CN106773279A - 反射式光子晶体彩膜、使用其的显示器件及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本公开提供一种反射式光子晶体彩膜、使用其的显示器件及其制造方法。反射式光子晶体彩膜包括：基底；形成在基底上且在基底表面上周期性分布的二维光子晶体结构，其中所述二维光子晶体结构由包含硅的材料构成。通过设计调整二维光子晶体结构的几何参数和薄膜厚度，实现仅红、绿、蓝、青、黄五色被反射。本公开的光子晶体彩膜将不仅能替代传统彩膜基底，而且能拓宽色域，实现传统彩膜难以实现的青色和黄色补色出光，结合RGB三基色彩膜，实现RGBCY五色，还原自然颜色，从而实现更加逼真的显示画面。同时通过优化二维光子晶体结构的各个几何参数，使RGB对应的频谱宽度较传统彩膜窄，实现相对较高的色饱和度，从而实现显示的画面更加鲜艳。

Description

反射式光子晶体彩膜、使用其的显示器件及其制造方法
技术领域
本公开涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种反射式光子晶体彩膜、使用其的显示器件及其制造方法。
背景技术
目前国际上主流的三基色的色域指标已经不能满足一些高端显示领域的色彩饱和度的要求，比如某些专业广告，高清屏幕等。因此，寻找新的方法来提高屏幕显色的真实性是显示领域最为迫切需要解决的问题之一。虽然基于三基色LED显示设备的色域再现能力已经达到NTSC标准色域的120％，但是，在CIE标准色域图中，还有接近40％的面积在三基色LED显示区域之外。怎样进一步扩大显示色域的范围是我们满足高端需求的重要探索方向。通过对各种扩展色域方案的对比的五基色(RGBCY)显示采用增加黄色(Yellow)、青色(Cyan)的方法将颜色由RGB构成的三角形扩展为五边形，能有效扩大系统所能再现的色域，理想RGBCY可以实现完全覆盖Pointer Gamut。RGBCY显示颜色更加鲜艳逼真，色彩过渡更加自然，具有更好的视觉效果，可以实现对高色域和饱和度照片的真实再现。实现RGBCY五基色LED理论分析没有问题，实际工业化也有很多难题需要攻克，其中青色和黄色如何实现是目前研究的重点。
此外，在彩色显示领域，包括传统的液晶显示(LCD)、有机发光二极管(OLED)等显示技术都使用传统的彩膜基底来实现RGB彩色显示。但是传统彩膜基底是通过对白色入射光的各基色进行过滤来实现RGB，因此大约有2/3的入射光会被彩膜基底吸收而损失，导致透过率低，且传统RGB彩色显示拓宽至RGBCY五色时，其各色光谱的半峰宽较宽，导致色饱和度不高等。
光子晶体(Photonic Crystal)是指不同折射率的介质周期性排列的人工微结构，也称为具有光子带隙(Photonic Band-Gap,简称为PBG)特性的人造周期性电介质结构。光子带隙材料能够调制具有相应波长的电磁波，使能量处在光子带隙内的光子不能进入光子晶体。光子晶体虽然是个新名词，但自然界中早已存在拥有这种性质的物质，比如蛋白石，蝴蝶翅膀，昆虫眼睛等(如图1)，即特定频率范围内的光被禁止在光子晶体中传播，被反射到人的眼睛里，所以人眼能感知到这这些频率的光，即就是蛋白石、孔雀翎、蝴蝶翅膀能显示出的颜色。
在光子晶体彩膜的研究方面，国内外根据实际应用也做了一些理论方面和实际应用方面的研究，如国内一些研究单位利用一维金属光栅和多层分散微球结构，分别实现色彩分离。但是，众所周知，由于一维结构的对自然光的偏振特性，一维光栅结构会损失至少50％的入射光能量，且对入射光的角度要求比较严格，而多层分散微球在实际制备和应用中仍存在诸多问题和挑战。
因此，设计一种新的彩膜，特别是新的能实现五基色显示的光子晶体彩膜微结构是目前亟待解决的技术问题。
发明内容
本公开的目的在于提供一种反射式光子晶体彩膜及使用其的显示器件，进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致的一个或者多个问题。
本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得清晰，或者部分地通过本公开的实践而习得。
