CN107036529A - 偏振同步相移干涉仪 - Google Patents

偏振同步相移干涉仪 Download PDF

Info

Publication number
CN107036529A
CN107036529A CN201710312393.3A CN201710312393A CN107036529A CN 107036529 A CN107036529 A CN 107036529A CN 201710312393 A CN201710312393 A CN 201710312393A CN 107036529 A CN107036529 A CN 107036529A
Authority
CN
China
Prior art keywords
array
analyzer
light
interferometer
photodetector
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201710312393.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107036529B (zh
Inventor
唐锋
王向朝
冯鹏
郭福东
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS
Original Assignee
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS filed Critical Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS
Priority to CN201710312393.3A priority Critical patent/CN107036529B/zh
Publication of CN107036529A publication Critical patent/CN107036529A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107036529B publication Critical patent/CN107036529B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02001Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
    • G01B9/02011Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties using temporal polarization variation

Abstract

一种偏振同步相移干涉仪,包括偏振干涉仪和同步相移模块;同步相移模块包括非偏振分束器,第一检偏器阵列,第二检偏器阵列或检偏器,第一光电探测器阵列和第二光电探测器阵列。本发明采用2个光电探测器阵列实现3个以上相移量干涉图的同步探测,具有光电探测器阵列坐标关系标定难度低,光路简单,检偏器阵列复杂性降低,检测空间分辨率高的优点。

