CN107132613A - 一种泄漏通道型光纤及其生产方法 - Google Patents

一种泄漏通道型光纤及其生产方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107132613A
CN107132613A CN201710428172.2A CN201710428172A CN107132613A CN 107132613 A CN107132613 A CN 107132613A CN 201710428172 A CN201710428172 A CN 201710428172A CN 107132613 A CN107132613 A CN 107132613A
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
gully
refractive index
leakage path
optical fiber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201710428172.2A
Other languages
English (en)
Inventor
蔺博
孙将
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
China Electronics Technology Group Corp CETC
Electronic Science Research Institute of CTEC
Original Assignee
China Electronics Technology Group Corp CETC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by China Electronics Technology Group Corp CETC filed Critical China Electronics Technology Group Corp CETC
Priority to CN201710428172.2A priority Critical patent/CN107132613A/zh
Publication of CN107132613A publication Critical patent/CN107132613A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02004—Optical fibres with cladding with or without a coating characterised by the core effective area or mode field radius
    • G02B6/02009—Large effective area or mode field radius, e.g. to reduce nonlinear effects in single mode fibres
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers

Abstract

本发明公开了一种泄漏通道型光纤及其生产方法，包括纤芯、包覆在纤芯的外周的沟壑层组及包覆在沟壑层组的外周的外包层，沟壑层组包括内沟壑层及外沟壑层，内沟壑层与外沟壑层之间夹持有缓冲折射层；外沟壑层包括绕纤芯的周向均匀分布的三个单沟壑体，相邻单沟壑体之间存在泄漏通道，泄漏通道填充满有通道折射体；外包层的折射率、缓冲折射层的折射率、纤芯的折射率及通道折射体的折射率均大于沟壑层组的折射率。本发明提供的泄漏通道型光纤及其生产方法，使得制造的光纤具有易于制造和很好的高阶模式抑制能力，并且具有较大的模场面积。

Description

一种泄漏通道型光纤及其生产方法
技术领域
本发明涉及一种光纤，更具体地说，它涉及一种泄漏通道型光纤及其生产方法。
背景技术
随着大功率单模光纤激光器和放大器开始应用于科学研究、国防、工业、医疗等领域，对其需求越来越迫切。为了加快大功率单模光纤激光源在这些领域中应用和推广，要求光纤激光源具有更高的输出功率、更好的光束质量和更低的成本。但是，非线性现象和模式不稳定现象成为了制约光纤激光源功率提升和光束质量优化的限制因素。而通过模场面积扩展和单模操作可以抑制这些不利因素。
