CN106767444A - 一种结构位移监测系统及相关监测方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种结构位移监测系统，其中光线发射装置用于安装在被监测结构上，光线发射装置朝向光线接收装置的光线投射平面设置用于发射光线至光线投射平面上形成光斑，光线投射平面与光线成角度α设置，光斑位移测量装置朝向光线投射平面设置用于测量光斑在一段时间间隔内在光线投射平面上的光斑位移z，并与结构位移计算装置信号连接用于将光斑位移z发送给它，结构位移计算装置用于根据光斑位移z和角度α计算被监测结构在时间间隔内在与光线垂直的方向上的结构位移x＝z*Sinα。还提供了相关监测方法。本发明的结构位移监测系统监测结构位移省时省力，成本低，而且精度高，监测准确稳定，可以实时记录结构动态位移变化，适于大规模推广应用。
Description
技术领域
本发明涉及建筑施工技术领域，特别涉及建筑结构及基坑支护结构等结构变形位移监测技术领域，具体是指一种结构位移监测系统及相关监测方法。
背景技术
随着我国城市化进程的加快，城市建设事业飞速发展，城市中高层和大型建筑日益增多。因此，建筑物的基坑开挖深度和规模也越来越大。由于在城市中不仅建筑密度一般比较大，而且城市道路以及地下管线纵横交错。因此，基坑开挖除必须确保相邻建筑物的安全外，还必须保证城市干道安全运行。这样，在深基坑开挖和施工过程中，对支护结构体系和邻近建筑物的安全性、稳定性和监测显得十分重要。
常规的建筑结构或基坑支护结构变形位移监测方法主要是设置多个监测点，然后采用经纬仪采用视准线法监测，刚开始几次每月观察一次，后面几次每周甚至每2天观察一次，不仅费时费力，成本高，而且精度低，容易出错，结构动态位移变化无法实现实时记录。
因此，希望提供一种结构位移监测方法，其省时省力，成本低，而且精度高，监测准确稳定，可以实时记录结构动态位移变化。
发明内容
为了克服上述现有技术中的缺点，本发明的一个目的在于提供一种结构位移监测系统，采用该系统监测结构位移省时省力，成本低，而且精度高，监测准确稳定，可以实时记录结构动态位移变化，适于大规模推广应用。
本发明的另一目的在于提供一种结构位移监测系统，其设计巧妙，结构简洁，制造简便，成本低，适于大规模推广应用。
本发明的另一目的在于提供一种结构位移激光监测方法，采用该方法监测结构位移省时省力，成本低，而且精度高，监测准确稳定，可以实时记录结构动态位移变化，适于大规模推广应用。
本发明的另一目的在于提供一种结构位移激光监测方法，其设计巧妙，操作简便，适于大规模推广应用。
为达到以上目的，在本发明的第一方面，提供了一种结构位移监测系统，其特点是，包括光线发射装置、光线接收装置、光斑位移测量装置和结构位移计算装置，所述光线发射装置用于安装在被监测结构上，所述光线接收装置具有光线投射平面，所述光线发射装置朝向所述光线投射平面设置用于发射光线至所述光线投射平面上形成光斑，所述光线投射平面与所述光线成角度α设置，所述光斑位移测量装置朝向所述光线投射平面设置用于测量所述光斑在一段时间间隔内在所述光线投射平面上的光斑位移z，所述光斑位移测量装置与所述结构位移计算装置信号连接用于将所述光斑位移z发送至所述结构位移计算装置，所述结构位移计算装置用于根据所述光斑位移z和所述角度α计算所述被监测结构在所述时间间隔内在与所述光线垂直的方向上的结构位移x＝z*Sinα。
较佳地，所述光线发射装置是激光发射装置。
较佳地，所述光线接收装置是光线接收板，所述光线投射平面是所述光线接收板的其中一个表面。
较佳地，所述光斑位移测量装置包括图像拍摄部件和图像处理分析模块，所述图像拍摄部件朝向所述光线投射平面设置用于在所述时间间隔开始和结束时对所述光线投射平面上包含所述光斑的区域分别拍摄第一图像和第二图像，所述图像拍摄部件与所述图像处理分析模块信号连接用于将所述第一图像和所述第二图像发送至所述图像处理分析模块，所述图像处理分析模块用于对所述第一图像和所述第二图像进行分析从而获得所述光斑位移z。