Description

偏振同步相移干涉仪
技术领域
本发明涉及干涉测量领域,特别是一种偏振同步相移干涉仪。
背景技术
相移干涉测量技术是目前实现高精度干涉测量的一种主要技术途径。又可分为时域相移和空域同步相移两种。时域相移易受振动、环境变换等因素的影响,不易实现现场检测,因此,在光学车间现场及特殊环境,空域同步相移技术得到了广泛应用。
在线技术1(Chris L.Koliopoulos,"Simultaneous phase-shiftinterferometer",Proc.SPIE 1531,119-127(1991))提出了一种偏振同步相移干涉仪,参考光与测量光为正交线偏振光,采用4个光电探测器阵列配合1/4波片、偏振分束棱镜实现了同时采集4副干涉图,能够克服时域相移技术的缺点。在线技术2(Andrea Hettwer,Jochen Kranz,Johannes Schwider,“Three channel phase-shifting interferometerusing polarization-optics and a diffraction grating”,Opt.Eng.39(4),960-966(Apr 01,2000).)采用光栅将光束分为3束,采用3个探测器阵列配合1/4波片、不同方向的检偏器实现同步相移。在先技术3(Piotr Szwaykowski,Raymond J.Castonguay,FrederickN.Bushroe,Simultaneous phase shifting module for use in interferometry,USpatent,US7483145B2(2003年公开))采用分光棱镜将光束分为3束,配合1/4波片、不同方向的检偏器实现同步相移。在先技术4(Piotr Szwaykowski,White light scanninginterferometer with simultaneous phase-shifting module,US patent,US8269980B1)将该同步移相模块用于白光扫描微形貌干涉仪。上述在先技术均需采用至少3个光电探测器阵列,多个光电探测器阵列的像素坐标需要对齐,光路及对准过程复杂,需要较为复杂的分光器件,其优点是测量空间分辨率高。
与上述采用多光电探测器阵列的技术方案不同,在先技术5(BradleyT.Kimbrough,Pixelated mask spatial carrier phase shifting interferometryalgorithms and associated errors,APPLIED OPTICS,45(19),4554-4562(2006))在光电探测器阵列前放置了检偏器阵列,检偏器阵列包含了与光电探测器阵列像素数量相同的微检偏器,每个像素与一个微检偏器对齐,检偏器阵列共有四个检偏方向,与1/4波片配合,实现同步移相。在先技术5中采用检偏器阵列的同步相移技术可以用于泰曼干涉仪、Fizeau干涉仪、及干涉显微镜,见在先技术6(Neal J.Brock,James E Millerd,James C Wyant,JohnB Hayes,Pixelated phase-mask interferometer,US patent,US 2005/0046865A1)。在先技术7(James E Millerd,Linear-carrier phase-mask interferometer,US patent,US2010/0309476A1)对在先技术5~6技术进行了变形,检偏器阵列的方向并不在每个像素及其相邻像素发生改变,而是沿一条直线为同一方向,在先技术7的光电探测器阵列也需要集成4种不同方向的检偏器。在先技术5~7与上述在先技术1~4相比,仅需要1个光电探测器阵列,不存在多个光电探测器阵列的像素对准问题,但是在进行相位计算时需要采用4~9个像素,测量空间分辨率受到一定制约;并且,在光电探测器阵列上集成4种不同方向的检偏器,集成工艺较为复杂。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的不足,提供一种偏振同步相移干涉仪,该干涉仪采用2个光电探测器阵列,每个光电探测器阵列可以仅集成2种方向的检偏器阵列器件,具有测量空间分辨率高,集成与对准工艺简单的优点。
本发明的技术解决方案如下:
一种偏振同步相移干涉仪,包括偏振干涉仪和同步相移模块,所述的偏振干涉仪中包含被测件(1-1);其特点在于,所述的偏振干涉仪出射偏振方向相互正交的参考光和测量光,所述的参考光和测量光的偏振态是线偏振光或圆偏振光;所述的偏振干涉仪出射的参考光和测量光进入同步相移模块;所述的同步相移模块包括非偏振分束器,第一检偏器阵列,第二检偏器阵列或检偏器,以及第一光电探测器阵列和第二光电探测器阵列;当所述的偏振干涉仪出射线偏振光时,所述的同步相移模块还包括至少一个1/4波片,所述的1/4波片的快轴方向与入射至1/4波片的线偏振光偏振方向的夹角为45度;
