CN107145001B - 一种触控显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

一种触控显示面板及其制作方法、显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明实施例公开了一种触控显示面板及其制作方法、显示装置，该触控显示面板包括：基底、形成在基底第一表面的黑矩阵和形成在基底第二表面的触控层；其中，触控层包括触控电极和强化绿光反射的电极块，本发明的技术方案通过形成强化绿光反射的电极块，当触控显示面板在不点亮状态时，提高了触控显示面板对于绿光的反射率，使得外界光射向电极块反射出来的绿光能够有效中和外界光射向触控电极时反射出来的红光和绿光，解决了触控显示面板在不点亮状态时屏幕发紫的技术问题，保证了触控显示面板在不点亮状态时屏幕显示正常，提高了触控显示面板的质量。

Description

一种触控显示面板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤指一种触控显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
通常，薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay，简称TFT-LCD)包括：阵列基板、彩膜基板、以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶，其中，阵列基板与彩膜基板需要完成对盒工艺，形成液晶盒。
近年来带有触控功能的显示器越来越受到广大使用者的追捧，现有技术中的可触控显示面板通常在彩膜基板的最外层直接贴附一层具有触控功能的触控屏来实现触控功能。
图1为现有触控显示面板的结构示意图，如图1所示，在液晶盒中的彩膜基板的基底1表面上直接镀一层透明导电层2作为触控屏。当触控显示面板处于点亮状态时，即光源从液晶盒内射出时，由于透明导电层2的折射率大于基底1的折射率，因此对于一定厚度的透明导电层，即使不考虑透明导电层对光源的吸收，也会存在透过率下降的问题。一般来说，在可见光内，波长为550纳米的绿光对触控显示面板的刺激最高，提升触控显示面板的透过率主要是提升波长550纳米的绿光的透过率，降低其反射率。其中，反射率的公式为
Figure BDA0001343182330000011
其中R为透明导电层的反射率，6为相位差，d0为透明导电层的厚度，由上述公式可知，当透明导电层的厚度满足条件d0＝550k/4(k＝1、2、3、……)时，透明导电层的透过率最高，反射率较低。
然而，若采用上述厚度的透明导电层，虽然提高了触控显示面板处于点亮状态时的透过率，但是当触控显示面板处于不点亮状态时，在外界光的作用下，由于透明导电层的厚度针对波长为550纳米的绿光透过率最大，而红光和蓝光的反射率较多，导致触控显示面板会出现屏幕发紫的问题，极大的影响了触控显示面板的质量。
发明内容
为了解决上述技术问题，本发明提供了一种触控显示面板及其制作方法、显示装置，能够避免触控显示面板在不点亮状态时屏幕发紫的问题，提高触控显示面板的质量。
为了达到本发明目的，本发明提供了一种触控显示面板，包括：基底、形成在基底第一表面的黑矩阵和形成在基底第二表面的触控层；其中，触控层包括触控电极和强化绿光反射的电极块。
进一步地，触控电极设置在基底的第二表面上，电极块设置在触控电极上，
或者，触控电极和电极块为一体结构。
进一步地，电极块在基底上的正投影与黑矩阵在基底上的正投影重合。
进一步地，触控电极与电极块的厚度之和d满足d＝550k/8，k＝1、3、5、……。
进一步地，触控电极的厚度满足nd1＝0.5kλ，其中，d1为触控电极的厚度，n为触控电极的折射率，λ为绿光波长，k＝1、2、3、……。
进一步地，触控电极和电极块的材料为氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铟镓锌或氧化铟镓锡。
另外，本发明还提供一种显示装置，包括触控显示面板。