更佳地，所述图像拍摄部件是照相机。
更佳地，所述分析具体包括：所述图像处理分析模块对所述第一图像和所述第二图像均进行灰度化和二值化操作从而获得第一处理图像和第二处理图像，然后所述图像处理分析模块扫描所述第一处理图像和所述第二处理图像分别得到所述光斑的第一形心坐标(X1，Y1)和第二形心坐标(X2，Y2)，最后所述图像处理分析模块根据所述第一形心坐标(X1，Y1)和所述第二形心坐标(X2，Y2)计算获得所述光斑位移较佳地，所述角度α为锐角。
在本发明的第二方面，提供了一种结构位移监测方法，其特点是，所述结构位移监测方法采用结构位移监测系统，所述结构位移监测系统包括光线发射装置、光线接收装置、光斑位移测量装置和结构位移计算装置，所述光线接收装置具有光线投射平面，所述光线发射装置朝向所述光线投射平面设置，所述光线投射平面与所述光线成角度α设置，所述光斑位移测量装置朝向所述光线投射平面设置，所述光斑位移测量装置与所述结构位移计算装置信号连接，所述结构位移监测方法包括以下步骤：
(1)将所述光线发射装置安装在被监测结构上；
(2)所述光线发射装置发射光线至所述光线投射平面上形成光斑；
(3)所述光斑位移测量装置测量所述光斑在一段时间间隔内在所述光线投射平面上的光斑位移z；
(4)所述光斑位移测量装置将所述光斑位移z发送至所述结构位移计算装置；
(5)所述结构位移计算装置根据所述光斑位移z和所述角度α计算所述被监测结构在所述时间间隔内在与所述光线垂直的方向上的结构位移x＝z*Sinα。
较佳地，所述光斑位移测量装置包括图像拍摄部件和图像处理分析模块，所述图像拍摄部件朝向所述光线投射平面设置，所述图像拍摄部件与所述图像处理分析模块信号连接，所述步骤(3)具体包括：
(31)所述图像拍摄部件在所述时间间隔开始和结束时对所述光线投射平面上包含所述光斑的区域分别拍摄第一图像和第二图像；
(32)所述图像拍摄部件将所述第一图像和所述第二图像发送至所述图像处理分析模块；
(33)所述图像处理分析模块对所述第一图像和所述第二图像进行分析从而获得所述光斑位移z。
更佳地，在所述步骤(33)中，所述分析具体包括：所述图像处理分析模块对所述第一图像和所述第二图像均进行灰度化和二值化操作从而获得第一处理图像和第二处理图像，然后所述图像处理分析模块扫描所述第一处理图像和所述第二处理图像分别得到所述光斑的第一形心坐标(X1，Y1)和第二形心坐标(X2，Y2)，最后所述图像处理分析模块根据所述第一形心坐标(X1，Y1)和所述第二形心坐标(X2，Y2)计算获得所述光斑位移
本发明的结构位移监测方法采用的结构位移监测系统的其它附加技术特征可以参见本发明的第一方面的结构位移监测系统的其它附加技术特征。
本发明的有益效果主要在于：
1、本发明的结构位移监测系统的光线发射装置用于安装在被监测结构上，光线接收装置具有光线投射平面，光线发射装置朝向光线投射平面设置用于发射光线至光线投射平面上形成光斑，光线投射平面与光线成角度α设置，光斑位移测量装置朝向光线投射平面设置用于测量光斑在一段时间间隔内在光线投射平面上的光斑位移z，光斑位移测量装置与结构位移计算装置信号连接用于将光斑位移z发送至结构位移计算装置，结构位移计算装置用于根据光斑位移z和角度α计算被监测结构在时间间隔内在与光线垂直的方向上的结构位移x＝z*Sinα，因此，采用该系统监测结构位移省时省力，成本低，而且精度高，监测准确稳定，可以实时记录结构动态位移变化，适于大规模推广应用。
2、本发明的结构位移监测系统的光线发射装置用于安装在被监测结构上，光线接收装置具有光线投射平面，光线发射装置朝向光线投射平面设置用于发射光线至光线投射平面上形成光斑，光线投射平面与光线成角度α设置，光斑位移测量装置朝向光线投射平面设置用于测量光斑在一段时间间隔内在光线投射平面上的光斑位移z，光斑位移测量装置与结构位移计算装置信号连接用于将光斑位移z发送至结构位移计算装置，结构位移计算装置用于根据光斑位移z和角度α计算被监测结构在时间间隔内在与光线垂直的方向上的结构位移x＝z*Sinα，因此，设计巧妙，结构简洁，制造简便，成本低，适于大规模推广应用。
