CN106959674B - 一种半导体工艺配方的管理系统和方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种半导体工艺配方的管理系统和方法，其包括配方编辑管理模块、配方数据管理模块、配方传输管理模块和配方控制管理模块，其中，配方编辑管理模块采用对配方参数图形对象化的编辑方式生成工艺配方，实现了配方参数的编辑可视化、直接明了，便于编辑；配方控制管理模块生成工艺队列，并对工艺队列进行管理，实现了以PLC执行配方文件的控制方式，实现了实时动态修改工艺队列的参数，解决了上位机实时跟踪扫描PLC数据信息的笨重方式，大大提升数据传输效率和实时性，减少依赖PLC驱动读写的方式获取工艺数据。

Description

一种半导体工艺配方的管理系统和方法

技术领域

本发明涉及半导体生产自动化控制技术领域，更具体地，涉及一种半导体工艺配方的管理系统和方法。

背景技术

在半导体制造领域中，半导体工艺配方(Recipe)是记录半导体生产工艺的文件，可以包括多个生产步骤，每个生产步骤中的各种工艺参数值，以及每个生产步骤的持续时间等。半导体设备依据工艺配方的内容，执行各个工艺，完成对晶圆的加工，因此，对工艺配方的管理变得至关重要，决定着生产质量和生产效率。

目前，常见的半导体设备对工艺配方(Recipe)的控制往往是在上位机上进行的，且只能对工艺中的位置点进行监控和操作，以立式氧化炉设备为例，通常需要控制的工艺参数包括温度、气体压强、气体流速等，则上位机通过与立式炉的需要测量点分别进行连接，且对每个点分别进行工艺配方的控制，工艺配方只能在本地菜单文件中编辑、执行及管理，该控制方法执行过程繁琐，管理效率低下，配方编辑不直观，执行过程不能动态管理，文件无法脱离管理系统。

为了解决上述对工艺配方的繁琐控制，进一步实现高效自动化控制，通常引入PLC的硬件系统对半导体设备进行控制。PLC的硬件系统实质上是一种专用于工业控制的计算机，包括中央处理单元、存储器、输入/输出单元、编辑器及电源部件，其中，中央处理单元对各个数据点进行扫描，将数据点的状态输入到存储器，然后执行用户程序，再将结果输出到存储器，通过输出部件转换成被控设备能接受的电压和电流信号，以驱动被控设备。PLC能够对半导体设备进行全面的监控，实时扫描各数据点，执行多个步骤的工艺队列，但是，每个步骤完成后，上一步骤结果会直接影响下一步骤的结果，如果上一步骤的结果存在较大偏差，会导致整个工艺失效，造成巨大的经济损失。因此，需要一种能够实时更改工艺配方的管理系统，增加对工艺队列的实时管理，提高生产效率，避免出现工艺错误。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术存在的上述缺陷，提供一种可实时更改工艺配方的半导体工艺配方的管理系统及管理方法，较传统的配方管理具有高效传输、多样解析、数据采集实时性强、配方队列实时管理等优势。

为实现上述目的，本发明的技术方案如下：

一种半导体工艺配方的管理系统，用于上位机和PLC机组控制的半导体生产自动化控制领域，其中，PLC机组与被控设备的各工艺单元相连，用于接收工艺配方，并根据工艺配方的工艺参数控制各工艺单元的运作，上位机与PLC机组相连，用于根据工艺需要编辑和管理工艺配方，并接收来自PLC机组的过程数据文件，还包括配方编辑管理模块、配方数据管理模块、配方传输管理模块和配方控制管理模块，其中，配方编辑管理模块用于建立和编辑配方文件，以及查看来自PLC机组的过程数据文件，配方数据管理模块用于存储配方文件和来自PLC机组的过程数据文件，配方传输管理模块用于将配方文件从上位机传输至PLC机组上，并将PLC机组控制工艺的过程数据文件传输到上位机上，配方控制管理模块，用于控制PLC机组执行工艺配方，并接收PLC机组控制工艺的过程数据文件。