所述的第一检偏器阵列和第二检偏器阵列分别由2种或2种以上不同检偏方向的多个微检偏器组成,每个微检偏器与所述的第一光电探测器阵列或第二光电探测器阵列的一个像素或一列像素对齐,每个微检偏器透过光由第一光电探测器阵列或第二光电探测器阵列的一个像素或一列像素完全接收;
所述的同步相移模块中第一检偏器阵列和第二检偏器阵列中微检偏器的检偏方向的排布,或第一检偏器阵列中微检偏器和检偏器的检偏方向的排布,满足条件:第一光电探测器阵列和第二光电探测器阵列探测偏振干涉仪出射光束同一位置的像素位置,及其相邻像素位置,共有3种或3种以上不同的检偏方向;
所述的第一检偏器阵列,或第二检偏器阵列,或检偏器的入射光为线偏振光时,其检偏方向与其入射线偏振光的偏振方向不同;
所述的同步相移模块各组成部分的位置与连接关系是:所述的偏振干涉仪出射的参考光和测量光进入非偏振分束器,该非偏振分束器将入射光分为第一探测光路和第二探测光路;在第一探测光路,光通过第一检偏器阵列后,由第一光电探测器阵列接收;在第二探测光路,光通过第二检偏器阵列或检偏器后,由第二光电探测器阵列接收;
当所述的偏振干涉仪出射线偏振光时,沿光束传播方向,所述的1/4波片位于非偏振分束器之前,或位于非偏振分束器之后且第一检偏器阵列、第二检偏器阵列或检偏器之前。
所述的第一检偏器阵列或第二检偏器阵列内部在横向和纵向相邻的微检偏器的检偏方向不同。
所述的偏振干涉仪是泰曼干涉仪、Fizeau干涉仪、干涉显微镜、微分干涉相衬显微镜。
所述的第一光电探测器阵列和第二光电探测器阵列是面阵或线阵器件,或双列或多列线阵器件。
所述的第一光电探测器阵列和第二光电探测器阵列是CCD、CMOS、光电二极管阵列。
利用上述的偏振同步相移干涉仪测量干涉相位的方法,其特征在于该方法包括下列步骤:
1)标定第一光电探测器阵列和第二光电探测器阵列相对偏振干涉仪输出光束的坐标关系,使得第一光电探测器阵列和第二光电探测器阵列每个像素的坐标与偏振干涉仪输出光束坐标相对应;
2)第一光电探测器阵列和第二光电探测器阵列同时采集一副干涉图,对于偏振干涉仪输出光束的每个坐标位置,由第一光电探测器阵列对应像素及相邻像素,第二光电探测器阵列对应像素及相邻像素,按照偏振相移相位计算方法,求解干涉相位。
本发明的原理是,在偏振相移干涉仪中,对同一测量位置必须有3个或3个以上的不同相移量的干涉信号,才能实现干涉相位的准确计算;在先技术1~4采用3个及以上光电探测器阵列,每个光电探测器阵列前有不同检偏方向的检偏器,实现3副及以上偏振相移干涉图的同步探测,从而实现干涉相位计算,具有空间分辨率高的优点,但多个探测器像素坐标关系标定难度较高;在先技术5~7采用1个光电探测器阵列,在光电探测器阵列每个像素前放置不同方向的微检偏器,微检偏器共有4种检偏方向,从而实现具有4个偏振相移量的干涉图的同步探测,但在一定程度上影响了检测空间分辨率,并且检偏器阵列的加工集成难度大;本发明综合上述在先技术的特点,采用2个光电探测器阵列,其中第一光电探测器阵列前放置具有2种或2种以上检偏方向的检偏器阵列,第二光电探测器阵列前放置另一种检偏方向的检偏器或具有不同检偏方向排布的检偏器阵列,从而采用2个光电探测器阵列实现3个及以上相移量干涉图的同步探测,实现干涉相位计算。
本发明与在先技术1~4相比,仅采用2个光电探测器阵列,降低了光电探测器阵列坐标关系标定的难度,并且在光路中不用使用特殊的分光元件,降低了系统复杂性;与在先技术5~7相比,检偏器阵列仅需要2种检偏方向的微检偏器即可完成检测功能,降低了工艺复杂性和成本,并且提高了检测空间分辨率。
附图说明
图1为本发明偏振同步相移干涉仪的总体结构示意图;
图2是本发明偏振干涉仪出射线偏振光时同步相移模块几个实施例的结构示意图;
图3是本发明偏振干涉仪出射圆偏振光时同步相移模块几个实施例的结构示意图;
图4是本发明第一检偏器阵列和第二检偏器阵列一组实施例的结构示意图;
图5是本发明第一检偏器阵列和第二检偏器阵列一组实施例的结构示意图;
图6是本发明第一检偏器阵列和第二检偏器阵列一组实施例的结构示意图;
图7是本发明第一检偏器阵列和检偏器一组实施例的结构示意图;
图8是本发明第一检偏器阵列和第二检偏器阵列一组实施例的结构示意图;
具体实施方式
下面结合附图与实施例对本发明做进一步说明,但不以此实施例限制本发明的保护范围。