本发明的这些和其它目的、特点和优势，通过下述的详细说明，附图和权利要求得以充分体现，并可通过所附权利要求中特地指出的手段、装置和它们的组合得以实现。
附图说明
图1是本发明的结构位移监测系统的一具体实施例的俯视示意图。
图2是使用图1所示的具体实施例监测被监测结构位移的俯视示意图，其中被监测结构从位置A1移动到位置A2，光线发射装置从位置B1移动到位置B2，光斑从位置C1移动到位置C2，被监测结构和光线发射装置的移动方向采用竖向箭头表示，光斑的移动方向采用倾斜箭头表示，在位置A1的被监测结构、在位置B1的光线发射装置及其发出的光线采用实线表示，在位置A2的被监测结构、在位置B2的光线发射装置及其发出的光线采用等长虚线表示，图像拍摄部件拍摄的范围采用长短虚线表示。
(符号说明)
1光线发射装置；11光线；12光斑；2光线接收装置；21光线投射平面；3光斑位移测量装置；31图像拍摄部件；32图像处理分析模块；4结构位移计算装置；10被监测结构；20基坑支护结构。
具体实施方式
为了能够更清楚地理解本发明的技术内容，特举以下实施例详细说明。
请参见图1所示，在本发明的一具体实施例中，本发明的结构位移监测系统包括光线发射装置1、光线接收装置2、光斑位移测量装置3和结构位移计算装置4，所述光线发射装置1用于安装在被监测结构10上，所述光线接收装置2具有光线投射平面21，所述光线发射装置1朝向所述光线投射平面21设置用于发射光线11至所述光线投射平面21上形成光斑12，所述光线投射平面21与所述光线11成角度α设置，所述光斑位移测量装置3朝向所述光线投射平面21设置用于测量所述光斑12在一段时间间隔内在所述光线投射平面21上的光斑位移z，所述光斑位移测量装置3与所述结构位移计算装置4信号连接用于将所述光斑位移z发送至所述结构位移计算装置4，所述结构位移计算装置4用于根据所述光斑位移z和所述角度α计算所述被监测结构10在所述时间间隔内在与所述光线11垂直的方向上的结构位移x＝z*Sinα。
所谓“光斑位移”指的是光斑12产生的位移，所谓“结构位移”指的是被监测结构10产生的位移，为了区分这两者的位移，因此分别称为“光斑位移”和“结构位移”。
所述时间间隔具体为多少时间可以根据需要确定，例如1小时、6小时、1天、1周、一个月等等，由于结构变形通常比较缓慢，所述时间间隔可以为1天。
所述光线发射装置1可以是任何合适的光线发射装置，只要能够发射光线11至所述光线投射平面21上形成光斑12即可，即其功率需要保证光线11投射距离满足监测位置(光线发射装置1所在位置)到光线投射平面21的距离，光斑12不散失、不扩大，所述光线发射装置1可以是，例如，激光发射装置、红外线发射装置等等，在本发明的一具体实施例中，所述光线发射装置1是激光发射装置。所述激光发射装置可以是任何合适的激光发射装置，例如激光笔。所述红外线发射装置可以是任何合适的红外线发射装置，例如红外线笔。
所述光线接收装置2可以是任何合适的光线接收装置，请参见图1所示，在本发明的一具体实施例中，所述光线接收装置2是光线接收板，所述光线投射平面21是所述光线接收板的其中一个表面。
所述光斑位移测量装置3可以具有任何合适的构成，只要能够测量所述光斑12在一段时间间隔内在所述光线投射平面21上的光斑位移z即可，请参见图1所示，在本发明的一具体实施例中，所述光斑位移测量装置3包括图像拍摄部件31和图像处理分析模块32，所述图像拍摄部件31朝向所述光线投射平面21设置用于在所述时间间隔开始和结束时对所述光线投射平面21上包含所述光斑12的区域分别拍摄第一图像和第二图像进行拍摄，所述图像拍摄部件31与所述图像处理分析模块32信号连接用于将所述第一图像和所述第二图像发送至所述图像处理分析模块32，所述图像处理分析模块32用于对所述第一图像和所述第二图像进行分析从而获得所述光斑位移z。