优选地，所述配方控制管理模块包括配方解析单元和配方控制算法单元，其中，配方解析单元用于将配方文件解析成PLC机组能读取和操作的数据，并按照与PLC机组的数据点一一对应的法则，将解析的数据分配到PLC机组的数据点中，完成数据的解析和赋值过程，配方控制算法单元，用于将完成解析和赋值的数据进行算法控制，以控制各工艺单元按照配方文件运作。

优选地，所述配方控制算法单元对完成解析和赋值的数据进行算法控制的方法为，首先，生成与配方步骤对应的工艺队列函数F_X(1，2，......M)；其次，在PLC机组中将生成的工艺队列按执行的状态被自动分配在至少4个工艺队列分区中，设当前正在执行的配方步骤的工艺队列的函数为F_X，变量X为配方步骤，被自动分配在正在执行区，即将执行的工艺队列F_X-1被自动分配在保护区，在即将执行的工艺队列后的所有未被执行的工艺队列被自动分配在待执行缓冲区，已被执行的工艺队列被自动分配在已执行区，其中，位于正在执行区的工艺队列的参数不能被修改，位于保护区的工艺队列的参数可以根据正在执行的工艺队列的过程数据通过在配方编辑管理模块中重新设置工艺参数被修改；然后，依次执行工艺队列，直至保护区无即将执行的工艺队列。

优选地，所述配方编辑管理模块包括至少一个参数控制单元，用于设置工艺参数。

优选地，所述参数控制单元包括与被控设备对应的图形区和与图形对应的参数输入区。

优选地，所述配方传输管理模块包括传输单元和安全保护单元。

优选地，所述安全保护单元包括对操作用户进行权限限制的装置和对文档进行正确性验证的装置。

优选地，所述对文档进行正确性验证的装置为总体随机验证的装置或特殊参数固定验证的装置或总体随机验证和特殊参数固定验证两者相结合的装置。

优选地，所述总体随机验证的装置中，随机个数不少于配方参数和值配对个数的1/3；所述特殊参数固定验证的装置中，固定配方参数和值不少于总体的1/2。

本发明还公开了另一种技术方案，如下：

一种半导体工艺配方的管理方法，包括如下步骤：

步骤S01:在上位机上通过配方编辑管理模块输入配方步骤及每个步骤中的配方参数，并生成XML格式的配方文件；

步骤S02：通过配方数据管理模块保存生成的XML格式的配方文件；

步骤S03：通过配方传输管理模块将XML格式的配方文件传输到PLC机组上；

步骤S04：通过配方控制管理模块形成工艺队列，并将工艺队列根据执行的状态分别存储在已执行区、正在执行区、保护区和待执行缓冲区，以配方步骤为变量，自动依次执行工艺队列，直至保护区内无即将执行的工艺队列；

步骤S05：通过配方数据管理模块实时保存正在执行的工艺队列的过程数据；

步骤S06：通过配方传输管理模块将实时保存的过程数据文件传输到上位机上；

步骤S07：在上位机上检查过程数据，如果需要修改位于保护区的工艺队列的工艺参数，则通过配方编辑管理模块重新下发该工艺队列的工艺参数，覆盖保护区内的原数据。

从上述技术方案可以看出，本发明的半导体工艺配方的管理系统包括配方编辑管理模块、配方数据管理模块、配方传输管理模块和配方控制管理模块，首先配方编辑管理模块采用对配方参数图形对象化的编辑方式，生成用于控制被控设备进行自动化生产的工艺配方，经配方数据管理模块的存储以及配方传输管理模块的传输，工艺配方被下发到控制被控设备的PLC机组上，之后再经配方控制管理模块生成工艺队列，并对工艺队列进行管理，实现了以PLC执行配方文件的控制方式。本发明通过可视化的配方编辑管理模块实现了配方参数的编辑可视化、直接明了，便于编辑；通过实时高效的配方控制管理模块实现了实时动态修改工艺队列的参数，解决了上位机实时跟踪扫描PLC数据信息的笨重方式，大大提升数据传输效率和实时性，减少依赖PLC驱动读写的方式获取工艺数据。因此，本发明具有显著特点。