根据本公开的第一方面，提供一种反射式光子晶体彩膜，包括；
基底；
形成在基底上且在基底表面上周期性分布的二维光子晶体结构，其中所述二维光子晶体结构由包含硅的材料构成。
在本公开的一种示例性实施例中，所述二维光子晶体结构为柱状或孔状结构。
在本公开的一种示例性实施例中，所述二维光子晶体结构为圆柱或方块结构。
在本公开的一种示例性实施例中，所述二维光子晶体结构为圆孔或方孔结构。
在本公开的一种示例性实施例中，所述二维光子晶体结构为圆柱结构，所述二维光子晶体结构的周期为330-450nm，所述二维光子晶体结构的占空比为20-30％，其中圆柱的高度为110-130nm，圆柱的直径为190-210nm。
在本公开的一种示例性实施例中，所述二维光子晶体结构为圆孔结构，所述二维光子晶体结构的周期为240-280nm，所述二维光子晶体结构的占空比为20-30％，其中圆孔的深度为110-130nm，圆孔的直径为125-145nm。
在本公开的一种示例性实施例中，所述二维光子晶体结构为圆孔结构，所述二维光子晶体结构的周期为120-200nm，所述二维光子晶体结构的占空比为20-30％，其中圆孔的深度为90-110nm，圆孔的直径为90-110nm。
在本公开的一种示例性实施例中，所述二维光子晶体结构为圆柱结构，所述二维光子晶体结构的周期为210-230nm，所述二维光子晶体结构的占空比为20-30％，其中圆柱的高度为90-110nm，圆柱的直径为110-130nm。
在本公开的一种示例性实施例中，所述二维光子晶体结构的周期为220nm，所述圆柱的高度为100nm，所述圆柱的直径为124nm。
在本公开的一种示例性实施例中，所述二维光子晶体结构为圆柱结构，所述二维光子晶体结构的周期为290-320nm，所述二维光子晶体结构的占空比为20-30％，其中圆柱的高度为110-130nm，圆柱的直径为160-180nm。
在本公开的一种示例性实施例中，所述二维光子晶体结构的周期为300nm，所述圆柱的高度为120nm，所述圆柱的直径为170nm。
根据本公开的第二方面，提供一种反射式光子晶体彩膜的制造方法，包括：
形成基底；
在基底上形成由包含硅的材料构成的薄膜；以及
通过对所述薄膜进行曝光蚀刻得到在基底表面上周期性分布的二维光子晶体结构。
在本公开的一种示例性实施例中，所述二维光子晶体结构为柱状或孔状结构。
根据本公开的第三方面，提供一种显示器件，包括：根据本公开的第一方面所述的反射式光子晶体彩膜；形成在所述反射式光子晶体彩膜上的液晶；形成在所述液晶上的前置光源。
根据本公开的第四方面，提供一种显示器件的制造方法，包括：
形成根据本公开的第一方面所述的反射式光子晶体彩膜；
在所述反射式光子晶体彩膜上形成液晶；以及
在所述液晶上形成前置光源。
根据本公开的一些实施方式，通过设计调整由包含硅的材料构成的二维光子晶体结构的几何参数和薄膜厚度，实现仅红、绿、蓝、青、黄五色被反射。本公开的光子晶体彩膜将不仅能替代传统彩膜基底，而且能拓宽色域，实现传统彩膜难以实现的青色和黄色补色出光，结合RGB三基色彩膜，实现RGBCY五色，还原自然颜色，从而实现更加逼真的显示画面。
根据本公开的一些实施方式，通过优化由包含硅的材料构成的二维光子晶体结构的各个几何参数，使RGB对应的频谱宽度较传统彩膜窄，实现相对较高的色饱和度，从而实现显示的画面更加鲜艳。
附图说明
通过参照附图详细描述其示例实施例，本公开的上述和其它目标、特征及优点将变得更加显而易见。
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1示出自然界中存在的光子晶体示例图。
图2示出根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜的侧视图。
图3示出根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜的俯视图。
图4示出根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜使用的硅基材料的折射系数和消光系数图。