所述图像拍摄部件31可以是任何合适的图像拍摄部件，请参见图1所示，在本发明的一具体实施例中，所述图像拍摄部件31是照相机。所述照相机可以是任何合适的照相机，例如工业相机。
所述分析可以采用合适的方法和步骤，其目的是通过所述第一图像和所述第二图像所包含的信息从而获得所述光斑位移z，在本发明的一具体实施例中，所述分析具体包括：所述图像处理分析模块32对所述第一图像和所述第二图像均进行灰度化和二值化操作从而获得第一处理图像和第二处理图像，然后所述图像处理分析模块32扫描所述第一处理图像和所述第二处理图像分别得到所述光斑12的第一形心坐标(X1，Y1)和第二形心坐标(X2，Y2)，最后所述图像处理分析模块32根据所述第一形心坐标(X1，Y1)和所述第二形心坐标(X2，Y2)计算获得所述光斑位移这里的第一形心坐标和第二形心坐标分别是所述光斑12进行光斑位移z前后所在位置的形心坐标。
而为了成功监测光斑12的形心坐标，首先要将光斑12与周围的环境背景分离开来，这需要对图像拍摄部件31监测到的图像先进行两步操作，即灰度化和二值化。得到二值化图像后，再通过扫描二值化图像得到图像中光斑12的形心坐标。
根据所述光线投射平面21相对于所述光线11的倾斜程度，所述角度α可以为锐角、直角和钝角，请参见图1所示，在本发明的一具体实施例中，所述角度α为锐角，例如30°。
所述被监测结构10可以是任何合适的结构，例如建筑结构或基坑支护结构20，请参见图1所示，在本发明的一具体实施例中，所述被监测结构10是基坑支护结构20。
所述光斑位移测量装置3朝向所述光线投射平面21设置可以采用任何合适的角度，只要能够测量所述光斑12在所述光线投射平面21上的光斑位移z即可，较佳地，所述光斑位移测量装置3垂直于所述光线投射平面21设置，请参见图1所示，在本发明的一具体实施例中，在所述光斑位移测量装置3包括图像拍摄部件31和图像处理分析模块32的情况下，所述图像拍摄部件31垂直于所述光线投射平面21设置。
采用上述结构位移监测系统进行的结构位移监测方法主要包括以下步骤：
(1)将所述光线发射装置1安装在被监测结构10上；
(2)所述光线发射装置1发射光线11至所述光线投射平面21上形成光斑12；
(3)所述光斑位移测量装置3测量在一段时间间隔内所述光斑12在所述光线投射平面21上的光斑位移z；
(4)所述光斑位移测量装置3将所述光斑位移z发送至所述结构位移计算装置4；
(5)所述结构位移计算装置4根据所述光斑位移z和所述角度α计算所述被监测结构10在所述时间间隔内在与所述光线11垂直的方向上的结构位移x＝z*Sinα。
所述光斑位移z可以是0，也就是说光斑12在所述时间间隔内没有移动产生光斑位移z，则计算结果为结构位移x＝0，表明被检测结构10在所述时间间隔内在与所述光线11垂直的方向上未发生变形产生结构位移x。
在所述光斑位移测量装置3包括图像拍摄部件31和图像处理分析模块32的情况下，所述步骤(3)具体包括：
(31)所述图像拍摄部件31在所述时间间隔开始和结束时对所述光线投射平面21包含所述光斑12的区域分别拍摄第一图像和第二图像；
(32)所述图像拍摄部件31将所述第一图像和所述第二图像发送至所述图像处理分析模块32；
(33)所述图像处理分析模块32对所述第一图像和所述第二图像进行分析从而获得所述光斑位移z。
更佳地，在所述步骤(33)中，所述分析具体包括：所述图像处理分析模块32对所述第一图像和所述第二图像均进行灰度化和二值化操作从而获得第一处理图像和第二处理图像，然后所述图像处理分析模块32扫描所述第一处理图像和所述第二处理图像分别得到所述光斑12的第一形心坐标(X1，Y1)和第二形心坐标(X2，Y2)，最后所述图像处理分析模块32根据所述第一形心坐标(X1，Y1)和所述第二形心坐标(X2，Y2)计算获得所述光斑位移
下面参照图2进一步详细说明如何采用上述监测结构位移监测系统监测结构位移。