附图说明

图1是本发明的半导体工艺配方的管理系统的连接示意图；

图2是本发明的半导体工艺配方的管理系统的模块关系示意图；

图3是本发明的工艺队列的形成示意图；

图4是本发明的工艺队列的执行示意图；

图5是本发明一具体实施例中的一个气路控制参数控制单元的结构示意图；

图6是本发明一具体实施例中的一个温度控制参数控制单元的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图，对本发明的具体实施方式作进一步的详细说明。

需要说明的是，在下述的具体实施方式中，在详述本发明的实施方式时，为了清楚地表示本发明的结构以便于说明，特对附图中的结构不依照一般比例绘图，并进行了局部放大、变形及简化处理，因此，应避免以此作为对本发明的限定来加以理解。

在以下本发明的具体实施方式中，请参阅图1和图2，图1是本发明的半导体工艺配方的管理系统的连接示意图，图2是本发明的半导体工艺配方的管理系统的模块关系示意图，结合参考图3～图6，进一步理解本发明的半导体工艺配方的管理系统。

本发明公开了一种半导体工艺配方的管理系统，如图1所示，包括上位机和PLC机组，上位机与PLC机组相连，其中，上位机用于根据工艺需要编辑和管理工艺配方，并接收来自PLC机组的过程数据文件，PLC机组与被控设备的各工艺单元相连，用于接收来自上位机的工艺配方，并根据工艺配方的工艺参数控制各工艺单元的运作。

具体地，PLC机组可以为一个或多个PLC的硬件系统，其实质为一种专用于工业控制的计算机，包括中央处理单元、存储器、输入/输出单元、编辑器及电源部件，其中，中央处理单元对各个数据点进行扫描，将数据点的状态输入到存储器，然后执行用户程序，再将结果输出到存储器，通过输出部件转换成被控设备能接受的电压和电流信号，以驱动被控设备。PLC能够对半导体设备进行全面的监控，实时扫描各数据点，执行多个步骤的工艺队列。上位机可以为PC机，因此，工作人员仅可以通过一台PC机就可以操纵多个PLC硬件，从而操纵所有被控设备，与现有技术的一台PC机控制一个被控设备的一个位置点相比，能够显著提高生产效率，降低人力成本。

请参阅图2。本发明的半导体工艺配方的管理系统还包括配方编辑管理模块、配方数据管理模块、配方传输管理模块和配方控制管理模块，其中，配方编辑管理模块用于建立和编辑配方文件，以及查看来自PLC机组的过程数据文件，配方数据管理模块用于存储配方文件和来自PLC机组的过程数据文件，配方传输管理模块用于将配方文件从上位机传输至PLC机组上，并将PLC机组控制工艺的过程数据文件传输到上位机上，配方控制管理模块，用于控制PLC机组执行工艺配方，并接收PLC机组控制工艺的过程数据文件。

具体地，配方控制管理模块是工艺配方管理系统的核心部分，按照其功能又分为配方解析单元和配方控制算法单元。通常，配方文件为XML格式的文件，这是因为XML文件是一种极灵活的传递数据的方式，具有层次有序、互操作行强、规范统一等优势。在XML格式的配方文件中，包含一个或多个配方步骤，其中每个配方步骤包括对多个数据点的所有参数的设置，每个配方步骤中的参数的总数是相同的。XML格式的配方文件还包括参数值、PLC机组的数据点及被控设备的一一对应关系。XML格式的配方文件被配方解析单元解析成PLC机组能读取和操作的数据，例如数字，并按照与PLC机组的数据点一一对应的法则，将解析的数据分配到PLC机组的数据点中，完成数据的解析和赋值过程。