近些年来，研究人员已经设计和实现了许多大模场面积光纤，但是大部分的大模场面积光纤或多或少都有一定的缺点，比如结构复杂、制造难度大、弯曲特性差等，使得这些光纤在实际应用推广中受到限制。基于传统的光纤制造技术生产的阶跃型折射率分布光纤的数值孔径难以小于0.06，在保证其高阶模式抑制能力满足应用要求的前提下，其弯曲时最大的模场面积约为370μm2；国外研究机构新近利用改进的光纤制造技术可以实现超低数值孔径光纤，其数值孔径可低至0.038，在弯曲时可以实现750μm2的模场面积，但是制造工艺掌握在国外少数研究机构，难以学习推广。摒弃阶跃型折射率分布，采用全新的导光机制，可实现在扩大模场面积的同时获得单模输出，例如：光子带隙光纤(photonic bandgapfiber，PBGF)、光子晶体光纤(photonic crystal fiber，PCF)、泄漏通道型光纤(leakagechannel fiber，LCF)、和螺旋芯光纤(chirally-coupled-core fiber，CCCF)等。这类光纤具有很大的模场面积和很好的高阶模式抑制能力，但是此类光纤制造工艺复杂，需要精确的堆棒和拉丝工艺。
近年来提出的低折射率多层沟壑型光纤(MTF)具有易于制造和很好的高阶模式抑制能力，但在弯曲的情况下模场面积较小。
发明内容
针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种泄漏通道型光纤及其生产方法，该光纤在弯曲的情况下具有大有效模场面积和单模工作，可以实现很好的高阶模式抑制能力。
根据本发明的一个方面，提供了一种泄漏通道型光纤，包括纤芯、包覆在所述纤芯上的沟壑层组及外包层，所述沟壑层组包括内沟壑层及外沟壑层，所述内沟壑层与所述外沟壑层之间夹持有缓冲折射层；所述外沟壑层包括绕所述纤芯的周向均匀分布的三个单沟壑体，相邻所述单沟壑体之间存在泄漏通道，所述泄漏通道填充满有通道折射体；所述外包层的折射率、所述缓冲折射层的折射率、所述纤芯的折射率及所述通道折射体的折射率均大于所述沟壑层组的折射率。
进一步设置为：所述外沟壑层的数量不小于两层，相邻所述外沟壑层之间夹持有所述缓冲折射层。
进一步设置为：所述外包层的折射率与所述沟壑层组的折射率差值大于0.001。
进一步设置为：所述缓冲折射层的折射率与所述外包层的折射率差值的变化范围的绝对值小于0.001。
进一步设置为：所述纤芯的折射率与外包层的折射率差值的变化范围的绝对值小于0.0005。
进一步设置为：所述通道折射体的折射率与外包层的折射率相同。
进一步设置为：所述通道折射体选用与所述外包层相同的材料制成。
根据本发明的第二个方面，提供了一种泄漏通道型光纤的生产方法，所述方法包括：
制取预制棒，所述预制棒包括芯子层、沟壑层组、缓冲折射层及外包层，其中，沟壑层组包括内沟壑层及外沟壑层，所述内沟壑层包覆于所述芯子层的外周，所述内沟壑层与所述外沟壑层之间夹持有缓冲折射层，所述外包层位于最外侧；沿所述预制棒的长度方向在所述预制棒上等间隔的开槽以打断所述外沟壑层，形成至少两个单沟壑体及相邻所述单沟壑体之间的泄漏通道；在所述泄漏通道中填充满有通道折射体，所述通道折射率的折射率等于所述外包层的通道折射率；通过光纤拉丝工艺将填充满所述通道折射体的预制棒拉制成光纤。
进一步设置为，所述外沟壑层的数目设为至少两层，相邻所述外沟壑层之间夹持有所述缓冲折射层。
进一步设置为，所述沿所述预制棒的长度方向在所述预制棒上等间隔的开槽以打断所述外沟壑层，形成至少两个单沟壑体，包括利用激光钻孔、超声波钻孔或机械钻孔在所述预制棒上开槽以打断所述外沟壑层，形成三个单沟壑体。
本发明提供一种泄漏通道型光纤及其生产方法，利用泄漏通道改善高阶模式抑制能力，该光纤在弯曲时，模场面积突破原有设计的限制，弯曲半径为20cm，传输光的波长为1.05μm，纤芯直径为50μm时，模场面积为920μm2，并且具有很好的高阶模式抑制能力，利用3个泄漏通道，可实现弯曲方向在±10°范围内具有很好的高阶模式抑制能力。具体的，本发明提供一种泄漏通道型光纤实现了单模运行、模场面积扩展、弯曲抵抗等特性。在较大的结构参数、弯曲角度和弯曲半径等参数范围内，实现了高阶模式损耗与基模损耗比大于50。而且，一方面，本发明提供一种泄漏通道型光纤以类似于MTF实现抑制高阶模式的原理，利用低折射率的沟壑层组之间形成的谐振效应，或者理解为利用纤芯中的高阶模式和与其折射率相匹配的包层泄漏模式的耦合，使得纤芯中的高阶模式具有较大的传输损耗，实现了对纤芯中高阶模式的抑制；另一方面，本发明提供一种泄漏通道型光纤的结构利用泄漏通道对高阶模式的泄漏效果要大于对基模的泄漏，使得纤芯中的高阶模式具有较大的传输损耗，实现了对纤芯中高阶模式的抑制，而且具有较大的模场面积。