例如，以被监测结构10为基坑支护结构20以及光线投射平面21与光线发射装置1发射的光线11成角度α为30°为例，要监测基坑支护结构20在图2中沿竖向箭头方向变形产生的结构位移x时，将光线发射装置1安装在基坑支护结构20上，光线发射装置1发射的光线11方向与竖向箭头方向(结构变形位移方向，也就是要监测的变形方向)垂直，然后光线发射装置1发射光线11至光线投射平面21上形成光斑12，如果基坑支护结构20在一段时间间隔内沿竖向箭头方向从位置A1移动到位置A2产生结构位移x时，则光线发射装置1随之移动，也沿竖向箭头方向从位置B1移动到位置B2，连带光斑12在光线投射平面21上沿倾斜箭头从位置C1移动到C2，通过光斑位移测量装置3测量光斑12在该时间间隔内在光线投射平面21上的光斑位移z并将光斑位移z发送至结构位移计算装置4，结构位移计算装置4根据光斑位移z和角度α为30°计算基坑支护结构20在该时间间隔内在与光线11垂直的方向上的结构位移x＝z*Sinα＝z*Sin30°＝z*(1/2)＝0.5z。
当光斑位移测量装置3包括图像拍摄部件31和图像处理分析模块32时，在该时间间隔开始时，图像拍摄部件31对光线投射平面21上包含所述光斑12的区域进行拍摄获得第一图像，在该时间间隔结束时，图像拍摄部件31对光线投射平面21上包含所述光斑12的区域进行拍摄获得第二图像，期间图像拍摄部件31保持不动，然后将第一图像和第二图像发送至图像处理分析模块32，图像处理分析模块32对第一图像和第二图像均进行灰度化和二值化操作从而获得第一处理图像和第二处理图像，然后扫描第一处理图像和第二处理图像分别得到光斑12的第一形心坐标和第二形心坐标，最后根据第一形心坐标和第二形心坐标计算获得光斑位移z。
通过本发明，可以实时显示光斑12的二维坐标和坐标变化图，实时输出坐标数据。监测系统硬件部分均为市售的标准光电子设备和光学器件，组装灵活方便，成本低廉，更有利于硬件设备的升级换代，向更高性能拓展。
本发明还进行了一系列的静态和动态位移监测实验，结果表明，此方法具有较高的监测精度和速度，并在钢桁桥模型上进行了桥梁跨中位移监测实验，证明了本方法在实际工程中的适用性。
需要提及的是，上述的图像处理分析模块和结构位移计算装置实现的功能可以通过单一装置例如计算机提供。
因此，为了监测建筑结构或基坑支护结构等变形，本发明提出一种基于光线投射传感技术。光线投射传感技术包括光线发射装置、光线接收装置、光斑位移测量装置和结构位移计算装置。光线发射装置固定于需要监测的建筑结构或基坑支护结构上，固定牢固，可以随结构变形一起产生位移。当建筑结构或基坑支护结构发生位移时，固定其上的光线发射装置发生位移，位移量与其相同。光线束投射在光线接收装置的光线投射平面上，光线投射平面上的光斑随光线发射装置的位移发生位移，光斑位移量与光线发射装置位移量按照角度关系进行换算。
从而，本发明的结构位移监测系统和结构位移监测方法具有很多优势，包括但不限于：
1、精度高，成本低；
2、图像可以实时采集，图像采样频率高，可以完整的反映出结构动态位移的变化；
3、图像处理的效率高，满足实时采集，实时处理，位移曲线实时显示的要求；
4、满足针对采集得到的数据进行扩展性数据分析的要求；
5、便于技术升级。
综上，本发明的结构位移监测系统监测结构位移省时省力，成本低，而且精度高，监测准确稳定，可以实时记录结构动态位移变化，并且设计巧妙，结构简洁，制造简便，成本低，适于大规模推广应用。
由此可见，本发明的目的已经完整并有效的予以实现。本发明的功能及结构原理已在实施例中予以展示和说明，在不背离所述原理下，实施方式可作任意修改。所以，本发明包括了基于权利要求精神及权利要求范围的所有变形实施方式。
Claims (10)
1.一种结构位移监测系统，其特征在于，包括光线发射装置、光线接收装置、光斑位移测量装置和结构位移计算装置，所述光线发射装置用于安装在被监测结构上，所述光线接收装置具有光线投射平面，所述光线发射装置朝向所述光线投射平面设置用于发射光线至所述光线投射平面上形成光斑，所述光线投射平面与所述光线成角度α设置，所述光斑位移测量装置朝向所述光线投射平面设置用于测量所述光斑在一段时间间隔内在所述光线投射平面上的光斑位移z，所述光斑位移测量装置与所述结构位移计算装置信号连接用于将所述光斑位移z发送至所述结构位移计算装置，所述结构位移计算装置用于根据所述光斑位移z和所述角度α计算所述被监测结构在所述时间间隔内在与所述光线垂直的方向上的结构位移x＝z*Sinα。