配方控制算法单元，用于对完成解析和赋值的数据进行算法控制，以控制各工艺单元按照配方文件运作。为了能实时更改和管理工艺配方，避免出现工艺错误，本发明的配方控制算法单元对完成解析和赋值的数据进行算法控制的方法为，包括以下步骤：

首先，生成与配方步骤对应的工艺队列的函数F_X(1，2，......M)。

在该步骤中，PLC的各个数据点分别对应被控设备的各个工艺单元，每个数据点中包括一个或多个参数，例如温度、压强、流量、速率、浓度等，每个数据点控制的所有参数(假设为M个)在一个配方步骤中构成一个工艺队列，记为F_X(1，2，......M)，其中，X为变量，代表配方步骤，每个工艺队列中，参数的总数是相同的，形成配方步骤个工艺队列，如图3所示。

其次，在PLC机组中将生成的工艺队列按执行的状态被自动分配在至少4个工艺队列分区中，设当前正在执行的配方步骤的工艺队列的函数为F_X，变量X为配方步骤，被自动分配在正在执行区，即将执行的工艺队列F_X-1被自动分配在保护区，在即将执行的工艺队列后的所有未被执行的工艺队列被自动分配在待执行缓冲区，已被执行的工艺队列被自动分配在已执行区，其中，位于正在执行区的工艺队列的参数不能被修改，位于保护区的工艺队列的参数可以根据正在执行的工艺队列的过程数据被修改。

在该步骤中，通过编程让PLC机组通过实时扫描各数据点，得到各工艺队列的执行状态，将各工艺队列分别存储在四个工艺队列分区中，即已执行区、正在执行区、保护区和待执行缓冲区。如图4所示，已被执行的工艺队列被自动分配在已执行区，当前正在执行的配方步骤的工艺队列被自动分配在正在执行区，记为F_X，即将执行的工艺队列被自动分配在保护区，记为F_X-1，在即将执行的工艺队列后的所有未被执行的工艺队列被自动分配在待执行缓冲区，以配方步骤为变量，可以依次自动执行各工艺队列。本发明可以对各分区的工艺队列分别单独操作，例如，位于正在执行区的工艺队列的参数不可以更改，过程数据被实时收集；位于保护区的工艺队列由于是即将执行，参数需要被保护，并且传递给PLC的命令为还有要执行的工艺队列，但是，根据正在执行的工艺队列的实时收集的过程数据如果不尽如人意，工作人员也可以立刻修改位于保护区的工艺队列的参数，从配方编辑管理模块的界面重新下发该步骤的工艺队列的参数，配方数据管理模块会将新的工艺队列的函数覆盖掉保护区原来的工艺队列的函数，完成对下一步配方步的修改。过程数据文件为以参数类型为内的链表，长度为参数的个数。位于四个分区的工艺队列的数据皆可以被实时收集、存储、传输及查看。位于待执行缓冲区的工艺队列的参数也可以被修改。因此，本发明能够对半导体工艺控制过程中配方参数实现动态的实时更改，对半导体软件配方管理实现由PLC执行的管理方式，以及对半导体工艺配方管理实现队列管理。

然后，依次执行工艺队列，直至保护区无即将执行的工艺队列。

在该步骤中，当保护区内无即将执行的工艺队列时，则标志所有工艺队列执行完成。

请继续参阅图5和图6。在配方编辑管理模块中，可以对配方步骤及每个配方步骤中的所有参数进行设置。配方编辑管理模块包括至少一个参数控制单元，每个参数控制单元包括与被控设备对应的图形区和与图形对应的参数输入区，用户可以点击图形中具体硬件的方式进行参数配置参数值。例如，在本实施例中以立式氧化炉为例，在图5所示的气路控制参数控制单元，左侧有代表立式炉及立式炉的各区域所连接的管路的图形区，用户可以点击左侧的气路示意图的阀体或者MFC等设备，在右侧的参数输入区完成配方中参数值的设置，直观明了；在图6所示的温度控制参数控制单元，左侧有代表立式炉结构的图形区，在右侧可以对不同区域分别进行温度输入。