另外，本发明还提供一种触摸显示面板的制作方法，包括：
在基底第一表面形成黑矩阵；
在基底第二表面形成包括触控电极和强化绿光反射的电极块的触控层。
进一步地，在基底第二表面形成包括触控电极和电极块的触控层，包括：
沉积第一透明导电薄膜，通过构图工艺形成触控电极；
沉积第二透明导电薄膜，通过构图工艺形成电极块。
进一步地，在基底第二表面形成包括触控电极和电极块的触控层，包括：
沉积透明导电薄膜；
通过构图工艺去除电极块图案以外区域部分厚度的透明导电薄膜，形成触控电极和电极块。
本发明实施例提供一种触控显示面板及其制作方法、显示装置，该触控显示面板，包括：基底、形成在基底第一表面的黑矩阵和形成在基底第二表面的触控层；其中，触控层包括触控电极和强化绿光反射的电极块，本发明的技术方案通过形成强化绿光反射的电极块，当触控显示面板在不点亮状态时，提高了触控显示面板对于绿光的反射率，使得外界光射向电极块反射出来的绿光能够有效中和外界光射向触控电极时反射出来的红光和绿光，解决了触控显示面板在不点亮状态时屏幕发紫的技术问题，保证了触控显示面板在不点亮状态时屏幕显示正常，提高了触控显示面板的质量。
附图说明
附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。
图1为现有触控显示面板的结构示意图；
图2为本发明实施例一提供的触控显示面板的结构示意图；
图3为本发明实施例一提供的触控显示面板的外界光反射示意图；
图4为本发明实施例二提供的触控显示面板的结构示意图；
图5为本发明实施例三提供的触控显示面板制作方法的流程图；
图6(a)为本发明实施例三提供的触控显示面板制作方法的示意图一；
图6(b)为本发明实施例三提供的触控显示面板制作方法的示意图二；
图6(c)为本发明实施例三提供的触控显示面板制作方法的示意图三；
图7为本发明实施例四提供的触控显示面板制作方法的示意图二。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本发明的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行。并且，虽然在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。
为了清晰起见，在用于描述本发明的实施例的附图中，层或微结构的厚度和尺寸被放大。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。
实施例一：
图2为本发明实施例一提供的触控显示面板的结构示意图，如图2所示，本发明实施例提供的触控显示面板包括：基底11、形成在基底11第一表面的黑矩阵12和形成在基底第二表面的触控层；其中，触控层包括触控电极13和强化绿光反射的电极块14。
需要了解的是，本发明实施例中提供的触控显示面板包括：液晶盒10，其中，液晶盒包括阵列基板、彩膜基板以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶，本实施例中提到的基底11为彩膜基板中的玻璃基板。其中，基底11的第一表面指的是彩膜基板中的玻璃基板靠近阵列基板的表面，第二表面指的是彩膜基板中的玻璃基板中远离阵列基板的表面，即触控层设置在液晶盒的外侧。
具体的，触控电极13设置在基底11的第二表面上，电极块14设置在触控电极32上。电极块14并未完全覆盖触控电极。当触控显示面板在点亮状态时，来自液晶盒的光线从未被电极块覆盖的触控电极射出，当触控显示面板在不点亮状态时，外界光射向电极块以及未被电极块覆盖的触控电极上。
其中，电极块14在基底11上的正投影与黑矩阵12在基底11上的正投影重合，即电极块设置在黑矩阵的正上方，且电极块与黑矩阵的长宽均相同。本发明实施例通过将电极块只设置在黑矩阵的正上方，不会影响出射光和入射光的透过率，可以保证触控显示面板在点亮状态或不点亮状态的透过率。
具体的，在本实施例中，触控电极13的厚度d1与电极块14的厚度d2之和等于d满足d＝550k/8，k＝1、3、5、……，该厚度的触控层能够保证绿光的反射率最大。本发明通过将触控电极和电极块的厚度之和满足上述公式，可以保证触控显示面板不点亮状态时，射向电极块的光中的绿光反射率最高。