图5示出根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜实现红色的光谱图。
图6示出根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜实现绿色的光谱图。
图7示根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜实现蓝色的光谱图。
图8示出根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜实现青色的光谱图。
图9示出根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜实现黄色的光谱图。
图10示出根据本公开示例实施方式的另一反射式光子晶体彩膜的侧视图及俯视图。
图11示出根据本公开示例实施方式的一使用反射式光子晶体彩膜的显示器件的示意图。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本公开的技术方案而省略所述特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组元、装置、步骤等。
需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能会夸大层和区域的尺寸。而且可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间唯一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。
本公开提供一种反射式光子晶体彩膜及使用其的显示器件。反射式光子晶体彩膜包括：基底；形成在基底上且在基底表面上周期性分布的二维光子晶体结构，其中所述二维光子晶体结构由包含硅的材料构成。通过设计调整二维光子晶体结构的几何参数和薄膜厚度，实现仅红(Red)、绿(Green)、蓝(Blue)、青(Cyan)、黄(Yellow)即RGBCY五色被反射。本公开的光子晶体彩膜将不仅能替代传统彩膜基底，而且能拓宽色域，实现传统彩膜难以实现的青色和黄色补色出光，结合RGB三基色彩膜，实现RGBCY五色，还原自然颜色，从而实现更加逼真的显示画面。同时通过优化二维光子晶体结构的各个几何参数，使RGB对应的频谱宽度较传统彩膜窄，实现相对较高的色饱和度，从而实现显示的画面更加鲜艳。
下面结合附图对本公开的反射式光子晶体彩膜进行具体说明，其中，图2示出根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜的侧视图，图3示出根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜的俯视图。
如图2所示，反射式光子晶体彩膜包括：基底1；形成在基底1上且在基底1表面上周期性分布的二维光子晶体结构2，其中二维光子晶体结构2由包含硅的材料构成。
其中，基底1可为玻璃基底，但不限于此，也可以由透明的其他无机材料或透明的有机材料材料构成。
二维光子晶体结构2通过对形成在基底1上的硅基薄膜曝光蚀刻得到。硅的折射系数n和消光系数k如图4所描述。硅基薄膜厚度在本公开中在90-130nm之间，优选在100-120nm之间，以达到硅基薄膜材料在可见光波段具有低吸收，但高反射的目的。硅薄膜的厚度根据所需出光颜色的不同而略有不同。二维光子晶体结构是在该硅基薄膜上曝光蚀刻得到。此处硅薄膜材料也可以由其他材料代替，来实现反射式或者透射式光子晶体彩膜，但各参数需重新优化设计，此处不做赘述。另外，要求硅薄膜表面具有很好的平整度，即较小的表面粗糙度，以减小对反射光出光波长和强度的影响。
二维光子晶体结构2为柱状结构或孔状结构，本公开所述的柱状结构也就是通过曝光蚀刻将硅基薄膜中除柱体以外的其他部分去除仅保留相互分离的在基底表面上呈周期性分布的柱状结构(如图2或3所示)，所述柱状结构为圆柱或方块，即所述柱状结构的横截面为圆形或方形；而本公开所述的孔状结构正好相反，是通过曝光蚀刻在硅基薄膜中形成沿硅基薄膜的平面(即平行于基底1的平面)周期性分布的孔状结构(未图示)，所述孔状结构为圆孔或方孔，即所述孔状结构的横截面为圆形或方形。
