CN106750419A - 一种采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法 - Google Patents

一种采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN106750419A
CN106750419A CN201611095373.7A CN201611095373A CN106750419A CN 106750419 A CN106750419 A CN 106750419A CN 201611095373 A CN201611095373 A CN 201611095373A CN 106750419 A CN106750419 A CN 106750419A
Authority
CN
China
Prior art keywords
thermoplastic polymer
room temperature
multilevel hierarchy
substrate
hydrophilic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201611095373.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106750419B (zh
Inventor
石刚
车友新
李赢
王大伟
倪才华
王利魁
桑欣欣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jiangnan University
Original Assignee
Jiangnan University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jiangnan University filed Critical Jiangnan University
Priority to CN201611095373.7A priority Critical patent/CN106750419B/zh
Publication of CN106750419A publication Critical patent/CN106750419A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106750419B publication Critical patent/CN106750419B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12—Chemical modification
    • C08J7/123—Treatment by wave energy or particle radiation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2325/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Derivatives of such polymers
    • C08J2325/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
    • C08J2325/04—Homopolymers or copolymers of styrene
    • C08J2325/06—Polystyrene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2333/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2333/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2333/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C08J2333/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C08J2333/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

本发明涉及采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法，包括以下步骤：(1)首先将热塑性聚合物固体溶解到溶剂中；(2)然后将热塑性聚合物溶液旋涂或喷涂在软模板表面；(3)使得步骤(2)中软模板上的热塑性聚合物表面亲水；(4)最后将经过步骤(3)处理后的表面在室温下与亲水处理后的基底接触，将软模板从基底表面分离开，软模板表面的聚合物转移到基底表面；(5)重复步骤(2)～(4)，在步骤(4)得到的一级结构表面构筑二级结构，以此类推，得到所需要的不同级数的多级结构。本发明一种涉及基于室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法，同时此类多级结构可应用于疏水材料和消反射材料。