触控电极13的厚度满足nd1＝0.5kλ，其中，d1为触控电极13的厚度，n为触控电极13的折射率，λ为绿光波长，k＝1、2、3、……，满足厚度为d1的触控电极对于绿光的透过率最高。本发明通过使用满足厚度条件的触控电极可以保证触控显示面板对于绿光的透过率最大。
触控电极13和电极块14为透明电极，且材料为氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铟镓锌或氧化铟镓锡。需要说明的是，在本实施例中，触控电极13和电极块14的材料可以相同，也可以不同，具体根据实际需求确定，本发明并不以此为限，需要说明的是，图2是以触控电极和电极块的材料不同为例进行说明的。
图3为本发明实施例一提供的触控显示面板的外界光反射示意图，下面结合图3具体说明本发明实施例提供的触控显示面板的光线反射情况，当触控显示面板在不点亮状态时，由于触控电极的厚度使得绿光的透过率较高，红光和蓝光的反射率较高，因此，射向触控电极的外界光中的绿光射入液晶盒中，红光和蓝光反射至观测者眼中，由于触控电极与电极块的厚度使得绿光的反射率较高，红光和蓝光的透过率较高，因此，射向电极块的外界光中的绿光反射至观测者眼中，红光和蓝光射入液晶盒中。
本发明实施例提供的触控显示面板包括：基底、形成在基底第一表面的黑矩阵和形成在基底第二表面的触控层；其中，触控层包括触控电极和强化绿光反射的电极块，本发明的技术方案通过形成强化绿光反射的电极块，当触控显示面板在不点亮状态时，提高了触控显示面板对于绿光的反射率，使得外界光射向电极块反射出来的绿光能够有效中和外界光射向触控电极时反射出来的红光和绿光，解决了触控显示面板在不点亮状态时屏幕发紫的技术问题，保证了触控显示面板在不点亮状态时屏幕显示正常，提高了触控显示面板的质量。
实施例二：
图4为本发明实施例二提供的触控显示面板的结构示意图，如图4所示，本发明实施例提供的触控显示面板包括：基底11、形成在基底11第一表面的黑矩阵12和形成在基底第二表面的触控层；其中，触控层包括触控电极13和强化绿光反射的电极块14。
需要了解的是，本发明实施例中提供的触控显示面板包括：液晶盒10，其中，液晶盒包括阵列基板、彩膜基板以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶，本实施例中提到的基底11为彩膜基板中的玻璃基板。其中，基底11的第一表面指的是彩膜基板中的玻璃基板靠近阵列基板的表面，第二表面指的是彩膜基板中的玻璃基板中远离阵列基板的表面，即触控层设置在液晶盒的外侧。
具体的，触控电极13和电极块14为一体结构，电极块14并未完全覆盖触控电极。当触控显示面板在点亮状态时，来自液晶盒的光线从未被电极块覆盖的触控电极射出，当触控显示面板在不点亮状态时，外界光射向电极块以及未被电极块覆盖的触控电极上。
其中，电极块14在基底11上的正投影与黑矩阵12在基底11上的正投影重合，即电极块设置在黑矩阵的正上方，且电极块与黑矩阵的长宽均相同。本发明实施例通过将电极块只设置在黑矩阵的正上方，不会影响出射光和入射光的透过率，可以保证触控显示面板在点亮状态或不点亮状态的透过率。
具体的，在本实施例中，触控电极13的厚度d1与电极块14的厚度d2之和等于d满足d＝550k/8，k＝1、3、5、……。本发明通过将触控电极和电极块的厚度之和满足上述公式，可以保证触控显示面板不点亮状态时，射向电极块的光中的绿光反射率最高。
触控电极13的厚度满足nd1＝0.5kλ，其中，d1为触控电极的厚度，n为触控电极的折射率，λ为绿光波长，k＝1、2、3、……，满足厚度为d1的触控电极对于绿光的透过率最高。本发明通过使用满足厚度条件的触控电极可以保证触控显示面板对于绿光的透过率最大。
触控电极13和电极块14为透明电极，且材料为氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铟镓锌或氧化铟镓锡。需要说明的是，在本实施例中，触控电极13和电极块14的材料相同。