附图说明
图1为本发明泄漏通道型光纤横截面的结构示意图，其中，只包括一层外沟壑层；
图2为本发明泄漏通道型光纤横截面的结构示意图，其中，只包括两层外沟壑层；
图3为图2中本发明泄漏通道型光纤在AA’线上的折射率分布曲线；
图4为图2中本发明泄漏通道型光纤在BB’线上的折射率分布曲线；
图5为本发明泄漏通道型光纤制造过程的简要示意图。
图中：11、纤芯；12、沟壑层组；121、内沟壑层；122、外沟壑层；1221、单沟壑体；13、缓冲折射层；14、通道折射体；141、泄漏通道；21、外包层。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
以下结合附图对本发明作进一步详细说明，应理解这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围，在阅读了本发明之后，本领域技术人员对本发明的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。
一种泄漏通道型光纤，包括纤芯、包覆在所述纤芯上的沟壑层组及外包层，所述沟壑层组为低折射率层，所述沟壑层组包括内沟壑层及外沟壑层，所述内沟壑层与所述外沟壑层之间沉积有缓冲折射层，若外沟壑层具有至少两层，则相邻外沟壑层之间也沉积有缓冲折射层；所述外沟壑层包括绕所述纤芯的周向均匀分布的三个单沟壑体，相邻所述单沟壑体之间存在泄漏通道，所述泄漏通道填充满有通道折射体；外包层的折射率、缓冲折射层的折射率、所述纤芯的折射率及所述通道折射体的折射率均大于所述沟壑层组的折射率。
为了便于理解本发明实施例，对本发明第一实施例提供的一种泄漏通道型光纤。
第一实施例：
本发明第一实施例提供一种泄漏通道型光纤，包括纤芯、包覆在所述纤芯上的沟壑层组及外包层，所述沟壑层组包括内沟壑层及外沟壑层，所述沟壑层组为低折射率层。
针对外沟壑层，如图1所示，沟壑层组包括一层内沟壑层及一层外沟壑层，所述内沟壑层与所述外沟壑层之间沉积有缓冲折射层，此外，所述外沟壑层包括绕所述纤芯的周向均匀分布的三个单沟壑体，相邻所述单沟壑体之间存在泄漏通道，即泄漏通道之间间隔120°，且每个单沟壑体之间分离设置，而且，每个泄漏通道均填充满有通道折射体；外包层的折射率、缓冲折射层的折射率、所述纤芯的折射率及所述通道折射体的折射率均大于所述沟壑层组的折射率。
当然，针对外沟壑层，沟壑层组也可进行以下设置：沟壑层组包括一层内沟壑层及至少两层外沟壑层。具体的，如图2所示，沟壑层组包括一层内沟壑层及两层外沟壑层，除了内沟壑层与最接近的外沟壑层之间沉积有缓冲折射层，相邻的外沟壑层之间也沉积有缓冲折射层。此外，每个所述外沟壑层均包括绕所述纤芯的周向也均匀分布的三个单沟壑体，相邻所述单沟壑体之间存在泄漏通道，即泄漏通道之间间隔120°，且每个单沟壑体之间分离设置。
而且，当具有至少两层外沟壑层时，相邻外沟壑层上的泄漏通道一一对应，且相邻外沟壑层的泄漏通道的中心偏差小于两倍的泄露通道宽度tgap。这样，是为了在生产过程中便于开凿出泄漏通道，就此维持光纤特性。
当然，还可进一步优化，当具有至少两层外沟壑层时，相邻外沟壑层上的泄漏通道一一对应，相邻外沟壑层上相对应的泄漏通道的连线经过纤芯的中心，即相邻外沟壑层上的泄露通道一一对齐。这样，是为了在生产过程中便于开凿出泄漏通道，例如，利用机械开槽仪器沿预制棒的外周至其轴心的方向开槽，通过一次开槽操作就可在相邻外沟壑层上同时开设泄露通道，并且相邻外沟壑层上的泄露通道是一一对齐的。
通过上述技术方案，本发明第一实施例提供一种泄漏通道型光纤利用泄漏通道改善高阶模式抑制能力，该光纤在弯曲时，模场面积突破原有设计的限制，弯曲半径为20cm，传输光的波长为1.05μm，纤芯直径为50μm时，模场面积为920μm2，并且具有很好的高阶模式抑制能力，利用3个泄漏通道，可实现弯曲方向在±10°范围内具有很好的高阶模式抑制能力。具体的，本实施例提供一种泄漏通道型光纤实现了单模运行、模场面积扩展、弯曲抵抗等特性。在较大的结构参数、弯曲角度和弯曲半径等参数范围内，实现了高阶模式损耗与基模损耗比大于50。而且，一方面，本实施例提供一种泄漏通道型光纤以类似于MTF实现抑制高阶模式的原理，利用低折射率的沟壑层组之间形成的谐振效应，或者理解为利用纤芯中的高阶模式和与其折射率相匹配的包层泄漏模式的耦合，使得纤芯中的高阶模式具有较大的传输损耗，实现了对纤芯中高阶模式的抑制；另一方面，本实施例提供一种泄漏通道型光纤的结构利用泄漏通道对高阶模式的泄漏效果要大于对基模的泄漏，使得纤芯中的高阶模式具有较大的传输损耗，实现了对纤芯中高阶模式的抑制。