图1为本发明偏振同步相移干涉仪的总体结构示意图,本发明的偏振同步相移干涉仪包括偏振干涉仪1和同步相移模块2;所述的偏振干涉仪中包含被测件1-1;其特征在于,所述的偏振干涉仪1出射偏振方向相互正交的参考光和测量光,所述的参考光和测量光的偏振态是线偏振光或圆偏振光;所述的偏振干涉仪1出射的参考光和测量光进入同步相移模块2;所述的同步相移模块2包括非偏振分束器2-1,第一检偏器阵列2-3a,第二检偏器阵列2-3b或检偏器2-4,以及第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b;当所述的偏振干涉仪1出射线偏振光时,所述的同步相移模块2还包括至少一个1/4波片2-2,所述的1/4波片2-2的快轴方向与入射至1/4波片2-2的线偏振光偏振方向的夹角为45度;
所述的第一检偏器阵列2-3a和第二检偏器阵列2-3b分别由2种或2种以上不同检偏方向的多个微检偏器组成,每个微检偏器与所述的第一光电探测器阵列2-5a或第二光电探测器阵列2-5b的一个像素或一列像素对齐,每个微检偏器透过光由第一光电探测器阵列2-5a或第二光电探测器阵列2-5b的一个像素或一列像素完全接收;
所述的同步相移模块2中第一检偏器阵列2-3a和第二检偏器阵列2-3b中微检偏器的检偏方向的排布,或第一检偏器阵列2-3a中微检偏器和检偏器2-4的检偏方向的排布,满足条件:第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b探测偏振干涉仪1出射光束同一位置的像素,及其相邻像素,共有3种或3种以上不同的检偏方向;
所述的第一检偏器阵列2-3a,或第二检偏器阵列2-3b或检偏器2-4的入射光为线偏振光时,其检偏方向与其入射线偏振光的偏振方向不同;
所述的同步相移模块2各组成部分的位置与连接关系是:所述的偏振干涉仪1出射的参考光和测量光进入非偏振分束器2-1,分为第一探测光路和第二探测光路;在第一探测光路,光通过第一检偏器阵列2-3a后,由第一光电探测器阵列2-5a接收;在第二探测光路,光通过第二检偏器阵列2-3b或检偏器2-4后,由第二光电探测器阵列2-5b接收;当所述的偏振干涉仪1出射线偏振光时,沿光束传播方向,所述的1/4波片2-2位于非偏振分束器2-1之前,或位于非偏振分束器2-1之后,第一检偏器阵列2-3a、第二检偏器阵列2-3b或检偏器2-4之前;所述的1/4波片2-2位于非偏振分束器2-1之后时,1/4波片2-2位于第一探测光路,或位于第二探测光路,或第一探测光路和第二探测光路各有一个1/4波片;
图2是本发明偏振干涉仪1出射线偏振光时同步相移模块2几个实施例的结构示意图;
图2(a)同步相移模块2实施例包括非偏振分束器2-1,1/4波片2-2,第一检偏器阵列2-3a,检偏器2-4,第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b;连接关系是:所述的偏振干涉仪1出射的参考光和测量光是线偏振光,光线进入非偏振分束器2-1,分为第一探测光路和第二探测光路;在第一探测光路,光依次通过1/4波片2-2,第一检偏器阵列2-3a后,由第一光电探测器阵列2-5a接收;在第二探测光路,光通过检偏器2-4后,由第二光电探测器阵列2-5b接收;所述的检偏器2-4的检偏方向与入射至检偏器2-4的线偏振光的偏振方向不同;
图2(b)同步相移模块2实施例包括非偏振分束器2-1,第一检偏器阵列2-3a,1/4波片2-2,检偏器2-4,第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b;连接关系是:所述的偏振干涉仪1出射的参考光和测量光是线偏振光,光线进入非偏振分束器2-1,分为第一探测光路和第二探测光路;在第一探测光路,光通过第一检偏器阵列2-3a后,由第一光电探测器阵列2-5a接收;在第二探测光路,光依次通过1/4波片2-2,检偏器2-4后,由第二光电探测器阵列2-5b接收;所述的第一检偏器阵列2-3a的所有微检偏器的检偏方向与入射至第一检偏器阵列2-3a的线偏振光的偏振方向不同;
图2(c)同步相移模块2实施例包括1/4波片2-2,非偏振分束器2-1,第一检偏器阵列2-3a,检偏器2-4,第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b;连接关系是:所述的偏振干涉仪1出射的参考光和测量光是线偏振光,光依次通过1/4波片2-2,非偏振分束器2-1,分为第一探测光路和第二探测光路;在第一探测光路,光通过第一检偏器阵列2-3a后,由第一光电探测器阵列2-5a接收;在第二探测光路,光通过检偏器2-4后,由第二光电探测器阵列2-5b接收;