二维光子晶体结构的周期p、柱体高度/孔深度h、圆柱/孔的直径d和方块/孔的宽度l以及占空比由设计出光的颜色决定，特定几何参数的光子晶体禁带可以让某些特定波长通不过光子晶体而被直接反射，从而实现特定颜色出光。本公开只对反射式二维柱状光子晶体彩膜进行详细说明，该目的也可以通过选择材料，用其他形状如二维纳米孔、纳米方块等的光子晶体等，甚至一维纳米线或槽来实现反射式或者透射式光子晶体彩膜的设计。
下面结合图5-9分别对本公开的反射式光子晶体彩膜实现红(Red)、绿(Green)、蓝(Blue)、青(Cyan)、黄(Yellow)即RGBCY五色的方式进行详细说明，其中，图5示出根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜实现红色的光谱图，图6示出根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜实现绿色的光谱图，图7示根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜实现蓝色的光谱图，图8示出根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜实现青色的光谱图，图9示出根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜实现黄色的光谱图。
红色的实现方式：在120nm厚的硅基薄膜上设计一个二维圆柱状光子晶体结构(如图2-3所示)，当二维结构纳米结构的几何参数在：330-450nm，二维圆柱的占空比约为20-30％，优选25％，圆柱高度为110-130nm，优选120nm，即硅层被完全刻蚀，二维圆柱的直径为190-210nm，即可得到600-780nm的入射光反射。优化二维周期纳米结构的几何参数，当周期为350nm，二维圆柱的直径为198nm时，从而得到600-700nm范围内的红色出光。图5示出根据本公开示例实施方式的一反射式光子晶体彩膜实现红色的光谱图，由图5可以看到，得到的红色光子晶体彩膜的半峰宽(FWHM)远远小于传统彩膜的半峰宽，红色饱和度较高。
绿色的实现方式：实现绿色的二维光子晶体结构为圆孔，本公开的硅基二维孔状光子晶体同样通过调整光子晶体的相关参数，也可以将绿色光谱范围内入射光反射出光。实现绿色光谱范围内出光的光子晶体参数为：周期是240-280nm，二维孔的占空比约为20-30％，优选25％，圆孔的深度为110-130nm，优选120nm，二维圆孔的直径为125-145nm，即可得到在500-600nm范围内出光的绿色。通过优化蓝色滤光器的几何参数，周期和二维孔的直径分别是240nm和135nm时，绿色光子晶体彩膜可以实现与传统彩膜相同FWHM的色度(如图6所示)。
蓝色的实现方式：实现蓝色的二维光子晶体结构也为圆孔，同上，实现蓝色光谱范围内出光的光子晶体参数为：周期是120-200nm，二维孔面积的占空比约为20-30％，优选25％，圆孔的深度为90-110nm，优选100nm，二维圆孔的直径为90-110nm，即可将380-500nm范围内的蓝光反射，实现蓝色出光。通过优化蓝色滤光器的几何参数，周期和二维孔的直径分别是180nm和102nm时，蓝色光子晶体彩膜的FWHM比传统彩膜窄(如图7所示)，色饱和度较高，蓝色相对较鲜明。
青色的实现方式：实现青色的二维光子晶体结构为圆柱，当二维光子晶体结构的周期在210-230nm之间，硅薄膜厚度是90-110nm，优选100nm，其占空比大约是20-30％，优选25％，圆柱的直径为110-130nm时，可以得到450-550nm左右的青色出光。优化参数至周期是220nm，圆柱状硅的直径是124nm，将100nm厚的硅薄膜完全蚀刻，即可将505+/-50nm的入射光可被二维光子晶体的光子禁带局域反射回系统，从而得到半峰宽(FWHM)是100nm左右的青色出光(如图8所示)。