下面具体说明本发明实施例提供的触控显示面板的光线反射情况，当触控显示面板在不点亮状态时，由于触控电极的厚度使得绿光的透过率较高，红光和蓝光的反射率较高，因此，射向触控电极的外界光中的绿光射入液晶盒中，红光和蓝光反射至观测者眼中，由于触控电极与电极块的厚度使得绿光的反射率较高，红光和蓝光的透过率较高，因此，射向电极块的外界光中的绿光反射至观测者眼中，红光和蓝光射入液晶盒中。
本发明实施例提供的触控显示面板包括：基底、形成在基底第一表面的黑矩阵和形成在基底第二表面的触控层；其中，触控层包括触控电极和强化绿光反射的电极块，本发明的技术方案通过形成强化绿光反射的电极块，当触控显示面板在不点亮状态时，提高了触控显示面板对于绿光的反射率，使得外界光射向电极块反射出来的绿光能够有效中和外界光射向触控电极时反射出来的红光和绿光，解决了触控显示面板在不点亮状态时屏幕发紫的技术问题，保证了触控显示面板在不点亮状态时屏幕显示正常，提高了触控显示面板的质量。
实施例三：
图5为本发明实施例三提供的触控显示面板制作方法的流程图，如图5所示，本发明实施例提供的触控显示面板制作方法，具体包括以下步骤：
步骤100、在基底第一表面形成黑矩阵。
需要了解的是，本发明实施例中提供的触控显示面板包括：液晶盒，其中，液晶盒包括阵列基板、彩膜基板以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶，本实施例中提到的基底为彩膜基板中的玻璃基板。其中，基底的第一表面指的是彩膜基板中的玻璃基板靠近阵列基板的表面。
步骤200、在基底第二表面形成包括触控电极和强化绿光反射的电极块的触控层。
需要了解的是，第二表面指的是彩膜基板中的玻璃基板中远离阵列基板的表面，即触控层设置在液晶盒的外侧。
其中，电极块在基底上的正投影与黑矩阵在基底上的正投影重合，即电极块设置在黑矩阵的正上方，且电极块与黑矩阵的长宽均相同。本发明实施例通过将电极块只设置在黑矩阵的正上方，不会影响出射光和入射光的透过率，可以保证触控显示面板在点亮状态或不点亮状态的透过率。
具体的，触控电极和电极块为透明电极，且材料为氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铟镓锌或氧化铟镓锡。
具体的，步骤200具体包括：
步骤211、沉积第一透明导电薄膜，通过构图工艺形成触控电极。
其中，第一透明导电薄膜的材料为氧化铟锡薄膜、氧化铟锌薄膜、氧化铟镓锌薄膜或氧化铟镓锡薄膜。
步骤212、沉积第二透明导电薄膜，通过构图工艺形成电极块。
其中，第二透明导电薄膜的材料为氧化铟锡薄膜、氧化铟锌薄膜、氧化铟镓锌薄膜或氧化铟镓锡薄膜。
具体的，在本实施例中，触控电极的厚度与电极块的厚度之和d满足d＝550k/8，k＝1、3、5、……。本发明通过将触控电极和电极块的厚度之和满足上述公式，可以保证触控显示面板不点亮状态时，射向电极块的光中的绿光反射率最高。
在本实施例中，触控电极的厚度满足nd1＝0.5kλ，其中，d1为触控电极的厚度，n为触控电极的折射率，λ为绿光波长，k＝1、2、3、……，满足厚度为d1的触控电极对于绿光的透过率最高。本发明通过使用满足厚度条件的触控电极可以保证触控显示面板对于绿光的透过率最大。
下面结合图6(a)-图6(c)，进一步地描述本发明实施例三提供的触控显示面板的制作方法：
步骤301、在基底11的第一表面形成有黑矩阵12的彩膜基板上滴注液晶，并在阵列基板的周边区域涂覆封框胶；将阵列基板和彩膜基板对盒，形成液晶盒10，具体如图6(a)所示。
具体的，步骤301还可以为在阵列基板上滴注液晶，并在基底11的第一表面形成有黑矩阵12的彩膜基板的周边区域涂覆封框胶，将阵列基板和彩膜基板对盒，形成液晶盒10。
其中，第一表面为基底靠近阵列基板的表面。
步骤302、在基底11第二表面沉积第一透明导电薄膜，通过构图工艺形成触控电极13，具体如图6(b)所示。
其中，第一透明导电薄膜的材料为氧化铟锡薄膜、氧化铟锌薄膜、氧化铟镓锌薄膜或氧化铟镓锡薄膜。
