CN106773168B - 掩模版的制作方法及曲面液晶面板的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种掩模版的制作方法，包括：对盒阵列基板和彩膜基板以形成液晶盒，所述液晶盒包括用于形成黑色矩阵的制备表面，所述制备表面位于所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧或所述彩膜基板远离所述阵列基板的一侧；弯曲所述液晶盒至预定形状；点亮所述液晶盒；在所述制备表面上量测漏光区域的尺寸；以及依据所述漏光区域的尺寸形成对应的掩模版。本发明还公开一种曲面液晶面板的制备方法。通过所述掩模版的制作方法所形成的掩模版能够用于形成高质量的曲面液晶面板的黑色矩阵。

Description

掩模版的制作方法及曲面液晶面板的制作方法
技术领域
本发明涉及液晶显示面板技术领域，尤其涉及一种掩模版的制作方法以及一种曲面液晶面板的制作方法。
背景技术
大尺寸、轻薄、高分辨率和高品质画面是目前显示器的发展趋势。普通的大尺寸VA(Vertical Alignment，垂直配向)液晶显示器具有窄视角、色偏、失真的技术的局限性，为了突破目前的技术弊端，曲面液晶显示器应运而生。曲面液晶显示器以他的更宽广的可视角度、减少近距离观看的失真度、产品的差异化等优点逐渐受到青睐。
曲面液晶面板是曲面液晶显示器的核心组成部分。现有的曲面液晶面板的制程过程为：先完成制作平面状态的液晶面板，再将此平面状态的液晶面板弯曲，形成曲面液晶面板。现有的曲面液晶面板处于平面状态时，其阵列基板(Thin Film Transistor ArraySubstrate)上的数据线与彩膜基板(Color Filter Substrate)上的黑色矩阵对应。但当对该液晶面板进行弯曲，使其处于曲面状态时，由于曲面液晶面板具有一定的弧度，弯曲后的彩膜基板与阵列基板之间会产生相对滑动，使得黑色矩阵与数据线不再对应，而是相对于曲面液晶面板的径向产生了错位，从而导致出现漏光、串扰等缺陷，造成曲面液晶面板的显示图像失真，光学品味下降。如何形成高质量的曲面液晶面板的黑色矩阵是为业界难题。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种掩模版的制作方法，通过所述掩模版的制作方法所形成的掩模版能够用于形成高质量的曲面液晶面板的黑色矩阵。
此外，还提供一种曲面液晶面板的制备方法。
为了实现上述目的，本发明实施方式采用如下技术方案：
一方面，提供一种掩模版的制作方法，包括：
对盒阵列基板和彩膜基板以形成液晶盒，所述液晶盒包括用于形成黑色矩阵的制备表面，所述制备表面位于所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧或所述彩膜基板远离所述阵列基板的一侧；
弯曲所述液晶盒至预定形状；
点亮所述液晶盒；
在所述制备表面上量测漏光区域的尺寸；以及
依据所述漏光区域的尺寸形成对应的掩模版。
其中，所述“依据所述漏光区域的尺寸形成对应的掩模版”包括：
提供衬底；
依据所述漏光区域的尺寸在所述衬底上形成图案化的凹槽，所述凹槽的图形对应于所述漏光区域，以形成所述掩模版。
其中，所述“依据所述漏光区域的尺寸形成对应的掩模版”包括：
获取同一批次的多个所述液晶盒的所述漏光区域的尺寸；
计算多个所述漏光区域的尺寸的平均值，以获得待形成黑色矩阵的尺寸；
提供衬底；以及
依据所述待形成黑色矩阵的尺寸在所述衬底上形成图案化的凹槽，所述凹槽的图形对应于所述待形成黑色矩阵，以形成所述掩模版。
其中，所述漏光区域的尺寸包括所述漏光区域中心点与所述制备表面中心点之间的距离和所述漏光区域的轮廓尺寸。
其中，所述漏光区域的轮廓尺寸包括所述漏光区域的每个轮廓边的长度和/或所述漏光区域的每个轮廓端点与所述制备表面中心点之间的距离。
其中，所述预定形状为具有预定曲率半径的弧形。
另一方面，还提供一种曲面液晶面板的制作方法，包括：
对盒阵列基板和彩膜基板以形成液晶盒，所述液晶盒包括用于形成黑色矩阵的制备表面，所述制备表面位于所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧或所述彩膜基板远离所述阵列基板的一侧；
