CN106733901A - 一种水槽内活动支架结构 - Google Patents

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    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B13/00—Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning

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Abstract

本发明涉及超声波清洗技术领域，具体为一种水槽内活动支架结构，其能够实现支架的移动，方便地取放物品，不影响清洗效果，其包括水槽，所述水槽内安装有振盒，其特征在于，在所述振盒左侧，所述水槽内安装有支撑座，所述支撑座上端设置有斜坡，所述斜坡底部设置有左侧支撑块；在所述振盒右侧，所述水槽内壁上安装有与所述左侧支撑块配合的右侧支撑块，所述左侧支撑块与所述右侧支撑块上端设置有支架，所述支架左侧外部为与所述斜坡配合的斜面，所述斜面上安装有滚轮，所述滚轮与所述斜坡接触，所述支架右侧顶部安装有铰接座，所述铰接座铰接倒V形杆左端，所述倒V形杆顶端通过转轴连接安装于所述水槽的轴承座，所述倒V形杆右端外露于所述水槽。

Description

一种水槽内活动支架结构
技术领域
本发明涉及超声波清洗技术领域，具体为一种水槽内活动支架结构。
背景技术
超声波振盒是超声波清洗机中最重要的部分，其发出的超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的，由于超声波清洗应用越来越广泛，很多清洗工作都采用了超声波清洗，为了保护超声波振盒在使用中受到影响，保护超声波振头，一般都会在超声波振盒上端设置支架，将需要清洗的物品放置于支架上，清洗完毕再从支架中取走，由于每次取放物品时都会与水槽内的水接触，取拿不方便而且会影响水的洁净度而影响清洗效果。
发明内容
为了解决上述问题，本发明提供了一种水槽内活动支架结构，其能够实现支架的移动，方便地取放物品，不影响清洗效果。
其技术方案是这样的：一种水槽内活动支架结构，其包括水槽，所述水槽内安装有振盒，其特征在于，在所述振盒左侧，所述水槽内安装有支撑座，所述支撑座上端设置有斜坡，所述斜坡底部设置有左侧支撑块；在所述振盒右侧，所述水槽内壁上安装有与所述左侧支撑块配合的右侧支撑块，所述左侧支撑块与所述右侧支撑块上端设置有支架，所述支架左侧外部为与所述斜坡配合的斜面，所述斜面上安装有滚轮，所述滚轮与所述斜坡接触，所述支架右侧顶部安装有铰接座，所述铰接座铰接倒V形杆左端，所述倒V形杆顶端通过转轴连接安装于所述水槽的轴承座，所述倒V形杆右端外露于所述水槽。
其进一步特征在于，所述水槽右侧外部安装有定位座，所述定位座上设置有横向活动的插杆，所述倒V形杆右端设置有与所述插杆配合的插孔；
所述定位座外侧开有凹槽，所述凹槽内壁两侧侧开有通孔，所述通孔内设置有所述插杆。
采用本发明的结构后，当需要取放物品时，压下倒V形杆右端，倒V形杆左端向上抬起，由于铰接座的设置，推动支架沿斜坡向上抬起，滚轮较少了摩擦力，方便于支架的抬起，取放完毕后，倒V形杆右端向上抬起即可使支架复位支撑于左侧支撑块和右侧支撑块上，取放物品不会与水槽的水接触，不影响清洗效果；定位座的设置，当倒V形杆右端向下压至定位座的凹槽内时，将插杆插入插孔内实现倒V形杆的固定，无需人工施力于倒V形杆即可进行操作。
附图说明
图1为本发明结构示意图；
图2为定位座结构侧视图。
具体实施方式
见图1所示，一种水槽内活动支架结构，其包括水槽1，水槽1内安装有振盒2；在振盒2左侧，水槽1内安装有支撑座3，支撑座3上端设置有斜坡4，斜坡4底部设置有左侧支撑块5；在振盒2右侧，水槽1内壁上安装有与左侧支撑块5配合的右侧支撑块6，左侧支撑块5与右侧支撑块6上端设置有支架7，支架7左侧外部为与斜坡配合的斜面，斜面上安装有滚轮8，滚轮8与斜坡4接触，支架7右侧顶部安装有铰接座16，铰接座16铰接倒V形杆9左端，倒V形杆9顶端通过转轴10连接安装于水槽1的轴承座11，倒V形杆9右端外露于水槽1；水槽1右侧外部安装有定位座12，定位座12上设置有横向活动的插杆13，倒V形杆9右端设置有与插杆13配合的插孔14；见图2所示，定位座12外侧开有凹槽15，凹槽15内壁两侧侧开有通孔，通孔内设置有插杆13。

Claims (3)

1.一种水槽内活动支架结构，其包括水槽，所述水槽内安装有振盒，其特征在于，在所述振盒左侧，所述水槽内安装有支撑座，所述支撑座上端设置有斜坡，所述斜坡底部设置有左侧支撑块；在所述振盒右侧，所述水槽内壁上安装有与所述左侧支撑块配合的右侧支撑块，所述左侧支撑块与所述右侧支撑块上端设置有支架，所述支架左侧外部为与所述斜坡配合的斜面，所述斜面上安装有滚轮，所述滚轮与所述斜坡接触，所述支架右侧顶部安装有铰接座，所述铰接座铰接倒V形杆左端，所述倒V形杆顶端通过转轴连接安装于所述水槽的轴承座，所述倒V形杆右端外露于所述水槽。
2.根据权利要求1所述的一种水槽内活动支架结构，其特征在于，所述水槽右侧外部安装有定位座，所述定位座上设置有横向活动的插杆，所述倒V形杆右端设置有与所述插杆配合的插孔。
3.根据权利要求2所述的一种水槽内活动支架结构，其特征在于，所述定位座外侧开有凹槽，所述凹槽内壁两侧侧开有通孔，所述通孔内设置有所述插杆。
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CN87101587A (zh) * 1986-02-28 1988-08-17 日本原野株式会社 清洗装置
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