在配方传输管理模块中，用户在上位机上将编辑完成的配方文件传输至PLC机组中，实现文档的“下载”过程。另外，当PLC进行工艺配方控制时，PLC又将配方控制过程的数据“上传”至上位机上，实现了数据的上传/下载过程。配方传输管理模块包括传输单元，以完成数据在上位机和PLC机组之间的互相传输。在本实施例中，传输单元采用ftp协议或http协议进行文件的传输。文件上传/下载可以是ASCII的数据流，也可以为二进制等基础数据信息，用户可以根据需要进行配置管理。

为了保证配方文件传输的安全性和正确性，以及保证配方文档内部的配方参数和值正确性，配方传输管理模块还包括安全保护单元。安全保护单元可以包括对操作用户进行权限限制的装置和对文档进行正确性验证的装置。对操作用户进行权限限制的装置，可以避免非操控人员更改数据。对文档进行正确性验证的装置可以从两方面进行，一种为采用总体随机验证的方式，其随机个数不少于配方参数和值配对个数的1/3，另一种为采用特殊参数固定验证的方式，其固定配方参数和值不少于总体的1/2。两种对文档进行正确性验证的方式可以分别单独使用，也可以相结合使用。

配方数据管理模块主要作用为对上位机的配方文件和PLC机组的过程数据的管理。在上位机中编辑的每个配方文件存储在上位机的系统磁盘中，文件格式为XML，这是因为XML是一种极灵活的传递数据的方式，具有层次有序、互操作行强、规范统一等优势。因此，对于配方步骤和配方参数而言是一个非常适合的文档存储格式。而PLC中的过程数据的上传则是根据配方参数的数据类型进行规定的，一般情况下是一个以参数类型为内的链表，其长度为配方参数的个数。

本发明还公开了一种半导体工艺配方的管理方法，包括以下步骤：

步骤S01:在上位机上通过配方编辑管理模块输入配方步骤及每个步骤中的配方参数，并生成XML格式的配方文件。

具体地，配方编辑管理模块包括至少一个参数控制单元，每个参数控制单元包括与被控设备对应的图形区和与图形对应的参数输入区，用户可以点击图形中具体硬件的方式进行参数配置参数值。例如，在本实施例中以立式氧化炉为例，在图5所示的气路控制参数控制单元，左侧有代表立式炉及立式炉的各区域所连接的管路的图形区，用户可以点击左侧的气路示意图的阀体或者MFC等设备，在右侧的参数输入区完成配方中参数值的设置，直观明了；在图6所示的温度控制参数控制单元，左侧有代表立式炉结构的图形区，在右侧可以对不同区域分别进行温度输入。输入的参数以XML格式的配方文件被保存，这是因为XML文件是一种极灵活的传递数据的方式，具有层次有序、互操作行强、规范统一等优势。在XML格式的配方文件中，包含一个或多个配方步骤，其中每个配方步骤包括对多个数据点的所有参数的设置，每个配方步骤中的参数的总数是相同的。XML格式的配方文件还包括参数值、PLC机组的数据点及被控设备的一一对应关系。

步骤S02：通过配方数据管理模块保存生成的XML格式的配方文件。

在该步骤中，生成的配方文件由配方数据管理模块保存在上位机的系统磁盘中。

步骤S03：通过配方传输管理模块将XML格式的配方文件传输到PLC机组上。

在该步骤中，用户在上位机上将编辑完成的配方文件通过配方传输管理模块传输至PLC机组中，实现文档的“下载”过程。配方传输管理模块包括传输单元和安全保护单元，以完成数据在上位机和PLC机组之间的安全、准确的传输。

步骤S04：通过配方控制管理模块形成工艺队列，并将工艺队列根据执行的状态分别存储在已执行区、正在执行区、保护区和待执行缓冲区，以配方步骤为变量，自动依次执行工艺队列，直至保护区内无即将执行的工艺队列。