图2(d)同步相移模块2实施例包括1/4波片2-2,非偏振分束器2-1,第一检偏器阵列2-3a,第二检偏器阵列2-3b,第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b;连接关系是:所述的偏振干涉仪1出射的参考光和测量光是线偏振光,光依次通过1/4波片2-2,非偏振分束器2-1,分为第一探测光路和第二探测光路;在第一探测光路,光通过第一检偏器阵列2-3a后,由第一光电探测器阵列2-5a接收;在第二探测光路,光通过第二检偏器阵列2-3b后,由第二光电探测器阵列2-5b接收;
图2(e)同步相移模块2实施例包括非偏振分束器2-1,第一检偏器阵列2-3a,检偏器2-4,第一1/4波片2-2-1和第二1/4波片2-2-2,第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b;连接关系是:所述的偏振干涉仪1出射的参考光和测量光是线偏振光,光线进入非偏振分束器2-1,分为第一探测光路和第二探测光路;在第一探测光路,光依次通过第一1/4波片2-2-1,第一检偏器阵列2-3a后,由第一光电探测器阵列2-5a接收;在第二探测光路,光依次通过第二1/4波片2-2-2,检偏器2-4后,由第二光电探测器阵列2-5b接收;所述的第一1/4波片2-2-1和第二1/4波片2-2-2的快轴方向与其入射的线偏振光偏振方向的夹角为45度;
图3是本发明偏振干涉仪1出射圆偏振光时同步相移模块2几个实施例的结构示意图;
图3(a)同步相移模块2实施例包括非偏振分束器2-1,第一检偏器阵列2-3a,检偏器2-4,第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b;连接关系是:所述的偏振干涉仪1出射的参考光和测量光是圆偏振光,光通过非偏振分束器2-1后,分为第一探测光路和第二探测光路;在第一探测光路,光通过第一检偏器阵列2-3a后,由第一光电探测器阵列2-5a接收;在第二探测光路,光通过检偏器2-4后,由第二光电探测器阵列2-5b接收;
图3(b)同步相移模块2实施例包括非偏振分束器2-1,第一检偏器阵列2-3a,第二检偏器阵列2-3b,第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b;连接关系是:所述的偏振干涉仪1出射的参考光和测量光是圆偏振光,光通过非偏振分束器2-1后,分为第一探测光路和第二探测光路;在第一探测光路,光通过第一检偏器阵列2-3a后,由第一光电探测器阵列2-5a接收;在第二探测光路,光通过第二检偏器阵列2-3b后,由第二光电探测器阵列2-5b接收;
所述的第一检偏器阵列2-3a或第二检偏器阵列2-3b内部在横向和纵向相邻的微检偏器的检偏方向不同;
图4是本发明第一检偏器阵列和第二检偏器阵列一组实施例的结构示意图;图4中第一检偏器阵列2-3a和第二检偏器阵列2-3b分别由2种不同检偏方向的多个微检偏器组成,每个微检偏器与所述的第一光电探测器阵列2-5a或第二光电探测器阵列2-5b的一个像素对齐,每个微检偏器透过光由第一光电探测器阵列2-5a或第二光电探测器阵列2-5b的一个像素完全接收;所述的第一检偏器阵列2-3a与第二检偏器阵列2-3b内部在横向和纵向相邻的微检偏器的检偏方向不同,如第一检偏器阵列2-3a中微检偏器P1-001的检偏角度为90°,与其横向和纵向相邻的微检偏器为P1-002和P1-004,其检偏角度为0°;第一检偏器阵列2-3a和第二检偏器阵列2-3b中微检偏器的检偏方向的排布使得第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b探测偏振干涉仪1出射光束同一位置的像素位置,及其相邻像素位置,有4种不同的检偏方向:90°、0°、45°、135°;
图5是本发明第一检偏器阵列和第二检偏器阵列另一组实施例的结构示意图;图5中第一检偏器阵列2-3a和第二检偏器阵列2-3b分别由2种不同检偏方向的多个微检偏器组成,每个微检偏器与所述的第一光电探测器阵列2-5a或第二光电探测器阵列2-5b的一个像素对齐,每个微检偏器透过光由第一光电探测器阵列2-5a或第二光电探测器阵列2-5b的一个像素完全接收;所述的第一检偏器阵列2-3a与第二检偏器阵列2-3b内部在横向和纵向相邻的微检偏器的检偏方向不同,如第一检偏器阵列2-3a中微检偏器P1-001的检偏角度为90°,与其横向和纵向相邻的微检偏器为P1-002和P1-004,其检偏角度为45°;第一检偏器阵列2-3a和第二检偏器阵列2-3b中微检偏器的检偏方向的排布使得第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b探测偏振干涉仪1出射光束同一位置的像素位置,及其相邻像素位置,有4种不同的检偏方向:90°、0°、45°、135°;