通过掩模版在所述制备表面形成黑色矩阵，所述掩模版由权利要求1～6任一项所述的掩模版的制作方法制作而成。
其中，还包括：
在所述液晶盒的另一侧形成第一偏光片，在所述黑色矩阵的远离所述液晶盒的一侧形成第二偏光片，以形成待弯曲液晶面板；
弯曲所述待弯曲液晶面板，以形成曲面液晶面板。
其中，所述“通过掩模版在所述制备表面形成黑色矩阵”包括：
在所述制备表面上形成黑色矩阵涂层；
通过纳米压印技术将所述掩模版的所述凹槽的图形转印至所述黑色矩阵涂层上，以形成所述黑色矩阵。
其中，所述纳米压印技术为热压印技术或激光纳米压印技术。。
相较于现有技术，本发明具有以下有益效果：
由于所述液晶盒包括用于形成黑色矩阵的制备表面，也即所述液晶盒不包括黑色矩阵，所述液晶盒被弯曲成对应于所述曲面液晶面板形状的预定形状，因此弯曲后的所述液晶盒被点亮后的所述漏光区域即为所述曲面液晶面板的待形成黑色矩阵所需要布置的区域。由于所述掩模版对应于所述漏光区域的尺寸，因此通过所述掩模版所形成的黑色矩阵被应用于曲面液晶面板时，能够防止所述曲面液晶面板出现漏光、串扰等缺陷，避免所述曲面液晶面板出现显示图像失真，所述曲面液晶面板的光学品味高。故而，通过所述掩模版的制作方法所形成的掩模版能够用于形成高质量的曲面液晶面板的黑色矩阵。
由于通过所述掩模版的制作方法所制作而成的掩模版能够有效遮挡所述曲面液晶面板的漏光区域，防止所述曲面液晶面板出现漏光、串扰等缺陷，避免所述曲面液晶面板出现显示图像失真，因此本实施例所述曲面液晶面板的制作方法所形成的所述液晶显示面板良率高。所述制备表面位于所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧，所述黑色矩阵形成在所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧时，所述黑色矩阵既可改善色偏，同时还可作为所述阵列基板的薄膜晶体管的遮光层，用于降低光生载流子引起的漏电流偏大问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以如这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种曲面液晶面板的制作方法中步骤S10所对应的结构示意图。
图2是本发明实施例提供的一种曲面液晶面板的制作方法中步骤S20所对应的结构示意图。
图3是本发明实施例提供的一种曲面液晶面板的制作方法中步骤S30所对应的结构示意图。
图4是本发明实施例提供的一种曲面液晶面板的制作方法中步骤S40所对应的结构示意图。
图5是本发明实施例提供的一种掩模版的制作方法中步骤S01所对应的结构示意图。
图6是本发明实施例提供的一种掩模版的制作方法中步骤S02所对应的结构示意图。
图7是本发明实施例提供的一种掩模版的制作方法中步骤S03所对应的结构示意图。
图8是本发明实施例提供的一种掩模版的制作方法中步骤S04所对应的结构示意图。
图9是本发明实施例提供的一种掩模版的制作方法中步骤S05所对应的结构示意图。
图10是本发明实施例提供的一种曲面液晶面板的彩膜基板的结构示意图。
图11是本发明实施例提供的一种曲面液晶面板的阵列基板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
此外，以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明中所提到的方向用语，例如，“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”、“侧面”等，仅是参考附加图式的方向，因此，使用的方向用语是为了更好、更清楚地说明及理解本发明，而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“设置在……上”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸地连接，或者一体地连接；可以是机械连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