此外，在本实施例中，无论沟壑层包括一层外沟壑层或者至少两层沟壑层，泄漏通道均绕纤芯的周向以间隔120°均匀分布。泄漏通道以120°均匀分布于纤芯的周向上。在本实施例中以沟壑层组具有两层外沟壑层为例进行说明：如图2所示，为了较好的抑制纤芯中的高阶模式，需要光纤的弯曲方向与一个泄漏通道的夹角尽可能小，而该弯曲方向与其他两个泄漏通道的夹角大于30°，这样，高阶模式就会通过其他两个泄漏通道泄漏出去，而纤芯中的基模的泄漏损耗较小。此外，保证三个泄漏通道夹角等间隔，使得弯曲方向可以接近任意一个泄漏通道以实现较好的高阶模式抑制能力，而无需将光纤往选定的泄漏通道进行弯曲，也就是说，在360°的弯曲方向范围中，会有三个等间隔的区间，只要弯曲方向在此三个区间任意一个内，都可实现较好的高阶模式抑制能力，而且具有较大的模场面积。
而且，所述外包层的折射率与所述沟壑层组的折射率差值大于0.001。因为传统的光纤制作方法难以实现低于0.0012的折射率差，所以在此沟壑层组与外包层的折射率差值设定为大于0.001。而且，考虑到传统方法的工艺，此差值为0.001到0.007之间。
优化的，所述缓冲折射层的折射率与所述外包层的折射率差值的变化范围的绝对值小于0.001。在本发明中，缓冲折射层与外包层的折射率差值越接近越好。但是考虑到实际的光纤制作过程中难以实现缓冲折射层与外包层折射率相同，所以限定折射率差值小于±0.001。在此范围内通过调整其他结构参数，同样可以实现很好的高阶模式抑制能力。
优化的，所述纤芯的折射率与外包层的折射率差值的变化范围的绝对值小于0.0005。在本发明中，纤芯与外包层的折射率差值越接近越好。但是考虑到实际的光纤制作过程中难以实现缓冲折射层与外包层折射率相同，并且考虑到此折射率差对纤芯模式的损耗影响很大，所以限定折射率差值小于±0.0005。例如，当纤芯折射率高于外包层折射率时，会导致高阶模式难以通过泄露通道泄露出去，高阶模式抑制能力降低。
优化的，所述通道折射体的折射率与外包层的折射率相同，为了有利于纤芯高阶模式通过泄露通道泄露到外包层中，而且考虑到制造与外包层折射率相同的通道折射体工艺简单，所以在此设定的折射率相同；故在本实施例中，示范性的进行以下设置：通道折射体选用与外包层相同的材料制成，当然，通道折射体选用的材料不能对本发明产生不利影响，且通道折射体的材料的选用需根据具体情况而决定。若本发明的光纤是在高纯石英管中多次沉积而成，故通道折射体选用高纯石英材料制成，这样有助于保证所述通道折射体的折射率与外包层的折射率相同。
此外，还可进行以下优化设置以优化光纤特性：当其他参数固定时，通过增大沟壑层组与外包层的折射率差值，可以同时使得纤芯中基模和高阶模式的损耗降低，而其损耗比基本不变，这样可以满足对光纤长度有较长需求的应用；在实际的光纤制造过程中，有可能会出现预制棒折射率分布与设计值有偏差，比如当缓冲折射层的折射率大于外包层的折射率时，可以通过适当降低纤芯与外包层的折射率差值，同样可以实现较好的高阶模式抑制能力，但是纤芯与外包层的折射率差值变化范围的绝对值需要小于0.0005；在制造过程中可能会出现沟壑层组和缓冲折射层的厚度比例与设计值不一致，可以通过调整纤芯直径的大小，重新设计光纤结构，选用更合适的纤芯直径，或者选用更适合的光纤弯曲半径，实现较好的高阶模式抑制能力；若在制造过程中，出现沟壑层组与外包层的折射率差与设计值有偏差时，可以通过调整沟壑层组的宽度，以起到优化光纤特性的效果；如果实际应用中需要光纤弯曲半径更小，就需要降低缓冲折射层的宽度，以便实现优化光纤特性的效果。
为了便于理解本发明实施例，本发明第二实施例提供的一种泄漏通道型光纤的生产方法。
第二实施例：
如图5所示，其中5A为高纯石英管，5B为在高纯石英管上经过多次沉积后制得的芯子层、沟壑层组、缓冲折射层及外包层，5C为石英管熔融塌缩后制得的预制棒，5D为开槽已形成带有泄漏通道的预制棒，5E为在泄漏通道中填充高纯石英棒。
本发明第二实施例提供的一种泄漏通道型光纤的生产方法，包括：
S1：制取预制棒，所述预制棒包括芯子层、沟壑层组、缓冲折射层及外包层，其中，沟壑层组包括内沟壑层及外沟壑层，所述内沟壑层包覆于所述芯子层的外周，所述内沟壑层与所述外沟壑层之间沉积有缓冲折射层，所述外包层位于最外侧；
具体的，在本实施例中，进行示范性的设置：如5A及5B所示，利用MCVD在石英管的内壁上进行多次沉积，制得芯子层、沟壑层组、缓冲折射层及外包层，其中，沟壑层组包括内沟壑层及外沟壑层，所述内沟壑层包覆于所述芯子层的外周，所述内沟壑层与所述外沟壑层之间沉积有缓冲折射层，所述外包层位于最外侧；