图6是本发明第一检偏器阵列和第二检偏器阵列另一组实施例的结构示意图;图6中第一检偏器阵列2-3a和第二检偏器阵列2-3b分别由2种不同检偏方向的多个微检偏器组成,每个微检偏器与所述的第一光电探测器阵列2-5a或第二光电探测器阵列2-5b的一列像素对齐,每个微检偏器透过光由第一光电探测器阵列2-5a或第二光电探测器阵列2-5b的一列像素完全接收;所述的第一检偏器阵列2-3a与第二检偏器阵列2-3b内部仅在横向存在相邻的微检偏器,横向相邻的微检偏器的检偏方向不同,如第一检偏器阵列2-3a中微检偏器P1-002的检偏角度为0°,与其横向相邻的微检偏器为P1-001和P1-003,其检偏角度为90°;第一检偏器阵列2-3a和第二检偏器阵列2-3b中微检偏器的检偏方向的排布使得第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b探测偏振干涉仪1出射光束同一位置的像素位置,及其相邻像素位置,有4种不同的检偏方向:90°、0°、45°、135°;
图7是本发明第一检偏器阵列和检偏器一组实施例的结构示意图;图7中第一检偏器阵列2-3a由2种不同检偏方向的多个微检偏器组成,每个微检偏器与所述的第一光电探测器阵列2-5a的一个像素对齐,每个微检偏器透过光由第一光电探测器阵列2-5a的一个像素完全接收;所述的第一检偏器阵列2-3a内部在横向和纵向相邻的微检偏器的检偏方向不同,如第一检偏器阵列2-3a中微检偏器P1-001的检偏角度为90°,与其横向和纵向相邻的微检偏器为P1-002和P1-004,其检偏角度为45°;第一检偏器阵列2-3a中微检偏器和检偏器2-4的检偏方向的排布使得第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b探测偏振干涉仪1出射光束同一位置的像素位置,及其相邻像素位置,有3种不同的检偏方向:90°、0°、45°;
图8是本发明第一检偏器阵列和第二检偏器阵列另一组实施例的结构示意图;图8中第一检偏器阵列2-3a和第二检偏器阵列2-3b分别由4种不同检偏方向的多个微检偏器组成,每个微检偏器与所述的第一光电探测器阵列2-5a或第二光电探测器阵列2-5b的一列像素对齐,每个微检偏器透过光由第一光电探测器阵列2-5a或第二光电探测器阵列2-5b的一列像素完全接收;所述的第一检偏器阵列2-3a与第二检偏器阵列2-3b内部仅在横向存在相邻的微检偏器,横向相邻的微检偏器的检偏方向不同,如第一检偏器阵列2-3a中微检偏器P1-002的检偏角度为0°,与其横向相邻的微检偏器P1-001检偏角度为90°,微检偏器P1-003检偏角度为45°;第一检偏器阵列2-3a和第二检偏器阵列2-3b中微检偏器的检偏方向的排布使得第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b探测偏振干涉仪1出射光束同一位置的像素位置,及其相邻像素位置,有4种不同的检偏方向:90°、0°、45°、135°;
所述的偏振干涉仪1是泰曼干涉仪,所述的偏振干涉仪1包含的被测件1-1为平面光学元件,所述的偏振干涉仪1测量该平面光学元件的面形产生的干涉相位信息;详细参见在先技术6、在先技术7;
所述的第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b是面阵CCD;
利用图2(d)同步相移模块2实施例与图4第一检偏器阵列2-3a和第二检偏器阵列2-3b实施例的偏振同步相移干涉仪测量干涉相位的方法,其特征在于该方法包括下列步骤:
1)标定第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b相对偏振干涉仪1输出光束的坐标关系,使得第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b每个像素的坐标与偏振干涉仪输出光束坐标相对应;
2)第一光电探测器阵列2-5a和第二光电探测器阵列2-5b同时采集一副干涉图,对于偏振干涉仪1输出光束每个坐标位置,由第一光电探测器阵列2-5a对应像素及相邻像素,第二光电探测器阵列2-5b对应像素及相邻像素,按照在先技术5所述的偏振相移相位计算方法,求解干涉相位;不同的干涉相移相位提取算法,也可见在先技术8(Daniel Malacara,Optical Shop Testing,3rd Edition,ISBN:978-0-471-48404-2);
本实施例采用两个光电探测器阵列实现同步相移,实现了抗振面形测量,具有光电探测器阵列坐标关系标定难度较低,系统复杂性低,并具有检测空间分辨率高的优点。