该步骤为本发明的核心部分。通过该步骤，本发明能够对工艺配方实现实时动态的修改，大大提升数据传输的效率和实时性。配方控制管理模块按照其功能又分为配方解析单元和配方控制算法单元。首先，XML格式的配方文件被配方解析单元解析成PLC机组能读取和操作的数据，例如数字，并按照与PLC机组的数据点一一对应的法则，将解析的数据分配到PLC机组的数据点中，完成数据的解析和赋值过程。其次，配方控制算法单元对完成解析和赋值的数据进行算法控制，具体为：首先，生成与配方步骤对应的工艺队列的函数F_X(1，2，......M)。其次，在PLC机组中将生成的工艺队列按执行的状态被自动分配在4个工艺队列分区中，设当前正在执行的配方步骤的工艺队列的函数为F_X，变量X为配方步骤，被自动分配在正在执行区，即将执行的工艺队列F_X-1被自动分配在保护区，在即将执行的工艺队列后的所有未被执行的工艺队列被自动分配在待执行缓冲区，已被执行的工艺队列被自动分配在已执行区，其中，位于正在执行区的工艺队列的参数不能被修改，位于保护区的工艺队列的参数可以根据正在执行的工艺队列的过程数据被修改。然后，依次执行工艺队列，直至保护区无即将执行的工艺队列。

步骤S05：通过配方数据管理模块实时保存正在执行的工艺队列的过程数据；

在该步骤中，PLC机组会实时扫描各数据点，保存各数据点的过程数据。

步骤S06：通过配方传输管理模块将实时保存的过程数据文件传输到上位机上；

在该步骤中，为了操作方便，过程数据通过配方传输管理模块被上传到上位机上，工作人员可以对其进行实时查看，观察被控设备的工作状态是否处于正常。

步骤S07：在上位机上检查过程数据，如果需要修改位于保护区的工艺队列的工艺参数，则通过配方编辑管理模块重新下发该工艺队列的工艺参数，对保护区内的工艺参数进行修改。

在该步骤中，正在执行的工艺队列的过程数据可以被实时查看，根据正在执行的工艺队列的结果，对下一步骤的参数进行修正，即对保护区内的工艺队列的参数进行修正。通过从配方编辑管理模块重新下发该工艺队列的工艺参数，覆盖保护区内的原数据，实现对保护区内的工艺参数的修改。

综上所述，本发明配方编辑管理模块采用对配方参数图形对象化的编辑方式，生成用于控制被控设备进行自动化生产的工艺配方，经配方数据管理模块的存储以及配方传输管理模块的传输，工艺配方被下发到控制被控设备的PLC机组上，之后再经配方控制管理模块生成工艺队列，并对工艺队列进行管理，实现了以PLC执行配方文件的控制方式。本发明通过可视化的配方编辑管理模块实现了配方参数的编辑可视化、直接明了，便于编辑；通过实时高效的配方控制管理模块实现了实时动态修改工艺队列的参数，解决了上位机实时跟踪扫描PLC数据信息的笨重方式，大大提升数据传输效率和实时性，减少依赖PLC驱动读写的方式获取工艺数据。

以上所述的仅为本发明的优选实施例，所述实施例并非用以限制本发明的专利保护范围，因此凡是运用本发明的说明书及附图内容所作的等同结构变化，同理均应包含在本发明的保护范围内。

Claims (8)

1.一种半导体工艺配方的管理系统，其特征在于，包括上位机和PLC机组，上位机与PLC机组相连，其中，上位机用于根据工艺需要编辑和管理工艺配方，并接收来自PLC机组的过程数据文件，PLC机组与被控设备的各工艺单元相连，用于接收来自上位机的工艺配方，并根据工艺配方的工艺参数控制各工艺单元的运作，还包括：