Description

一种采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法
技术领域
本发明涉及材料微纳加工技术领域，尤其涉及一种采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法。
背景技术
多级结构材料指以不同尺度或不同化学组份的结构基元通过多种相互作用搭建而成的构筑物质，具有高比表面积、高孔隙率和低密度等特性，在催化、生物、能量存储、光电子、锂离子电池等众多领域具有广泛应用。人们通过研究发现飞蛾的眼角膜排列成六角形阵列，上面有很多细小的凸形纳米阵列，这种复合结构使得飞蛾的眼角膜表现出很强的消反射效果。通过模仿飞蛾复眼的这种多级结构可以实现折射系数从空气到基底的缓慢变化从而减少反射光的损失，进而应用于太阳能电池和光电设备等领域。同时人们还发现水稻叶在平行于叶脉方向有约50μm左右的大沟槽，在沟槽上又分布着无数直径为5μm左右的微柱，从而使水滴落在水稻上时会沿着叶脉方向落下。模仿水稻叶的这种各向异性疏水性制备的多级材料可以应用于微流体领域。
多级结构材料的构筑方法主要包括自组装法、仿生法、模板法等。例如，CN104476895A报道了一种模板压印和表面起皱相结合构筑多级有序微结构的方法，通过改变模板压印得到的一级形貌与表面起皱得到的二级形貌相交角度,控制复合形貌的各向异性；CN1919720报道了一种制备多级硅纳米器件的方法，结合扫描探针显微镜分辨率高、操作灵活的优点和微电子工业中已经相对成熟的化学湿法刻蚀技术，实现了多级结构的制备加工。目前构筑多级结构的方法工艺比较复杂，而且需要特殊的仪器和设备，难于实现大面积的制备，限制了多级结构的发展和应用。
发明内容
本发明目的是为了克服传统模板法制备多级材料过程中的设备高昂、操作复杂及耗时较长的缺点，提供了一种常温、常压、快速制备热塑性聚合物多级结构的方法。
按照本发明提供的技术方案，所述的一种采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法，其特征是，包括以下步骤：
(1)首先通过超声和加热，将热塑性聚合物固体溶解到溶剂中，溶剂的选择遵循相似相容的极性原则，得到热塑性聚合物溶液；
(2)然后在凸凹结构的软模板表面旋涂或喷涂热塑性聚合物溶液，待溶剂挥发完毕，得到表面附有热塑性聚合物的软模板；
(3)然后通过氧等离子体或紫外臭氧处理，使得步骤(2)中软模板上的热塑性聚合物表面产生大量羟基，从而达到亲水效果；
(4)最后在室温下将经过步骤(3)处理后的表面附有热塑性聚合物的软模板与亲水基底接触，热塑性聚合物表面的羟基与基底表面的羟基发生氢键作用，经过5～600s后，将软模板从基底表面分离开，软模板表面的热塑性聚合物转移到基底表面，得到热塑性聚合物一级结构；。
(5)将步骤(4)中得到热塑性聚合物一级结构为基底重复上述步骤(2)～(4)一次或者多次，得到该聚合物二级结构及多级结构。
进一步的，步骤(1)中的热塑性聚合物包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氨酯、聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚二丁烯、聚乙烯醇、聚苯乙烯-丁二烯共聚物、聚对苯乙烯-聚氧化乙烯共聚物、ABS树脂、聚丙烯酰胺、聚环氧乙烷。
进一步的，步骤(2)、(3)及(4)中的软模板包括聚二甲基硅氧烷模板、三元乙丙橡胶模板、全氟聚醚模板、聚氨酯丙烯酸酯模板。
进一步的，步骤(4)中的基底包括平面及曲面的硅片、氧化硅片、砷化镓片、石英片、导电玻璃片、聚合物片。
进一步的，步骤(4)中的亲水基底是通过氧等离子体、紫外臭氧或亲水溶液处理基底而得到的。
进一步的，步骤(4)中溶液处理亲水方法是将基底放在氨水和双氧水的混合水溶液中，或将基底放在浓硫酸和双氧水的混合溶液中，在50～90℃加热条件下进行处理。
进一步的，步骤(4)中的室温为0～40℃。
本发明具有以下优越性：
(1)热塑性聚合物在常温常压下进行图案化，避免了高温高压耗能的过程；
(2)热塑性聚合物图案化过程中无需价格高昂的设备，耗时短，提高图案化效率；
(3)通过使用不同的模板或相同模板可制备出多种的多级结构；
(4)制备的多级结构可以在疏水材料和消反射材料上有所应用。
附图说明
图1为实施例1中采用室温反压印技术制备的聚甲基丙烯酸甲酯二级结构的扫描电镜图片；
图2为实施例1中采用室温反压印技术制备的聚甲基丙烯酸甲酯一级结构、二级结构及无结构的聚甲基丙烯酸甲酯薄膜的反射率曲线；
图3为实施例2中采用室温反压印技术制备的聚甲基丙烯酸甲酯二级结构的扫描电镜图。
具体实施方式
实施例1
步骤一：热塑性聚合物的溶解
将聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)固体超声加热溶解到丙酮溶液中，配制成质量浓度为2.5％的PMMA溶液。
步骤二：软模板的制备
称取聚二甲基硅氧烷(PDMS)的预聚体和引发剂，质量比为10：1，搅拌混合；然后浇铸在条带宽度为3μm、间距为1μm的硅模板及条带宽度为1μm、间距为1μm的硅模板的表面，在60℃的环境下固化；固化后将PDMS与硅模板分离，即得到条带宽度为1μm、间距为3μm的PDMS软模板(PDMS-1)和条带宽度为1μm、间距为1μm的PDMS软模板(PDMS-2)。
步骤三：在软模板表面旋涂热塑性聚合物