Claims (5)

1.一种偏振同步相移干涉仪,包括偏振干涉仪(1)和同步相移模块(2),所述的偏振干涉仪中包含被测件(1-1);其特征在于,所述的偏振干涉仪(1)出射偏振方向相互正交的参考光和测量光,所述的参考光和测量光的偏振态是线偏振光或圆偏振光;所述的偏振干涉仪(1)出射的参考光和测量光进入同步相移模块(2);所述的同步相移模块(2)包括非偏振分束器(2-1),第一检偏器阵列(2-3a),第二检偏器阵列(2-3b)或检偏器(2-4),以及第一光电探测器阵列(2-5a)和第二光电探测器阵列(2-5b);当所述的偏振干涉仪(1)出射线偏振光时,所述的同步相移模块(2)还包括至少一个1/4波片(2-2),所述的1/4波片(2-2)的快轴方向与入射至1/4波片(2-2)的线偏振光偏振方向的夹角为45度;
所述的第一检偏器阵列(2-3a)和第二检偏器阵列(2-3b)分别由2种或2种以上不同检偏方向的多个微检偏器组成,每个微检偏器与所述的第一光电探测器阵列(2-5a)或第二光电探测器阵列(2-5b)的一个像素或一列像素对齐,每个微检偏器透过光由第一光电探测器阵列(2-5a)或第二光电探测器阵列(2-5b)的一个像素或一列像素完全接收;
所述的同步相移模块(2)中第一检偏器阵列(2-3a)和第二检偏器阵列(2-3b)中微检偏器的检偏方向的排布,或第一检偏器阵列(2-3a)中微检偏器和检偏器(2-4)的检偏方向的排布,满足条件:第一光电探测器阵列(2-5a)和第二光电探测器阵列(2-5b)探测偏振干涉仪(1)出射光束同一位置的像素位置,及其相邻像素位置,共有3种或3种以上不同的检偏方向;
所述的第一检偏器阵列(2-3a),或第二检偏器阵列(2-3b),或检偏器(2-4)的入射光为线偏振光时,其检偏方向与其入射线偏振光的偏振方向不同;
所述的同步相移模块(2)各组成部分的位置与连接关系是:所述的偏振干涉仪(1)出射的参考光和测量光进入非偏振分束器(2-1),该非偏振分束器(2-1)将入射光分为第一探测光路和第二探测光路;在第一探测光路,光通过第一检偏器阵列(2-3a)后,由第一光电探测器阵列(2-5a)接收;在第二探测光路,光通过第二检偏器阵列(2-3b)或检偏器(2-4)后,由第二光电探测器阵列(2-5b)接收;
当所述的偏振干涉仪(1)出射线偏振光时,沿光束传播方向,所述的1/4波片(2-2)位于非偏振分束器(2-1)之前,或位于非偏振分束器(2-1)之后且第一检偏器阵列(2-3a)、第二检偏器阵列(2-3b)或检偏器(2-4)之前。
2.根据权利要求1所述的偏振同步相移干涉仪,其特征在于所述的第一检偏器阵列(2-3a)或第二检偏器阵列(2-3b)内部在横向和纵向相邻的微检偏器的检偏方向不同。
3.根据权利要求1所述的偏振同步相移干涉仪,其特征在于所述的偏振干涉仪(1)是泰曼干涉仪、Fizeau干涉仪、干涉显微镜、微分干涉相衬显微镜。
4.根据权利要求1所述的偏振同步相移干涉仪,其特征在于所述的第一光电探测器阵列(2-5a)和第二光电探测器阵列(2-5b)是面阵或线阵器件,或双列或多列线阵器件。
5.根据权利要求1至4任一项所述的偏振同步相移干涉仪,其特征在于所述的第一光电探测器阵列(2-5a)和第二光电探测器阵列(2-5b)是CCD、CMOS、光电二极管阵列。
CN201710312393.3A 2017-05-05 2017-05-05 偏振同步相移干涉仪 Active CN107036529B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710312393.3A CN107036529B (zh) 2017-05-05 2017-05-05 偏振同步相移干涉仪