2.如权利要求1所述的结构位移监测系统，其特征在于，所述光线发射装置是激光发射装置。
3.如权利要求1所述的结构位移监测系统，其特征在于，所述光线接收装置是光线接收板，所述光线投射平面是所述光线接收板的其中一个表面。
4.如权利要求1所述的结构位移监测系统，其特征在于，所述光斑位移测量装置包括图像拍摄部件和图像处理分析模块，所述图像拍摄部件朝向所述光线投射平面设置用于在所述时间间隔开始和结束时对所述光线投射平面上包含所述光斑的区域分别拍摄第一图像和第二图像，所述图像拍摄部件与所述图像处理分析模块信号连接用于将所述第一图像和所述第二图像发送至所述图像处理分析模块，所述图像处理分析模块用于对所述第一图像和所述第二图像进行分析从而获得所述光斑位移z。
5.如权利要求4所述的结构位移监测系统，其特征在于，所述图像拍摄部件是照相机。
6.如权利要求4所述的结构位移监测系统，其特征在于，所述分析具体包括：所述图像处理分析模块对所述第一图像和所述第二图像均进行灰度化和二值化操作从而获得第一处理图像和第二处理图像，然后所述图像处理分析模块扫描所述第一处理图像和所述第二处理图像分别得到所述光斑的第一形心坐标(X1，Y1)和第二形心坐标(X2，Y2)，最后所述图像处理分析模块根据所述第一形心坐标(X1，Y1)和所述第二形心坐标(X2，Y2)计算获得所述光斑位移
7.如权利要求1所述的结构位移监测系统，其特征在于，所述角度α为锐角。
8.一种结构位移监测方法，其特征在于，所述结构位移监测方法采用结构位移监测系统，所述结构位移监测系统包括光线发射装置、光线接收装置、光斑位移测量装置和结构位移计算装置，所述光线接收装置具有光线投射平面，所述光线发射装置朝向所述光线投射平面设置，所述光线投射平面与所述光线成角度α设置，所述光斑位移测量装置朝向所述光线投射平面设置，所述光斑位移测量装置与所述结构位移计算装置信号连接，所述结构位移监测方法包括以下步骤：
(1)将所述光线发射装置安装在被监测结构上；
(2)所述光线发射装置发射光线至所述光线投射平面上形成光斑；
(3)所述光斑位移测量装置测量所述光斑在一段时间间隔内在所述光线投射平面上的光斑位移z；
(4)所述光斑位移测量装置将所述光斑位移z发送至所述结构位移计算装置；
(5)所述结构位移计算装置根据所述光斑位移z和所述角度α计算所述被监测结构在所述时间间隔内在与所述光线垂直的方向上的结构位移x＝z*Sinα。
9.如权利要求8所述的结构位移监测方法，其特征在于，所述光斑位移测量装置包括图像拍摄部件和图像处理分析模块，所述图像拍摄部件朝向所述光线投射平面设置，所述图像拍摄部件与所述图像处理分析模块信号连接，所述步骤(3)具体包括：
(31)所述图像拍摄部件在所述时间间隔开始和结束时对所述光线投射平面上包含所述光斑的区域分别拍摄第一图像和第二图像；
(32)所述图像拍摄部件将所述第一图像和所述第二图像发送至所述图像处理分析模块；
(33)所述图像处理分析模块对所述第一图像和所述第二图像进行分析从而获得所述光斑位移z。
10.如权利要求9所述的结构位移监测方法，其特征在于，在所述步骤(33)中，所述分析具体包括：所述图像处理分析模块对所述第一图像和所述第二图像均进行灰度化和二值化操作从而获得第一处理图像和第二处理图像，然后所述图像处理分析模块扫描所述第一处理图像和所述第二处理图像分别得到所述光斑的第一形心坐标(X1，Y1)和第二形心坐标(X2，Y2)，最后所述图像处理分析模块根据所述第一形心坐标(X1，Y1)和所述第二形心坐标(X2，Y2)计算获得所述光斑位移
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