在旋转速度为4000rpm、旋转时间为30s的条件下，将PMMA溶液分别旋涂在PDMS-1和PDMS-2软模板表面，得到表面附有PMMA的PDMS软模板。
步骤四：软模板表面热塑性聚合物的亲水
用氧等离子体处理PDMS-1和PDMS-2表面的PMMA，保证PMMA表面亲水，其条件为：氧气流量是100mL/min，功率为45W，时间为30s。
步骤五：基底的亲水处理
采用溶液法对基底进行亲水，具体是将硅片放在体积比为7：3的浓硫酸和双氧水的混合溶液中，在90℃加热2h。取出后蒸馏水冲洗，氮气吹干待用。
步骤六：热塑性聚合物一级结构的制备
在室温下，将表面附有亲水PMMA的PDMS-1软模板与亲水硅片基底接触，经过60s后，将软模板从硅片基底表面分离开，PDMS-1表面的PMMA转移到基底表面，得到热塑性聚合物的一级结构。
步骤七：热塑性聚合物二级结构的制备
在室温下，将表面附有亲水PMMA的PDMS-2软模板与步骤六中得到的具有一级结构的热塑性聚合物表面接触，经过300s后，将软模板剥离，PDMS-2表面的PMMA转移到一级结构的热塑性聚合物表面，得到热塑性聚合物的二级结构。
实施例2
步骤一：热塑性聚合物的溶解
将聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)固体超声加热溶解到丙酮溶液中，配制成质量浓度为2.5％的PMMA溶液。
步骤二：软模板的制备
称取聚二甲基硅氧烷(PDMS)的预聚体和引发剂，质量比为10：1，搅拌混合；然后浇铸在条带宽度为3μm、间距为1μm的硅模板及方格宽度为0.8μm、间距为0.8μm的硅模板的表面，在60℃的环境下固化；固化后将PDMS与硅模板分离，即得到条带宽度为1μm、间距为3μm的PDMS软模板(PDMS-1)和条方格宽度为1μm、间距为1μm的PDMS软模板(PDMS-3)。
步骤三：在软模板表面旋涂热塑性聚合物
在旋转速度为4000rpm、旋转时间为30s的条件下，将PMMA溶液分别旋涂在PDMS-1和PDMS-3软模板表面，得到表面附有PMMA的PDMS软模板。
步骤四：软模板表面热塑性聚合物的亲水
用氧等离子体处理PDMS-1和PDMS-3表面的PMMA，保证PMMA表面亲水，其条件为：氧气流量是100mL/min，功率为45W，时间为30s。
步骤五：基底的亲水处理
采用溶液法对基底进行亲水，具体是将硅片放在体积比为7：3的浓硫酸和双氧水的混合溶液中，在90℃加热2h。取出后蒸馏水冲洗，氮气吹干待用。
步骤六：热塑性聚合物一级结构的制备
在室温下，将表面附有亲水PMMA的PDMS-1软模板与亲水硅片基底接触，经过60s后，将软模板从硅片基底表面分离开，PDMS-1表面的PMMA转移到基底表面，得到热塑性聚合物的一级结构。
步骤七：热塑性聚合物二级结构的制备
在室温下，将表面附有亲水PMMA的PDMS-3软模板与步骤六中得到的具有一级结构的热塑性聚合物表面接触，经过100s后，将软模板剥离，PDMS-3表面的PMMA转移到一级结构的热塑性聚合物表面，得到热塑性聚合物的二级结构。
实施例3
步骤一：热塑性聚合物的溶解
将聚苯乙烯(PS)固体超声加热溶解到丙酮溶液中，配制成质量浓度为2％的PS溶液。
步骤二：软模板的制备
称取聚二甲基硅氧烷(PDMS)的预聚体和引发剂，质量比为10：1，搅拌混合；然后浇铸在条带宽度为3μm和间距为1μm的硅模板、条带宽度为1.5μm和间距为0.8μm的硅模板、条带宽度为0.8μm和间距为0.8μm的硅模板表面，在60℃的环境下固化；固化后将PDMS与硅模板分离，即得到条带宽度为1μm和间距为3μm的PDMS软模板(PDMS-1)、条带宽度为0.8μm和间距为1.5μm的PDMS软模板(PDMS-4)及条带宽度为0.8μm和间距为0.8μm的PDMS软模板(PDMS-5)。
步骤三：在软模板表面旋涂热塑性聚合物
在旋转速度为4000rpm、旋转时间为30s的条件下，将PS溶液分别旋涂在PDMS-1、PDMS-4和PDMS-5软模板表面，得到表面附有PS的PDMS软模板。
步骤四：软模板表面热塑性聚合物的亲水
用氧等离子体处理PDMS-1、PDMS-4和PDMS-5表面的PS，保证PS表面亲水，其条件为：氧气流量是100mL/min，功率为45W，时间为30s。
步骤五：基底的亲水处理
采用溶液法对基底进行亲水，具体是将硅片放在体积比为7：3的浓硫酸和双氧水的混合溶液中，在90℃加热2h。取出后蒸馏水冲洗，氮气吹干待用。
步骤六：热塑性聚合物一级结构的制备
在室温下，将表面附有亲水PS的PDMS-1软模板与亲水硅片基底接触，经过60s后，将软模板从硅片基底表面分离开，PDMS-1表面的PS转移到基底表面，得到热塑性聚合物的一级结构。
步骤七：热塑性聚合物二级结构的制备
在室温下，将表面附有亲水PS的PDMS-4软模板与步骤六中得到的具有一级结构的热塑性聚合物表面接触，经过100s后，将软模板剥离，PDMS-4表面的PS转移到一级结构的热塑性聚合物表面，得到热塑性聚合物的二级结构。
步骤八：热塑性聚合物三级结构的制备
在室温下，将表面附有亲水PS的PDMS-5软模板与步骤七中得到的具有二级结构的热塑性聚合物表面接触，经过300s后，将软模板剥离，PDMS-5表面的PS转移到二级结构的热塑性聚合物表面，得到热塑性聚合物的三级结构。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可做出很多简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (7)