黄色的实现方式：实现黄色的二维光子晶体结构也为圆柱，同样的，通过调整光子晶体的相关参数，也可以将黄色光谱范围内入射光反射出光。实现黄色光谱范围内出光的光子晶体参数为：周期是290-320nm，占空比为20-30％，优选25％左右，硅薄膜厚度是110-130nm，优选120nm，圆柱的直径为160-180nm时，即可实现黄色出光。优化黄色出光的参数得到约100nm半峰宽的二维结构的几何参数为：周期为300nm，硅圆柱的直径为170nm，将120nm厚的硅薄膜完全蚀刻，即可得到在580+/-50nm范围内的黄色光(如图9所示)。
由上可见，本公开用由包含硅的材料构成的二维光子晶体结构来实现青色和黄色的补充色，结合现有的RGB三基色，实现RGBCY五基色显示，扩展色域，实现高饱和度和高色域显示。
此外，为了进一步提高反射效率可以通过在基底底部添加结构，使透射的部分光被重新反射回光子晶体结构中，实现二次甚至多次共振出射，从而达到增大反射效率的目的。也可以通过在基底上设计反射式的微纳米结构，重新将光子晶体的透射光衍射回光子晶体，增大出光效率，但不限于这两种设计。
除了上述实施方式中通过圆柱状二维光子晶体结构来实现青色和黄色外，也可以通过方块状即横截面为方形的柱状的二维光子晶体结构来实现青色和黄色，下面结合图10进行具体说明。
图10示出根据本公开示例实施方式的另一反射式光子晶体彩膜的侧视图及俯视图。如图10所示，反射式光子晶体彩膜包括：基底1’；形成在基底1’上且在基底1’表面上周期性分布的方块状即横截面为方形的柱状的二维光子晶体结构2’。下面分别具体说明通过二维方块状光子晶体结构实现青色和黄色的方式。
青色的实现方式：根据本公开示例实施方式，在100nm厚的硅基薄膜上设计一个二维方块状光子晶体结构(如图10所示)，其参数为：周期是220nm，二维方块状光子晶体边长即宽度l为110nm，将100nm厚的硅薄膜完全蚀刻，即可将505+/-50nm的入射光可被二维光子晶体的光子禁带局域反射回系统，从而得到在青色出光。
黄色的实现方式：根据本公开示例实施方式，硅基二维方块状光子晶体同样通过调整光子晶体的相关参数，也可以将黄色光谱范围内入射光反射出光。实现黄色光谱范围内出光的光子晶体参数为：周期是3000nm，二维方块状结构的边长为150nm，将120nm厚的硅薄膜完全蚀刻，即可得到在580+/-50nm范围内的黄色光。
此外，本公开还提供一种反射式光子晶体彩膜的制造方法,包括：形成基底；在基底上形成由包含硅的材料构成的薄膜；以及通过对所述薄膜进行曝光蚀刻得到在基底表面上周期性分布的二维光子晶体结构。
在本公开的一种示例性实施例中，所述二维光子晶体结构为柱状或孔状结构。
图11示出根据本公开示例实施方式的一使用反射式光子晶体彩膜的显示器件的示意图。
如图11所示，使用反射式光子晶体彩膜的显示器件包括：根据本公开前述的反射式光子晶体彩膜；形成在所述反射式光子晶体彩膜上的液晶；形成在所述液晶上的前置光源。显示器件还可以包括形成在反射式光子晶体彩膜下方的TFT基板，以及形成在所述液晶和前置光源之间的上偏振片，但本公开并不局限于此。
其中，前置光源将准直平面光从上往下入射。准直光源可以由R、G、B、C、Y五色的半导体激光器芯片经过混光后制成，也可由准直性比较好的R、G、B、C、Y五色的LED芯片经过混光后制成，也可由准直性比较好的白光LED芯片制成，也可由条状的CCFL灯管加一些光线准直结构制成，但不限于这些类型。
上偏振片可选用高透过滤和偏光度的碘素系偏振片，但不限于此。偏光片可根据实际应用如笔记本显示器或者电视显示器等的具体要求，对他们做进一步处理。偏光片研究不是本公开研究的重点，在此不做详细描述。
液晶材料可以选择ADS(IPS或FFS)显示模式产品、VA显示模式产品适用的液晶材料，也可以使用蓝相液晶材料，但不限于此。对液晶厚度无特殊要求，可根据实际应用调整。
TFT基板，TFT属于有源矩阵液晶显示器，在玻璃基板或者一些特殊的树脂材料等基板上沉积一层薄膜，如氢化非晶硅a-Si:H或者多晶硅p-Si等硅基材料，也不限于此。在以上薄膜基板上微加工阵列，当做每一个液晶像素点的驱动通道区。
在此需要特别指出的是，本示例实施方式仅为本公开的反射式光子晶体彩膜应用于高清液晶显示的实例，但本公开不限于此，本公开的反射式光子晶体彩膜还可应用于色彩分离、有机发光二极管显示、彩色LED以及其他相关的高端彩色显示领域。
此外，本公开还提供一种显示器件的制造方法，包括：形成根据本公开前述的反射式光子晶体彩膜；在所述反射式光子晶体彩膜上形成液晶；以及在所述液晶上形成前置光源。
综上所述，根据本公开的一些实施方式，通过设计调整由包含硅的材料构成的二维光子晶体结构的几何参数和薄膜厚度，实现仅红、绿、蓝、青、黄五色被反射。本公开的光子晶体彩膜将不仅能替代传统彩膜基底，而且能拓宽色域，实现传统彩膜难以实现的青色和黄色补色出光，结合RGB三基色彩膜，实现RGBCY五色，还原自然颜色，从而实现更加逼真的显示画面。
根据本公开的一些实施方式，通过优化由包含硅的材料构成的二维光子晶体结构的各个几何参数，使RGB对应的频谱宽度较传统彩膜窄，实现相对较高的色饱和度，从而实现显示的画面更加鲜艳。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (15)

1.一种反射式光子晶体彩膜，包括；
基底；
形成在基底上且在基底表面上周期性分布的二维光子晶体结构，其中所述二维光子晶体结构由包含硅的材料构成。
2.根据权利要求1所述的反射式光子晶体彩膜，其特征在于，所述二维光子晶体结构为柱状或孔状结构。
3.根据权利要求2所述的反射式光子晶体彩膜，其特征在于，所述二维光子晶体结构为圆柱或方块结构。
4.根据权利要求2所述的反射式光子晶体彩膜，其特征在于，所述二维光子晶体结构为圆孔或方孔结构。
5.根据权利要求3所述的反射式光子晶体彩膜，其特征在于，所述二维光子晶体结构为圆柱结构，所述二维光子晶体结构的周期为330-450nm，所述二维光子晶体结构的占空比为20-30％，其中圆柱的高度为110-130nm，圆柱的直径为190-210nm。
6.根据权利要求4所述的反射式光子晶体彩膜，其特征在于，所述二维光子晶体结构为圆孔结构，所述二维光子晶体结构的周期为240-280nm，所述二维光子晶体结构的占空比为20-30％，其中圆孔的深度为110-130nm，圆孔的直径为125-145nm。
7.根据权利要求4所述的反射式光子晶体彩膜，其特征在于，所述二维光子晶体结构为圆孔结构，所述二维光子晶体结构的周期为120-200nm，所述二维光子晶体结构的占空比为20-30％，其中圆孔的深度为90-110nm，圆孔的直径为90-110nm。
8.根据权利要求3所述的反射式光子晶体彩膜，其特征在于，所述二维光子晶体结构为圆柱结构，所述二维光子晶体结构的周期为210-230nm，所述二维光子晶体结构的占空比为20-30％，其中圆柱的高度为90-110nm，圆柱的直径为110-130nm。
9.根据权利要求8所述的反射式光子晶体彩膜，其特征在于，所述二维光子晶体结构的周期为220nm，所述圆柱的高度为100nm，所述圆柱的直径为124nm。
10.根据权利要求3所述的反射式光子晶体彩膜，其特征在于，所述二维光子晶体结构为圆柱结构，所述二维光子晶体结构的周期为290-320nm，所述二维光子晶体结构的占空比为20-30％，其中圆柱的高度为110-130nm，圆柱的直径为160-180nm。
11.根据权利要求10所述的反射式光子晶体彩膜，其特征在于，所述二维光子晶体结构的周期为300nm，所述圆柱的高度为120nm，所述圆柱的直径为170nm。
12.一种反射式光子晶体彩膜的制造方法，包括：
形成基底；
在基底上形成由包含硅的材料构成的薄膜；以及
通过对所述薄膜进行曝光蚀刻得到在基底表面上周期性分布的二维光子晶体结构。
13.根据权利要求12所述的反射式光子晶体彩膜的制造方法，其特征在于，所述二维光子晶体结构为柱状或孔状结构。
14.一种显示器件，包括：根据权利要求1-11所述的反射式光子晶体彩膜；形成在所述反射式光子晶体彩膜上的液晶；形成在所述液晶上的前置光源。
15.一种显示器件的制造方法，包括：
形成根据权利要求1-11所述的反射式光子晶体彩膜；
在所述反射式光子晶体彩膜上形成液晶；以及
在所述液晶上形成前置光源。
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