S2：如5C所示，将经多次沉积后的石英管熔融塌缩，制成实芯的预制棒；在该步骤中，芯子层经过熔融塌缩后形成纤芯。
S3：沿所述预制棒的长度方向在所述预制棒上等间隔的开槽以打断所述外沟壑层，形成三个单沟壑体及相邻所述单沟壑体之间的泄漏通道；如5D所示，因为考虑到只对外沟壑层进行打孔以打断外沟壑层，技术难度较大，所以发明人在本实施例中从外包层至纤芯方向进行开槽，但是，开槽只需打断外沟壑层即可；而且，可以根据需要来决定开槽数量，从而就可以决定单沟壑体的数量。
S4：如5E所示，在所述泄漏通道中填充满有通道折射体，所述通道折射体的折射率等于所述外包层的通道折射体；
S5：通过光纤拉丝工艺将填充满所述通道折射体的预制棒拉制成光纤。
此外，在S1中，所述外沟壑层的数目设为一层，当然，所述外沟壑层的数目也可设为至少两层，相邻所述外沟壑层之间沉积有所述缓冲折射层。
而且，所述沿所述预制棒的长度方向在所述预制棒上等间隔的开槽以打断所述外沟壑层，形成三个单沟壑体，包括利用激光钻孔、超声波钻孔或机械钻孔在所述预制棒上开槽以打断所述外沟壑层，形成三个单沟壑体。
首先，通过本发明第二实施例提供的方法可以制造成上述的泄漏通道光纤，只需在制成的多层光纤预制棒上进行开槽即可，步骤十分的简单。此外，通过本发明第二实施例提供的方法所制造出的泄漏通道型光纤，其利用泄漏通道改善高阶模式抑制能力，该光纤在弯曲时，模场面积突破原有设计的限制，弯曲半径为20cm，传输光的波长为1.05μm，纤芯直径为50μm时，模场面积为920μm2，并且具有很好的高阶模式抑制能力，利用3个泄漏通道，可实现弯曲方向在±10°范围内具有很好的高阶模式抑制能力。具体的，本发明第二实施例提供一种泄漏通道型光纤实现了单模运行、模场面积扩展、弯曲抵抗等特性。在较大的结构参数、弯曲角度和弯曲半径等参数范围内，实现了高阶模式损耗与基模损耗比大于50。而且，一方面，本发明第二实施例提供一种泄漏通道型光纤以类似于MTF实现抑制高阶模式的原理，利用低折射率的沟壑层组之间形成的谐振效应，或者理解为利用纤芯中的高阶模式和与其折射率相匹配的包层泄漏模式的耦合，使得纤芯中的高阶模式具有较大的传输损耗，实现了对纤芯中高阶模式的抑制；另一方面，本发明第二实施例提供一种泄漏通道型光纤的结构利用泄漏通道对高阶模式的泄漏效果要大于对基模的泄漏，使得纤芯中的高阶模式具有较大的传输损耗，实现了对纤芯中高阶模式的抑制。
以上仅是本发明的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种泄漏通道型光纤，包括纤芯、包覆在所述纤芯的外周的沟壑层组及包覆在所述沟壑层组的外周的外包层，其特征在于，
所述沟壑层组包括内沟壑层及外沟壑层，所述内沟壑层与所述外沟壑层之间夹持有缓冲折射层；所述外沟壑层包括绕所述纤芯的周向均匀分布的三个单沟壑体，相邻所述单沟壑体之间存在泄漏通道，所述泄漏通道填充满有通道折射体；
所述外包层的折射率、所述缓冲折射层的折射率、所述纤芯的折射率及所述通道折射体的折射率均大于所述沟壑层组的折射率。
2.根据权利要求1所述的泄漏通道型光纤，其特征在于，所述外沟壑层的数量不小于两层，相邻所述外沟壑层之间夹持有所述缓冲折射层。
3.根据权利要求1所述的泄漏通道型光纤，其特征在于，所述外包层的折射率与所述沟壑层组的折射率差值大于0.001。
4.根据权利要求1所述的泄漏通道型光纤，其特征在于，所述缓冲折射层的折射率与所述外包层的折射率差值的变化范围的绝对值小于0.001。
5.根据权利要求1所述的泄漏通道型光纤，其特征在于，所述纤芯的折射率与外包层的折射率差值的变化范围的绝对值小于0.0005。
6.根据权利要求1所述的泄漏通道型光纤，其特征在于，所述通道折射体的折射率与外包层的折射率相同。
7.根据权利要求1所述的泄漏通道型光纤，其特征在于，所述通道折射体选用与所述外包层相同的材料制成。
8.一种泄漏通道型光纤的生产方法，其特征在于，
制取预制棒，所述预制棒包括芯子层、沟壑层组、缓冲折射层及外包层，其中，沟壑层组包括内沟壑层及外沟壑层，所述内沟壑层包覆于所述芯子层的外周，所述内沟壑层与所述外沟壑层之间夹持有缓冲折射层，所述外包层位于最外侧；
沿所述预制棒的长度方向在所述预制棒上等间隔的开槽以打断所述外沟壑层，形成至少两个单沟壑体及相邻所述单沟壑体之间的泄漏通道；
在所述泄漏通道中填充满有通道折射体，所述通道折射率的折射率等于所述外包层的通道折射率；
通过光纤拉丝工艺将填充满所述通道折射体的预制棒拉制成光纤。