1.一种采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法，其特征是，包括以下步骤：
(1)首先通过超声和加热，将热塑性聚合物固体溶解到溶剂中；
(2)然后将热塑性聚合物溶液旋涂或喷涂在具有凸凹结构的软模板表面；
(3)然后通过氧等离子体或紫外臭氧处理，使得步骤(2)中软模板表面的热塑性聚合物亲水；
(4)然后在室温下将步骤(3)中得到的表面附有热塑性聚合物的软模板与亲水基底接触，经过5～600s后，将软模板从基底表面分离，软模板表面的聚合物转移到基底表面，得到热塑性聚合物一级结构；
(5)将步骤(4)中得到热塑性聚合物一级结构为基底重复上述步骤(2)～(4)一次或者多次，得到该聚合物二级结构及多级结构。
2.根据权利要求1所述的采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法，其特征在于：步骤(1)中的热塑性聚合物包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氨酯、聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚二丁烯、聚乙烯醇、聚苯乙烯-丁二烯共聚物、聚对苯乙烯-聚氧化乙烯共聚物、ABS树脂、聚丙烯酰胺、聚环氧乙烷。
3.根据权利要求1所述的采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法，其特征在于：步骤(2)、(3)及(4)中的软模板包括聚二甲基硅氧烷模板、三元乙丙橡胶模板、全氟聚醚模板、聚氨酯丙烯酸酯模板。
4.根据权利要求1所述的采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法，其特征在于：步骤(4)中的基底包括平面及曲面的硅片、氧化硅片、砷化镓片、石英片、导电玻璃片、聚合物片。
5.根据权利要求1所述的采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法，其特征在于：步骤(4)中的基底亲水方法包括氧等离子体处理亲水、紫外臭氧处理亲水及溶液处理亲水。
6.根据权利要求5所述的溶液处理亲水，其特征在于：将基底放在氨水和双氧水的混合水溶液，或将基底放在浓硫酸和双氧水的混合溶液，在50～90℃加热条件下进行处理。
7.根据权利要求1所述的采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法，其特征在于：步骤(4)中的室温为0～40℃。
CN201611095373.7A 2016-12-02 2016-12-02 一种采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法 Active CN106750419B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201611095373.7A CN106750419B (zh) 2016-12-02 2016-12-02 一种采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201611095373.7A CN106750419B (zh) 2016-12-02 2016-12-02 一种采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106750419A true CN106750419A (zh) 2017-05-31
CN106750419B CN106750419B (zh) 2019-09-13