具体的，本实施例中采用化学气相沉积、物理气相沉积、蒸镀等工艺沉积第一透明导电薄膜。其中，构图工艺包括光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺。
具体的，触控电极的厚度满足nd1＝0.5kλ，其中，d1为触控电极的厚度，n为触控电极的折射率，λ为绿光波长，k＝1、2、3、……。
步骤303、在触控电极13上沉积第二透明导电薄膜140，具体如图6(c)所示。
其中，第二透明导电薄膜140的材料为氧化铟锡薄膜、氧化铟锌薄膜、氧化铟镓锌薄膜或氧化铟镓锡薄膜。
本实施例中采用化学气相沉积、物理气相沉积、蒸镀等工艺沉积第二透明导电薄膜。
步骤304、通过构图工艺形成电极块14，具体如图2所示。
具体的，构图工艺包括光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺，具体的，本步骤中的构图工艺采用的是形成黑矩阵的单色调掩膜板，本发明通过采用形成黑矩阵的掩模板形成电极块，使得在形成触控显示面板的工艺中无需增加新的掩膜板，降低了工艺成本。
本发明实施例提供的触控显示面板制作方法，通过在基底第一表面形成黑矩阵，在基底第二表面形成包括触控电极和强化绿光反射的电极块的触控层，本发明的技术方案通过形成强化绿光反射的电极块，当触控显示面板在不点亮状态时，提高了触控显示面板对于绿光的反射率，使得外界光射向电极块反射出来的绿光能够有效中和外界光射向触控电极时反射出来的红光和绿光，解决了触控显示面板在不点亮状态时屏幕发紫的技术问题，保证了触控显示面板在不点亮状态时屏幕显示正常，提高了触控显示面板的质量。
实施例四：
基于上述实施例的发明构思，本发明实施例提供一种触控显示面板的制作方法，具体步骤与实施例三提供的触控显示面板的制作方法中的步骤100和步骤200相同，不同之处在于，步骤200包括的具体步骤不同，在本实施例中，步骤200具体包括：
步骤221、沉积透明导电薄膜。
其中，透明导电薄膜的材料为氧化铟锡薄膜、氧化铟锌薄膜、氧化铟镓锌薄膜或氧化铟镓锡薄膜
步骤222、通过构图工艺去除电极块图案以外区域部分厚度的透明导电薄膜，形成触控电极和电极块。
具体的，在本实施例中，触控电极的厚度与电极块的厚度之和等于预设厚度，预设厚度满足公式，该厚度的触控层能够保证绿光的反射率最大。本发明通过将触控电极和电极块的厚度之和满足上述公式，可以保证触控显示面板不点亮状态时，射向电极块的光中的绿光反射率最高。
在本实施例中，触控电极的厚度满足nd1＝0.5k2，其中，d1为触控电极的厚度，n为触控电极的折射率，λ为绿光波长，k＝1、2、3、……，满足厚度为d1的触控电极对于绿光的透过率最高。本发明通过使用满足厚度条件的触控电极可以保证触控显示面板对于绿光的透过率最大。
下面结合图6(a)和图7，进一步地描述本发明实施例四提供的触控显示面板的制作方法：
步骤401、在基底11的第一表面形成有黑矩阵12的彩膜基板上滴注液晶，并在阵列基板的周边区域涂覆封框胶；将阵列基板和彩膜基板对盒，形成液晶盒10，具体如图6(a)所示。
具体的，步骤401还可以为在阵列基板上滴注液晶，并在基底11的第一表面形成有黑矩阵12的彩膜基板的周边区域涂覆封框胶，将阵列基板和彩膜基板对盒，形成液晶盒10。
其中，第一表面为基底靠近阵列基板的表面。
步骤402、在基底11第二表面沉积透明导电薄膜130，具体如图7所示。
其中，透明导电薄膜130的材料为氧化铟锡薄膜、氧化铟锌薄膜、氧化铟镓锌薄膜或氧化铟镓锡薄膜。
具体的，本实施例中采用化学气相沉积、物理气相沉积、蒸镀等工艺沉积透明导电薄膜。
步骤403、通过构图工艺去除电极块图案以外区域部分厚度的透明导电薄膜，形成触控电极13和电极块14，具体如图4所示。
其中，构图工艺包括光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺。具体的，本步骤中的构图工艺采用的是半色调掩膜板。
具体的，触控电极的厚度满足nd1＝0.5kλ，其中，d1为触控电极的厚度，n为触控电极的折射率，λ为绿光波长，k＝1、2、3、……。触控电极的厚度与电极块的厚度之和等于预设厚度，预设厚度满足公式。