此外，在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。若本说明书中出现“工序”的用语，其不仅是指独立的工序，在与其它工序无法明确区别时，只要能实现该工序所预期的作用则也包括在本用语中。另外，本说明书中用“～”表示的数值范围是指将“～”前后记载的数值分别作为最小值及最大值包括在内的范围。在附图中，结构相似或相同的单元用相同的标号表示。
请一并参阅1至图4，本发明实施例提供一种曲面液晶面板的制作方法，用于制作曲面液晶面板200。
所述曲面液晶面板的制作方法包括：
步骤S10：对盒阵列基板21和彩膜基板22以形成液晶盒23，所述液晶盒23包括用于形成黑色矩阵300的制备表面230，所述制备表面230位于所述阵列基板21远离所述彩膜基板22的一侧或所述彩膜基板22远离所述阵列基板21的一侧(如图1所示)。
步骤S20：通过掩模版在所述制备表面230形成黑色矩阵300。
步骤S30：在所述液晶盒23的另一侧形成第一偏光片24，在所述黑色矩阵300的远离所述液晶盒23的一侧形成第二偏光片25，以形成待弯曲液晶面板200’；
步骤S40：弯曲所述待弯曲液晶面板200’，以形成曲面液晶面板200。
请继续参阅图5至图9，本发明实施例还提供一种掩模版的制作方法，用于制作所述掩模版100。
所述掩模版的制作方法包括：
步骤S01：对盒阵列基板11和彩膜基板12以形成液晶盒13，所述液晶盒13包括用于形成黑色矩阵300的制备表面130，所述制备表面130位于所述阵列基板11远离所述彩膜基板12的一侧或所述彩膜基板12远离所述阵列基板11的一侧(如图5所示)。
步骤S02：弯曲所述液晶盒13至预定形状。
步骤S03：点亮所述液晶盒13。
步骤S04：在所述制备表面130上量测漏光区域14(如图8中填充有斜线的区域)的尺寸。
步骤S05：依据所述漏光区域14的尺寸形成对应的掩模版100。
在本实施例中，所述液晶盒13包括用于形成黑色矩阵300的制备表面130，也即所述液晶盒13不包括黑色矩阵300，所述液晶盒13被弯曲成对应于所述曲面液晶面板200形状的预定形状，因此弯曲后的所述液晶盒13被点亮后的所述漏光区域14即为所述曲面液晶面板200的待形成黑色矩阵300所需要布置的区域。由于所述掩模版100对应于所述漏光区域14的尺寸，因此通过所述掩模版100所形成的黑色矩阵300被应用于曲面液晶面板200时，能够防止所述曲面液晶面板200出现漏光、串扰等缺陷，避免所述曲面液晶面板200出现显示图像失真，所述曲面液晶面板200的光学品味高。故而，通过所述掩模版的制作方法所形成的掩模版100能够用于形成高质量的曲面液晶面板200的黑色矩阵300。
由于通过所述掩模版的制作方法所制作而成的掩模版100能够有效遮挡所述曲面液晶面板200的漏光区域，防止所述曲面液晶面板200出现漏光、串扰等缺陷，避免所述曲面液晶面板200出现显示图像失真，因此本实施例所述曲面液晶面板的制作方法所形成的所述液晶显示面板良率高。所述制备表面230位于所述阵列基板21远离所述彩膜基板22的一侧，所述黑色矩阵300形成在所述阵列基板21远离所述彩膜基板22的一侧时，所述黑色矩阵300既可改善色偏，同时还可作为所述阵列基板21的薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)的遮光层，用于降低光生载流子引起的漏电流偏大问题。
可以理解的，所述步骤S30为本实施例所述曲面液晶面板的制作方法的可选步骤，而非必要步骤。步骤S10所形成的所述液晶盒23为平面液晶盒，在所述液晶盒23上形成所述黑色矩阵300的难度较小，良率较高，而后再将形成有所述黑色矩阵300的所述液晶盒23弯曲成所述曲面液晶面板200所需要的形状。所述液晶盒23还包括位于所述彩膜基板22与所述阵列基板21之间的液晶层24。
所述预定形状对应于所述曲面液晶面板200的形状。举例而言，所述曲面液晶面板200为具有预定曲率半径的弧形，则所述预定形状为具有预定曲率半径的弧形。当然，在其他实施方式中，所述曲面液晶面板200还可包括其他曲面形状，所述预定形状随之变化。
所述掩模版的制作方法步骤S01中所述制备表面130的位置是对应所述曲面液晶面板的制作方法步骤S10中所述制备表面230的。具体而言，当步骤S10中的所述制备表面230位于所述阵列基板21远离所述彩膜基板22的一侧时，步骤S01中的制备表面130位于所述阵列基板11远离所述彩膜基板12的一侧。当步骤S10中的所述制备表面230位于所述彩膜基板22远离所述阵列基板21的一侧时，步骤S01中的制备表面130位于所述彩膜基板12远离所述阵列基板11的一侧。如图6所示，所述制备表面130位于弯曲后的所述液晶盒13的外弯面，在其他实施方式中，所述制备表面130也可位于弯曲后的所述液晶盒13的内弯面。所述阵列基板11与所述阵列基板21结构相同，所述彩膜基板12与所述彩膜基板22结构相同，所述液晶盒13与所述液晶盒23结构相同。
在一种实施方式中，所述“依据所述漏光区域14的尺寸形成对应的掩模版100”包括：
步骤S051：提供衬底101；
步骤S052：依据所述漏光区域14的尺寸在所述衬底101上形成图案化的凹槽102，所述凹槽102的图形对应于所述漏光区域14，以形成所述掩模版100。
在本实施例中，由于所述掩模版100的所述凹槽102的图形对应于所述漏光区域14，也即所述凹槽102的图形对应于所述待形成黑色矩阵300，因此可以将所述凹槽102的图形转印至所述曲面液晶面板200的制备表面上以形成黑色矩阵300。
在另一种实施方式中，所述“依据所述漏光区域14的尺寸形成对应的掩模版100”包括：
步骤S051：获取同一批次的多个所述液晶盒13的所述漏光区域14的尺寸。本步骤可通过重复步骤S01～步骤S04实现。
步骤S052：计算多个所述漏光区域14的尺寸的平均值，以获得待形成黑色矩阵300的尺寸。
步骤S053：提供衬底101。
步骤S054：依据所述待形成黑色矩阵300的尺寸在所述衬底101上形成图案化的凹槽102，所述凹槽102的图形对应于所述待形成黑色矩阵300，以形成所述掩模版100。
在本实施例中，所述待形成黑色矩阵300的尺寸适用于同一批次的多个所述液晶盒13，因此依据所述掩模版的制作方法所形成的所述掩模版100可适用于同一批次的所述曲面液晶面板200，从而提高大批量的所述曲面液晶面板200的生产效率、降低生产成本。
如图8所示，作为一种可选实施例，所述漏光区域14的尺寸包括所述漏光区域14中心点1401与所述制备表面130中心点1301之间的距离和所述漏光区域14的轮廓尺寸。
在本实施例中，所述漏光区域14的尺寸是在所述制备表面130上量测的，量测的是在所述制备表面130上的尺寸。例如，若所述制备表面130为弧面，则量测弧面上的弧线距离的尺寸；若所述制备表面130为拼接的多个平面，则量测的尺寸为每个平面上的直线距离的尺寸的和。
可选的，所述漏光区域14的轮廓尺寸包括所述漏光区域14的每个轮廓边1402的长度，例如矩形轮廓则为四边的尺寸。在一种实施方式中，所述漏光区域14的轮廓尺寸还包括所述漏光区域14的每个轮廓端点1403与所述制备表面130中心点1301之间的距离，例如矩形轮廓的四个端点与所述制备表面130中心点之间的距离。
在一种可选实施例中，所述“通过掩模版100在所述制备表面230形成黑色矩阵300”包括：
步骤S21：在所述制备表面230上形成黑色矩阵涂层；
步骤S22：通过纳米压印技术将所述掩模版100的所述凹槽102的图形转印至所述黑色矩阵涂层上，以形成所述黑色矩阵300。
可选的，所述黑色矩阵涂层的厚度为0.8um至1.2um，例如1.0um。
可选的，所述纳米压印技术为热压印技术或激光纳米压印技术。
请继续参阅图10，在一种可选实施例中，所述“对盒阵列基板21和彩膜基板22以形成液晶盒23”步骤之前，所述曲面液晶面板的制作方法还包括：
在第一基板221上形成彩色滤光层222；
在所述彩色滤光层222的远离所述第一基板221的一侧公共电极层223；及
在所述公共电极层223的远离所述彩色滤光层222的一侧形成隔垫物224，以形成所述彩膜基板22。
可选的，所述彩色滤光层222包括轮流交替排布的红色色阻、绿色色阻以及蓝色色阻。
请继续参阅图11，在一种可选实施例中，所述“对盒阵列基板21和彩膜基板22以形成液晶盒23”步骤之前，所述曲面液晶面板的制作方法还包括：
在第二基板211上形成薄膜晶体管层212；
在所述薄膜晶体管层212的远离所述第二基板211的一侧形成数据线213，以形成所述阵列基板21。
可选的，所述“在第二基板211上形成薄膜晶体管层212”的步骤包括：
在所述第二基板211上形成栅极层；
在所述栅极层的远离所述第二基板211的一侧形成栅极绝缘层；
在所述栅极绝缘层的远离所述栅极层的一侧形成半导体层；以及
在所述栅极绝缘层的远离所述栅极层的一侧形成源极和漏极，所述源极和所述漏极分别连接至所述半导体层的两端，以形成所述薄膜晶体管层212。
可以理解的，所述彩色滤光层也可形成在所述阵列基板21上。
可选的，若所述制备表面230位于所述第一基板221，则可薄化所述第一基板221后再形成所述黑色矩阵涂层。若所述制备表面230位于所述第二基板211，则可薄化所述第二基板211后再形成所述黑色矩阵涂层。在本实施例中，所述曲面液晶面板200的显示质量更高。
以上对本发明实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (8)

1.一种掩模版的制作方法，所述掩模版应用于曲面液晶面板的黑色矩阵的制作过程中，其特征在于，所述掩模版的制作方法包括：
对盒测试阵列基板和测试彩膜基板以形成测试液晶盒，所述测试液晶盒包括用于形成黑色矩阵的测试制备表面，所述测试制备表面位于所述测试阵列基板远离所述测试彩膜基板的一侧或所述测试彩膜基板远离所述测试阵列基板的一侧，所述测试液晶盒不包括黑色矩阵；
弯曲所述测试液晶盒至预定形状，其中，所述预定形状对应于所述曲面液晶面板的形状，所述预定形状为具有预定曲率半径的弧形；
点亮所述测试液晶盒；
在所述测试制备表面上量测漏光区域的尺寸，所述漏光区域的尺寸包括所述漏光区域中心点与所述测试制备表面中心点之间的距离和所述漏光区域的轮廓尺寸；以及
依据所述漏光区域的尺寸形成对应的掩模版；
其中，所述“依据所述漏光区域的尺寸形成对应的掩模版”包括：
提供衬底；
依据所述漏光区域的尺寸在所述衬底上形成图案化的凹槽，所述凹槽的图形对应于所述漏光区域，以形成所述掩模版。
2.如权利要求1所述的掩模版的制作方法，其特征在于，所述“依据所述漏光区域的尺寸在所述衬底上形成图案化的凹槽”中的所述漏光区域的尺寸为单个所述测试液晶盒的漏光区域的尺寸。
3.如权利要求1所述的掩模版的制作方法，其特征在于，所述“依据所述漏光区域的尺寸在所述衬底上形成图案化的凹槽”中的所述漏光区域的尺寸为同一批次的多个所述测试液晶盒的漏光区域的尺寸的平均值。
4.如权利要求1～3任一项所述的掩模版的制作方法，其特征在于，所述漏光区域的轮廓尺寸包括所述漏光区域的每个轮廓边的长度和/或所述漏光区域的每个轮廓端点与所述测试制备表面中心点之间的距离。
5.一种曲面液晶面板的制作方法，其特征在于，包括：
对盒阵列基板和彩膜基板以形成液晶盒，所述液晶盒包括用于形成黑色矩阵的制备表面，所述制备表面位于所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧或所述彩膜基板远离所述阵列基板的一侧；
通过掩模版在所述制备表面形成黑色矩阵，所述掩模版由权利要求1～4任一项所述的掩模版的制作方法制作而成。
6.如权利要求5所述的曲面液晶面板的制作方法，其特征在于，还包括：
在所述液晶盒的远离所述黑色矩阵的一侧形成第一偏光片，在所述黑色矩阵的远离所述液晶盒的一侧形成第二偏光片，以形成待弯曲液晶面板，其中，所述第一偏光片与所述第二偏光片之间具有所述液晶盒；
弯曲所述待弯曲液晶面板，以形成曲面液晶面板。
7.如权利要求5所述的曲面液晶面板的制作方法，其特征在于，所述“通过掩模版在所述制备表面形成黑色矩阵”包括：
在所述制备表面上形成黑色矩阵涂层；
通过纳米压印技术将所述掩模版的所述凹槽的图形转印至所述黑色矩阵涂层上，以形成所述黑色矩阵。
8.如权利要求7所述的曲面液晶面板的制作方法，其特征在于，所述纳米压印技术为热压印技术或激光纳米压印技术。
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