9.根据权利要求8所述的泄漏通道型光纤的生产方法，其特征在于，所述外沟壑层的数目设为至少两层，相邻所述外沟壑层之间夹持有所述缓冲折射层。
10.根据权利要求8所述的泄漏通道型光纤的生产方法，其特征在于，所述沿所述预制棒的长度方向在所述预制棒上等间隔的开槽以打断所述外沟壑层，形成至少两个单沟壑体，包括，
利用激光钻孔、超声波钻孔或机械钻孔在所述预制棒上开槽以打断所述外沟壑层，形成三个单沟壑体。
CN201710428172.2A 2017-06-08 2017-06-08 一种泄漏通道型光纤及其生产方法 Pending CN107132613A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710428172.2A CN107132613A (zh) 2017-06-08 2017-06-08 一种泄漏通道型光纤及其生产方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710428172.2A CN107132613A (zh) 2017-06-08 2017-06-08 一种泄漏通道型光纤及其生产方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107132613A true CN107132613A (zh) 2017-09-05

Family

ID=59733785

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710428172.2A Pending CN107132613A (zh) 2017-06-08 2017-06-08 一种泄漏通道型光纤及其生产方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107132613A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107505673A (zh) * 2017-09-20 2017-12-22 北京交通大学 一种大模场多层瓣状光纤
CN110780378A (zh) * 2019-11-13 2020-02-11 北京交通大学 一种泄漏高阶模的多层折射率沟壑梯度光纤

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030136154A1 (en) * 2002-01-09 2003-07-24 Katsusuke Tajima Method for manufacturing optical fiber using ultrasonic drill
US20060193583A1 (en) * 2004-12-30 2006-08-31 Liang Dong Photonic bandgap fibers
JP2007272070A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Hamamatsu Photonics Kk 漏洩光ファイバ及び漏洩光ファイバ製造方法
JP2012103513A (ja) * 2010-11-10 2012-05-31 Fujikura Ltd 光ファイバ、及び、これを用いたレーザ装置
US20130034322A1 (en) * 2010-11-04 2013-02-07 J-Plasma Gmbh Optical waveguide and semifinished product for the production of an optical waveguide having optimized diffraction properties
US20140241686A1 (en) * 2013-02-28 2014-08-28 Fujikura, Ltd. Optical fiber and method of manufacturing the same
CN105527675A (zh) * 2014-10-21 2016-04-27 Ofs菲特尔有限责任公司 低损耗光纤及其制造方法
CN207067444U (zh) * 2017-06-08 2018-03-02 中国电子科技集团公司电子科学研究院 一种泄漏通道型光纤

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030136154A1 (en) * 2002-01-09 2003-07-24 Katsusuke Tajima Method for manufacturing optical fiber using ultrasonic drill
US20060193583A1 (en) * 2004-12-30 2006-08-31 Liang Dong Photonic bandgap fibers
JP2007272070A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Hamamatsu Photonics Kk 漏洩光ファイバ及び漏洩光ファイバ製造方法
US20130034322A1 (en) * 2010-11-04 2013-02-07 J-Plasma Gmbh Optical waveguide and semifinished product for the production of an optical waveguide having optimized diffraction properties
JP2012103513A (ja) * 2010-11-10 2012-05-31 Fujikura Ltd 光ファイバ、及び、これを用いたレーザ装置
US20140241686A1 (en) * 2013-02-28 2014-08-28 Fujikura, Ltd. Optical fiber and method of manufacturing the same
CN105527675A (zh) * 2014-10-21 2016-04-27 Ofs菲特尔有限责任公司 低损耗光纤及其制造方法
CN207067444U (zh) * 2017-06-08 2018-03-02 中国电子科技集团公司电子科学研究院 一种泄漏通道型光纤

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107505673A (zh) * 2017-09-20 2017-12-22 北京交通大学 一种大模场多层瓣状光纤
CN110780378A (zh) * 2019-11-13 2020-02-11 北京交通大学 一种泄漏高阶模的多层折射率沟壑梯度光纤

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101374259B1 (ko) 다중-파장의 다중 모드 광섬유
CN101891380B (zh) 一种大尺寸光纤预制棒及其光纤的制造方法
RU2489741C2 (ru) Многосердцевинный волоконный световод (варианты)
CN105060701B (zh) 一种大尺寸弯曲不敏感多模光纤预制棒的制备方法
CN108919417A (zh) 一种基于隔离反谐振层的空芯光子带隙光纤
CN102757179A (zh) 一种大规格光纤预制棒的制备方法
CN113277724B (zh) 用于制作支撑型空芯反谐振光纤的方法
CN109212662B (zh) 一种多谐振层空心光纤
CN110954988A (zh) 一种激光传输光纤及其制作方法
CN107132612A (zh) 一种矩形芯子光纤
CN212134989U (zh) 一种激光传输光纤
CN106094104B (zh) 一种弯曲不敏感多模光纤及其制造方法
CN107132613A (zh) 一种泄漏通道型光纤及其生产方法
CN102998741A (zh) 一种用于增益应用的有源光纤结构及其实现方法
CN103645536A (zh) 一种全固态大模场光子带隙光纤
CN103760634B (zh) 一种单模光纤
CN205333906U (zh) 一种少模光纤
CN109752791A (zh) 一种微流通道与光波通道混合集成的双芯光纤及制备方法
CN207067444U (zh) 一种泄漏通道型光纤
CN110954987A (zh) 一种椭圆芯领结型单偏振结构光纤及其制作方法
CN103439763A (zh) 一种大模场面积全固体光纤及其制造方法
CN109752794A (zh) 一种光波导围裹微流通道的混合集成双芯光纤及制备方法
JP2024012204A (ja) 空芯微細構造光ファイバプリフォーム、光ファイバ及びその製造方法
CN102023334B (zh) 一种大模场光纤
CN101694536B (zh) 一种光子晶体光纤耦合器的制作方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination