CN106681065B - 一种曲面显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例提供了一种曲面显示装置,包括主动元件阵列基板、对向基板以及配置于主动元件阵列基板与对向基板之间的液晶层,主动元件阵列基板具有多个像素单元,像素单元包括主动元件以及与主动元件电性相连的像素电极,像素电极表面包括配向图案,配向图案由电极狭缝组成,电极狭缝相对像素电极边缘的狭缝偏角随显示装置基板的线性变化而改变。通过改变电极狭缝相对像素电极边缘的狭缝偏角设计,将电极狭缝相对像素电极边缘的狭缝偏角随显示装置基板的线性变化而改变,在装置基板的不同曲率位置上采用不同电极狭缝偏角的像素电极,以补偿曲面显示器的曲率改变量,从而改善曲面显示器在不同曲率位置的色偏问题。
Description
技术领域
本发明涉及电子技术领域,尤其涉及一种曲面显示装置。
背景技术
越来越多的液晶面板应用需要使用到曲面显示器,且曲面技术也慢慢被消费者接受,因为有新的观赏经验,已经渐渐成为新的发展方向。包含TV,monitor,mobile,其中曲面显示器的新型设计,一直是很多设计者正在开发研究。而涉及到曲面显示器的色偏问题,也是进行研就的方向,因为设计曲率越大,大视角或正视的色偏就越明显。
发明内容
本发明实施例提供一种曲面显示装置,可改善曲面显示器的色偏问题,提高消费者的观赏体验。
本发明实施例提供了一种曲面显示装置,包括:
主动元件阵列基板,具有多个像素单元,所述像素单元包括:
主动元件;
像素电极,与所述主动元件电性相连,所述像素电极包括配向图案,所述配向图案由电极狭缝组成;
对向基板;
液晶层,配置于所述主动元件阵列基板与所述对向基板之间;
所述电极狭缝相对所述像素电极边缘的狭缝偏角随所述显示装置基板的线性变化而改变。
本发明实施例的曲面显示装置,通过改变电极狭缝相对像素电极边缘的狭缝偏角设计,将电极狭缝相对像素电极边缘的狭缝偏角随显示装置基板的线性变化而改变,在装置基板的不同曲率位置上采用不同电极狭缝偏角的像素电极,以补偿曲面显示器的曲率改变量,从而改善曲面显示器在不同曲率位置的色偏问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例一提供的一种曲面显示装置的局部侧剖视图;
图2为本发明实施例二提供的一种曲面显示装置的局部侧剖视图;
图3为本发明实施例一提供的一种像素单元的局部主视图;
图4为本发明实施例三提供的一种曲面显示装置的局部主视图;
图5为本发明实施例提供的一种曲面显示装置的示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
应当理解,当在本说明书和所附权利要求书中使用时,术语“包括”和“包含”指示所描述特征、整体、步骤、操作、元素和/或组件的存在,但并不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元素、组件和/或其集合的存在或添加。
参见图1并结合图3,图1是本发明实施例一提供的一种曲面显示装置的局部侧剖视图,图3是实施例一提供的一种像素单元99的局部主视图;如图所示,该装置包括主动元件阵列基板100、对向基板110以及夹设在主动元件阵列基板100与对向基板110之间的液晶层120,主动元件阵列基板100具有多个像素单元99,像素单元99包括主动元件104以及与主动元件104电性相连的像素电极101,像素电极101表面包括配向图案B,所述配向图案B由电极狭缝102组成,电极狭缝102相对像素电极101边缘的狭缝偏角随显示装置基板的线性变化而改变。
具体地,主动元件阵列基板100与对向基板110夹设有一层液晶层120,主动元件阵列基板100上像素单元99的像素电极101和对向基板110上的共通电极之间形成电场,而在二者之间的液晶层100内的液晶分子121的指向由其所感受到的电场方向所决定,改变了像素电极101的电极狭缝偏角则便对应改变了对应位置的液晶分子121的指向,在装置基板的不同曲率位置上采用不同电极狭缝102偏角的像素电极101,让液晶分子121的指向改变以补偿曲面显示器的曲率改变量,从而改善曲面显示器在不同曲率位置的色偏问题。
进一步地,像素电极101上的狭缝偏角自主动元件阵列基板100的中部向两侧对称改变。
进一步地,在主动元件阵列基板100上,每间隔一个固定的弧度,像素电极101的狭缝偏角统一改变一个角度值。
具体地,电极狭缝102的偏角随着主动元件阵列基板100的弧度变化而变化,且每间隔一个固定的弧度,电极狭缝102的偏角统一改变一个角度值,例如,参见图1和图5所示,图5中示意角度为俯视,视线K从基板10正前方看向基板10,挑选3个视线K中的像素电极101作为示例,如图5中的a、b、c三个像素电极101为当前指示位置基板10弧上像素电极101的主视图,当前指示位置基板10上的电极狭缝102的偏角分别是45°、43°、41°。
参见图4所示,进一步地,像素电极101的配向图案包括层叠的第一配向图案B和第二配向图案B1,第一配向图案B和第二配向图案B1相同并平行错开一定距离。
具体地,目前曝光机的解析度与蚀刻制程能力的制程宽度有限,假设制程宽度极限为m,也就是说只能做出宽度为m的电极狭缝102,但若是按照本实施例中将两个配向图案层叠错开摆放,两个电极狭缝102部分重叠,则重叠的部分即为新的宽度更小的电极狭缝102,如是,能进一步增强电极狭缝102处的电场强度,进一步减少暗纹。
进一步地,配向图案包括至少一个狭缝分布区。
进一步地,配向图案的电极狭缝为相互平行且间隔等距的光滑狭缝。
具体地,如图3所示,图3为实施例一提供的一种像素单元99的局部主视图,像素电极101表面分为A、B两个区域,B为配向图案,其包括两个电极狭缝102分布区,每条电极狭缝102相互平行,间隔等距且狭缝边缘光滑。
进一步地,配向图案面积大于像素电极的该面剩余面B的面积。
具体地,像素电极除去配向图案B的该面剩余面A在本实施例中属于相同电压下正视亮度较大的区域,亮区面积较小可以得到较佳的显示品质,例如,若该剩余面A的面积为S,则配向图案B的面积为2S-4S较佳。
参见图2所示,进一步地,对向基板110的共通电极113上设有多个配向凸起物103。
具体地,在共通电极113对应像素电极101的面上设有多个配向凸起物103,配向凸起物103的设置可以改变当前区域的作用力分布,并搭配配向图案B的设计,使该区域的液晶分子121的平均倾角与A区域的液晶分子121平均倾角不同,实现之间的液晶层120穿透率互异,以改善屏幕亮度随视角改变而急剧变化的情形。
进一步地,狭缝偏角自主动元件阵列基板100中部开始对称向两侧逐渐趋于平缓。
进一步地,像素电极101为透明导电材质制成。
具体地,使用透明导电材质制成像素电极(如ITO电极),在生成电极狭缝时能大幅度的降低暗纹的数量。
在本申请所提供的几个实施例中,应该理解到,所揭露的方法,仅仅是示意性的,可以通过其它的方式实现。需要说明的是,本发明实施例中的步骤可以根据实际需要进行顺序调整、合并和删减。以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到各种等效的修改或替换,这些修改或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (10)
1.一种曲面显示装置,其特征在于,包括:
主动元件阵列基板,具有多个像素单元,所述像素单元包括:
主动元件;
像素电极,与所述主动元件电性相连,所述像素电极包括配向图案,所述配向图案由电极狭缝组成;
对向基板;
液晶层,配置于所述主动元件阵列基板与所述对向基板之间;
所述电极狭缝相对所述像素电极边缘的狭缝偏角随所述显示装置基板的线性变化而改变。
2.根据权利要求1所述的曲面显示装置,其特征在于,所述像素电极上的狭缝偏角自所述主动元件阵列基板的中部向两侧对称改变。
3.根据权利要求2所述的曲面显示装置,其特征在于,在所述主动元件阵列基板上,每间隔一个固定的弧度,所述像素电极狭缝偏角统一改变一个角度值。
4.根据权利要求1所述的曲面显示装置,其特征在于,所述像素电极的配向图案包括层叠的第一配向图案和第二配向图案,所述第一配向图案和第二配像图案相同并平行错开一定距离。
5.根据权利要求1所述的曲面显示装置,其特征在于,所述配向图案包括至少一个狭缝分布区。
6.根据权利要求5所述的曲面显示装置,其特征在于,所述配向图案的电极狭缝为相互平行且间隔等距的光滑狭缝。
7.根据权利要求1所述的曲面显示装置,其特征在于,所述像素电极的表面分为配向图案以及剩余面两个区域,所述配向图案的面积大于所述剩余面的面积。
8.根据权利要求6所述的曲面显示装置,其特征在于,所述对向基板的共通电极上设有多个配向凸起物。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的曲面显示装置,其特征在于,所述狭缝偏角自所述主动元件阵列基板中部开始对称向两侧逐渐趋于平缓。
10.根据权利要求9所述的曲面显示装置,其特征在于,所述像素电极为透明导电材质制成。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant | ||
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