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710312393.3A CN107036529B (zh) 2017-05-05 2017-05-05 偏振同步相移干涉仪

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107036529A true CN107036529A (zh) 2017-08-11
CN107036529B CN107036529B (zh) 2019-05-17

Family

ID=59536881

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710312393.3A Active CN107036529B (zh) 2017-05-05 2017-05-05 偏振同步相移干涉仪

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107036529B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110030921A (zh) * 2019-05-14 2019-07-19 北方工业大学 剪切量可调的透射式双频激光微分干涉测量装置及方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000329535A (ja) * 1999-05-18 2000-11-30 Mitsutoyo Corp 位相シフト干渉縞の同時計測装置
CN101788263A (zh) * 2010-03-09 2010-07-28 北京理工大学 可调扩展光源照明的同轴斐索型同步移相干涉仪
CN102589414A (zh) * 2012-02-21 2012-07-18 中国科学院西安光学精密机械研究所 可实时测量的同步相移斐索干涉装置
CN103344569A (zh) * 2013-06-21 2013-10-09 中国科学院上海光学精密机械研究所 偏振复频域光学相干层析成像方法和系统
CN104251668A (zh) * 2014-10-15 2014-12-31 哈尔滨工业大学 基于同步移相干涉的动压马达气膜间隙测量装置及方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000329535A (ja) * 1999-05-18 2000-11-30 Mitsutoyo Corp 位相シフト干渉縞の同時計測装置
CN101788263A (zh) * 2010-03-09 2010-07-28 北京理工大学 可调扩展光源照明的同轴斐索型同步移相干涉仪
CN102589414A (zh) * 2012-02-21 2012-07-18 中国科学院西安光学精密机械研究所 可实时测量的同步相移斐索干涉装置
CN103344569A (zh) * 2013-06-21 2013-10-09 中国科学院上海光学精密机械研究所 偏振复频域光学相干层析成像方法和系统
CN104251668A (zh) * 2014-10-15 2014-12-31 哈尔滨工业大学 基于同步移相干涉的动压马达气膜间隙测量装置及方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
刘晓军等: "同步相移干涉表面精密测量", 《中国机械工程》 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110030921A (zh) * 2019-05-14 2019-07-19 北方工业大学 剪切量可调的透射式双频激光微分干涉测量装置及方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN107036529B (zh) 2019-05-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101236067B (zh) 用多波长来测量表面形状测量方法和使用此方法的装置
Yu et al. Single-camera stereo-digital image correlation with a four-mirror adapter: optimized design and validation
US9880377B1 (en) Multiple wavelengths real time phase shift interference microscopy
Felipe-Sese et al. Simultaneous in-and-out-of-plane displacement measurements using fringe projection and digital image correlation
Dai et al. A dual-frequency fringe projection three-dimensional shape measurement system using a DLP 3D projector
CN103292740B (zh) 一种三维扫描仪测量方法及其装置
CN102944169A (zh) 一种同步偏振相移干涉仪
CN102507020B (zh) 使用微透镜阵列的同步移相干涉测试方法及装置
US7561279B2 (en) Scanning simultaneous phase-shifting interferometer
EP3118571B1 (en) Instantaneous phase-shift interferometer and measurement method
CN102057269A (zh) 用低相干扫描干涉测量法的扫描误差校正
Li et al. Fringe projection based quantitative 3D microscopy
CA2928709A1 (en) Spatial phase-shift shearography system for non-destructive testing and strain measurement
CN110017794B (zh) 一种动态相位变形干涉测量装置及方法
CN111537203A (zh) 一种利用相位测量偏折术的光学透镜波前测量方法
US8269980B1 (en) White light scanning interferometer with simultaneous phase-shifting module
Nguyen et al. Real-time 3D measurement of freeform surfaces by dynamic deflectometry based on diagonal spatial carrier-frequency pattern projection
Zhu et al. Dynamic Fizeau interferometer based on the lateral displacements of the point sources
CN107144351B (zh) 一种基于马赫泽德干涉仪的宽波段全偏振成像方法
Hou et al. Camera lens distortion evaluation and correction technique based on a colour CCD moiré method
Xu et al. Simultaneously measuring 3D shape and colour texture of moving objects using IR and colour fringe projection techniques
CN107036529B (zh) 偏振同步相移干涉仪
CN107421641B (zh) 一种基于马赫泽德干涉仪的宽波段全偏振成像装置
CN107631687B (zh) 点源异位扩束同步移相斐索干涉仪及其测量方法
CN104848803B (zh) 一种检测物体表面轮廓的方法和系统

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant