1所述的方法，其中：
所述混凝土软化研磨剂为液体；
所述令混凝土软化研磨剂渗透到混凝土待抛光面的步骤包括：
用水浸泡混凝土待抛光面；
在混凝土待抛光面上喷洒混凝土软化研磨剂；
预留预设时间，供所述混凝土软化研磨剂沿渗入混凝土待抛光面的水分浸透到混凝土内部。
4.根据权利要求3所述的方法，其中：
用水浸泡待抛光的混凝土待抛光面的时间大于15min；和/或
所述用水浸泡待抛光的混凝土待抛光面的步骤之后还包括：清理混凝土待抛光面的水；和/或
所述预留的预设时间大于15min，供所述混凝土软化研磨剂沿先前渗入混凝土待抛光面的水分浸透到混凝土内部。
5.根据权利要求3所述的方法，其中，每公斤的混凝土软化研磨剂覆盖的混凝土待抛光面面积为10～15m2。
6.根据权利要求3所述的方法，其中，采用多次喷洒，多次渗透的方式供该混凝土软化研磨剂渗透到混凝土待抛光面。
7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述采用机械物理方式对混凝土待抛光面进行抛光的步骤包括：
采用颗粒尺寸逐渐减小的磨片进行抛光面湿磨；
在混凝土待抛光面喷洒致密剂，并预留时间供混凝土待抛光面吸收致密剂；以及
进行抛光面干磨。
8.根据权利要求7所述的方法，其中：
所述采用颗粒尺寸逐渐减小的磨片进行抛光面湿磨的步骤包括：
采用1H磨片进行抛光面湿磨，加水研磨至RA值为135；
采用2H磨片进行抛光面湿磨，加水研磨至Ra值为72；
采用4H磨片进行抛光面湿磨，加水研磨至Ra值为25；
所述进行抛光面干磨的步骤包括：
采用L3磨片干磨混凝土地面，研磨机的转速设定在900RPM以上，交叉干磨至RA值小于5。
9.根据权利要求7所述的方法，其中，将湿磨产生的泥浆收集至泥浆收集袋中，使其在泥浆收集袋中沉淀，过滤，过滤后的水达标后排放，留存在泥浆收集袋内的泥浆密封后当作工业垃圾处理。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，所述采用机械物理方式对混凝土待抛光面进行抛光的步骤之后还包括：
清理混凝土表面；
喷洒混凝土防滑养护剂，将混凝土防滑养护剂均匀地涂抹在混凝土待抛光面上，晾干，用抛光垫抛光。
CN201710574597.4A 2017-07-14 2017-07-14 混凝土化学物理混合抛光的方法 Pending CN107363714A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710574597.4A CN107363714A (zh) 2017-07-14 2017-07-14 混凝土化学物理混合抛光的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710574597.4A CN107363714A (zh) 2017-07-14 2017-07-14 混凝土化学物理混合抛光的方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107363714A true CN107363714A (zh) 2017-11-21

Family

ID=60308398

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710574597.4A Pending CN107363714A (zh) 2017-07-14 2017-07-14 混凝土化学物理混合抛光的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107363714A (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1096281A (zh) * 1993-10-22 1994-12-14 大连市环境科学研究所 高强度粉煤灰无机人造大理石及其制造方法
CN1194629A (zh) * 1996-03-29 1998-09-30 安德鲁·昂格莱德 用于制作表面的泡沫玻璃及其用途和制备方法
US20060042172A1 (en) * 2004-08-24 2006-03-02 Chien-Min Sung Polycrystalline grits and associated methods
CN201211638Y (zh) * 2008-07-09 2009-03-25 高鸿镀膜科技(浙江)有限公司 一种不锈钢薄板研磨机
CN101454393A (zh) * 2007-03-01 2009-06-10 Prs地中海有限公司 高性能土工合成制品
CN104563470A (zh) * 2013-10-24 2015-04-29 厦门精铎建筑科技有限公司 一种混凝土地坪研磨抛光工艺方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1096281A (zh) * 1993-10-22 1994-12-14 大连市环境科学研究所 高强度粉煤灰无机人造大理石及其制造方法
CN1194629A (zh) * 1996-03-29 1998-09-30 安德鲁·昂格莱德 用于制作表面的泡沫玻璃及其用途和制备方法
US20060042172A1 (en) * 2004-08-24 2006-03-02 Chien-Min Sung Polycrystalline grits and associated methods
CN101454393A (zh) * 2007-03-01 2009-06-10 Prs地中海有限公司 高性能土工合成制品
CN201211638Y (zh) * 2008-07-09 2009-03-25 高鸿镀膜科技(浙江)有限公司 一种不锈钢薄板研磨机
CN104563470A (zh) * 2013-10-24 2015-04-29 厦门精铎建筑科技有限公司 一种混凝土地坪研磨抛光工艺方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105415211B (zh) 一种汽车工业磨削用耐水研磨砂布及其制造方法
US7591967B2 (en) Method for the aesthetic surface treatment of a monolithic concrete floor and product of the method
US7357700B2 (en) Riding floor polishing and grinding machine for treating concrete, terrazzo, stone and similar surfaces
US10343254B2 (en) Concrete cutting, polishing, and coloring treatment solutions and methods
CN103170920B (zh) 一种陶瓷结合剂大气孔修磨砂轮及其制备方法
CN102390977A (zh) 陶瓷制品修复材料及方法
US6475067B1 (en) Dry method of concrete floor restoration
US6202775B1 (en) Rotary floor finisher for use with a power rider trailer
CN105751012A (zh) 一种密封面研磨工艺
CN109555330A (zh) 混凝土层的碳纤维加固施工工艺
CN107363714A (zh) 混凝土化学物理混合抛光的方法
CN106392854B (zh) 用于蓝宝石产品外形抛光的装置、系统及抛光方法
CN104563452B (zh) 一种用于侧面墙体表面磨光装置
CN109351746A (zh) 一种木质家具表面打磨工艺
CN105806684B (zh) 一种硬度不均匀材料的研磨抛光方法
CN104669071B (zh) 一种复合材料的磨抛加工工艺
CN106826423A (zh) 一种便于调节的磨刀机
CN205817503U (zh) 一种木板打磨装置
CN115181481A (zh) 一种高耐磨地坪材料及其施工方法
CN108385997A (zh) 一种用于修缮古建筑的斜插口木构件及其施工方法
US11471998B2 (en) Tools for polishing and refinishing concrete and methods for using the same
CN208179292U (zh) 一种多功能打磨盘
CN107443204A (zh) 一种便于使用的打磨机
CN109323905A (zh) 一种方体煤岩试件端面打磨装置及其使用方法
DE60009013T2 (de) Pulverzusammensetzung und Verfahren zum Polieren von Stein

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20171121

RJ01 Rejection of invention patent application after publication