配方编辑管理模块，用于建立和编辑XML格式的配方文件，以及查看来自PLC机组的过程数据文件；

配方数据管理模块，用于存储配方文件和来自PLC机组的过程数据文件；

配方传输管理模块，用于将配方文件从上位机传输至PLC机组上，并将PLC机组控制工艺的过程数据文件传输到上位机上；

配方控制管理模块，用于控制PLC机组执行工艺配方，并接收PLC机组控制工艺的过程数据文件；

所述配方控制管理模块包括配方解析单元和配方控制算法单元，其中，配方解析单元用于将配方文件解析成PLC机组能读取和操作的数据，并按照与PLC机组的数据点一一对应的法则，将解析的数据分配到PLC机组的数据点中，完成数据的解析和赋值过程，配方控制算法单元，用于对完成解析和赋值的数据进行算法控制，以控制各工艺单元按照配方文件运作；所述配方控制算法单元对完成解析和赋值的数据进行算法控制的方法为，首先，生成与配方步骤对应的工艺队列的函数F_X(1，2，......M)；其次，在PLC机组中将生成的工艺队列按执行的状态被自动分配在至少4个工艺队列分区中，设当前正在执行的配方步骤的工艺队列的函数为F_X，变量X为配方步骤，被自动分配在正在执行区，即将执行的工艺队列F_X-1被自动分配在保护区，在即将执行的工艺队列后的所有未被执行的工艺队列被自动分配在待执行缓冲区，已被执行的工艺队列被自动分配在已执行区，其中，位于正在执行区的工艺队列的参数不能被修改，位于保护区的工艺队列的参数根据正在执行的工艺队列的过程数据通过在配方编辑管理模块中重新设置工艺参数被修改；然后，依次执行工艺队列，直至保护区无即将执行的工艺队列。

2.根据权利要求1所述的半导体工艺配方的管理系统，其特征在于，所述配方编辑管理模块包括至少一个参数控制单元，用于设置工艺参数。

3.根据权利要求2所述的半导体工艺配方的管理系统，其特征在于，所述参数控制单元包括与被控设备对应的图形区和与图形对应的参数输入区。

4.根据权利要求1所述的半导体工艺配方的管理系统，其特征在于，所述配方传输管理模块包括传输单元和安全保护单元。

5.根据权利要求4所述的半导体工艺配方的管理系统，其特征在于，所述安全保护单元包括对操作用户进行权限限制的装置和对文档进行正确性验证的装置。

6.根据权利要求5所述的半导体工艺配方的管理系统，其特征在于，所述对文档进行正确性验证的装置为总体随机验证的装置或特殊参数固定验证的装置或总体随机验证和特殊参数固定验证两者相结合的装置。

7.根据权利要求6所述的半导体工艺配方的管理系统，其特征在于，所述总体随机验证的装置中，随机个数不少于配方参数和值配对个数的1/3；所述特殊参数固定验证的装置中，固定配方参数和值不少于总体的1/2。

8.一种采用权利要求1所述的半导体工艺配方的管理系统进行半导体工艺配方管理的方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S01:在上位机上通过配方编辑管理模块输入配方步骤及每个步骤中的配方参数，并生成XML格式的配方文件；

步骤S02：通过配方数据管理模块保存生成的XML格式的配方文件；

步骤S03：通过配方传输管理模块将XML格式的配方文件传输到PLC机组上；

步骤S04：通过配方控制管理模块形成工艺队列，并将工艺队列根据执行的状态分别存储在已执行区、正在执行区、保护区和待执行缓冲区，以配方步骤为变量，自动依次执行工艺队列，直至保护区内无即将执行的工艺队列；

步骤S05：通过配方数据管理模块实时保存正在执行的工艺队列的过程数据；

步骤S06：通过配方传输管理模块将实时保存的过程数据文件传输到上位机上；

步骤S07：在上位机上检查过程数据，如果需要修改位于保护区的工艺队列的工艺参数，则通过配方编辑管理模块重新下发该工艺队列的工艺参数，对保护区内的工艺参数进行修改。