本发明实施例提供的触控显示面板制作方法，通过在基底第一表面形成黑矩阵，在基底第二表面形成包括触控电极和强化绿光反射的电极块的触控层，本发明的技术方案通过形成强化绿光反射的电极块，当触控显示面板在不点亮状态时，提高了触控显示面板对于绿光的反射率，使得外界光射向电极块反射出来的绿光能够有效中和外界光射向触控电极时反射出来的红光和绿光，解决了触控显示面板在不点亮状态时屏幕发紫的技术问题，保证了触控显示面板在不点亮状态时屏幕显示正常，提高了触控显示面板的质量。
实施例五：
基于前述实施例的发明构思，本发明实施例五提供了一种显示装置，包括触控显示面板。
其中，本实施例中的触控显示面板为实施例一或实施例二所述的触控显示面板，其实现原理和实现效果类似，在此不再赘述。
在本实施例中，显示装置可以为液晶显示(Liquid Crystal Display，简称LCD)面板、电子纸、有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，简称OLED)面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件，本发明实施例对比并不做任何限定。
需要说明的是，本发明实施例中所述的显示装置可以为扭曲向列(TwistedNematic，简称TN)模式、垂直(Vertical Alignment，简称VA)模式、平面转换技术(In-planeSwitching，简称IPS)模式或高级超维厂转换技术(Advance super Dimension Switch，简称ADS)模式，本发明对此不做任何限定。
虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (8)

1.一种触控显示面板，其特征在于，包括：基底、形成在所述基底第一表面的黑矩阵和形成在基底第二表面的触控层；其中，所述触控层包括触控电极和强化绿光反射的电极块，所述电极块在基底上的正投影与所述黑矩阵在基底上的正投影重合。
2.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控电极设置在所述基底的第二表面上，所述电极块设置在所述触控电极上，
或者，所述触控电极和所述电极块为一体结构。
3.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控电极的厚度满足n d1＝0.5kλ，其中，d1为触控电极的厚度，n为触控电极的折射率，λ为绿光波长，k＝1、2、3、……。
4.根据权利要求3所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控电极和所述电极块的材料为氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铟镓锌或氧化铟镓锡。
5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-4任一项所述的触控显示面板。
6.一种触摸显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
在基底第一表面形成黑矩阵；
在基底第二表面形成包括触控电极和强化绿光反射的电极块的触控层，所述电极块在基底上的正投影与所述黑矩阵在基底上的正投影重合。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述在基底第二表面形成包括触控电极和电极块的触控层，包括：
沉积第一透明导电薄膜，通过构图工艺形成触控电极；
沉积第二透明导电薄膜，通过构图工艺形成电极块。
8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述在基底第二表面形成包括触控电极和电极块的触控层，包括：
沉积透明导电薄膜；
通过构图工艺去除电极块图案以外区域部分厚度的透明导电薄膜，形成触控电极和电极块。
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