Family

ID=58883408

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201611095373.7A Active CN106750419B (zh) 2016-12-02 2016-12-02 一种采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106750419B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113299776A (zh) * 2021-04-09 2021-08-24 桂林电子科技大学 一种增强太阳能电池光吸收的微纳混合结构及制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060214330A1 (en) * 2004-05-24 2006-09-28 Agency For Science, Technology And Research Imprint lithographic method for making a polymeric structure
CN101234748A (zh) * 2008-02-27 2008-08-06 吉林大学 一种构造聚合物有序微观结构的方法
CN101430449A (zh) * 2008-12-17 2009-05-13 河北工业大学 聚合物分散液晶压光效应膜及其制造方法和应用
CN101735709A (zh) * 2009-11-27 2010-06-16 深圳市法兰印务有限公司 一种不干胶标签转印组合物、制备方法及其应用

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060214330A1 (en) * 2004-05-24 2006-09-28 Agency For Science, Technology And Research Imprint lithographic method for making a polymeric structure
CN101234748A (zh) * 2008-02-27 2008-08-06 吉林大学 一种构造聚合物有序微观结构的方法
CN101430449A (zh) * 2008-12-17 2009-05-13 河北工业大学 聚合物分散液晶压光效应膜及其制造方法和应用
CN101735709A (zh) * 2009-11-27 2010-06-16 深圳市法兰印务有限公司 一种不干胶标签转印组合物、制备方法及其应用

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
STEFAN HARRER 等: ""Pattern Generation by Using Multistep Room-Temperature Nanoimprint Lithography"", 《IEEE TRANSACTIONS ON NANOTECHNOLOGY》 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113299776A (zh) * 2021-04-09 2021-08-24 桂林电子科技大学 一种增强太阳能电池光吸收的微纳混合结构及制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN106750419B (zh) 2019-09-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Zuo et al. Micro‐/nanostructured interface for liquid manipulation and its applications
Choi et al. Direct fabrication of micro/nano-patterned surfaces by vertical-directional photofluidization of azobenzene materials
Fernández et al. Design of hierarchical surfaces for tuning wetting characteristics
Jeong et al. UV-assisted capillary force lithography for engineering biomimetic multiscale hierarchical structures: From lotus leaf to gecko foot hairs
Choi et al. Simple fabrication of asymmetric high-aspect-ratio polymer nanopillars by reusable AAO templates
Tang et al. Surface patterning with SiO2@ PNiPAm core–shell particles
Wang et al. Deterministic reshaping of breath figure arrays by directional photomanipulation
Kong et al. Photomanipulated architecture and patterning of azopolymer array
Liu et al. Underwater superoleophobic surface based on silica hierarchical cylinder arrays with a low aspect ratio
Kamei et al. Biomimetic ultra-bubble-repellent surfaces based on a self-organized honeycomb film
CN101177079B (zh) 以水凝胶为模板胶体晶体为墨水进行微接触图案印刷的方法
Bai et al. A review of smart superwetting surfaces based on shape‐memory micro/nanostructures
Park et al. Fabrication and applications of stimuli‐responsive micro/nanopillar arrays
Liu et al. Wrinkled interfaces: taking advantage of anisotropic wrinkling to periodically pattern polymer surfaces
Alameda et al. Multilevel hierarchical topographies by combined photolithography and nanoimprinting processes to create surfaces with controlled wetting
CN104803348A (zh) 一种牺牲模板制备高深宽比聚合物纳米柱阵列的方法
Lee et al. Hierarchical polymer structures using templates and the modified breath figure method
Tian et al. Generation of hierarchically ordered structures on a polymer film by electrohydrodynamic structure formation
Huang et al. Versatile and functional surface patterning of in situ breath figure pore formation via solvent treatment
Cheng et al. Developing advanced polymer films based on microfluidic laminar flow
Liu et al. 3-D non-UV digital printing of hydrogel microstructures by optically controlled digital electropolymerization
CN106750473B (zh) 一种采用室温反压印技术制备高分辨率热塑性聚合物图案的方法
CN106750419B (zh) 一种采用室温反压印技术制备热塑性聚合物多级结构的方法
CN101285083B (zh) 一种通过微流控芯片制备图案化纤维素的方法
Hung et al. Hierarchical Nanoparticle assemblies formed via one-step catalytic stamp pattern transfer

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant