CN1065279A - 一种挤压抛光工作介质及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
磨粒流挤压抛光工作介质由硅硼树脂、适宜粒度
的磨料和少量矿物油及C8~C35的直链径经捏合机
揉和而成,其中硅硼树脂由硅油与硼酸经有控制的成
环——开环聚合反应制得。该介质置于挤压抛光装
置中,可起到去毛刺、领边倒圆和提高工件表面粗糙
度级别的作用,特别适宜于形状复杂或深长孔的腔件
的精整加工。
Description
本发明涉及一种挤压抛光工作介质及其制造方法,属于研磨材料类。
七十年代初,由于宇航等高尖技术产业的发展,对产品表面质量的要求也越来越高,美国Dynet:cs公司的磨粒流加工技术便应运而生,这是在专用的设备上,使用一种含有磨料的高分子化合物,借助挤压作用对零件进行抛光的精整加工方法,这种方法可使零件表面的粗糙度获得明显改善,同时还可去除毛刺,使领边倒圆等。
八十年代末,我国的北京、西安等地从国外引进了这项技术,随即在航空、冶金、纺织、石化行业和模具加工等方面获得了日益广泛的应用。但是,迄今未见有关挤压抛光工作介质技术要点的报道。
本发明的目的是向社会公开我们在磨粒流加工工作介质研制中的主要收获,以使该项工艺能够在我国获得足够的重视。本发明的另一个目的是为该项工艺提供一种质优价廉的工作介质,并使之与我们的另一发明创造《一种依靠外力动作的磨粒流挤压抛光装置》(1991年1月9日公告,公告号CN20688890)相配套,以显著降低该项工艺的成本,使之更易于推广。
本发明的挤压抛光工作介质,由含硅氧链的树脂、分散在树脂中的磨料以及少量润滑剂、表面隔离剂组成。所述含硅氧链的树脂是硅硼树脂,其用量为100重量(分占总量的46.9~49.7%);所述磨料为粒度适宜的碳化物、氮化物、氧化物类磨料,其用量与上述树脂相当;所述润滑剂是矿物油,其用量为1~10重量分(占总量的0.047~0.14%)。
上述挤压抛光工作介质其制造方法如下:先取适量硅油与硼酸在反应器中,于140~168℃下进行有控制的成环-开环聚合反应,以获得微黄至金黄色酥脆有弹性的硅硼树脂;随即将上述树脂与规定用量的磨料、润滑剂、表面隔离剂混合后在捏合机中揉和即得所述工作介质。
上述成环-开环聚合反应的速度可由催化剂(氧化物)用量控制,而影响树脂弹性的主要因素则是硅油与硼酸的用量。通常,当取用粘度350±8%的硅油为原料时,硼酸用量应为硅油量的2~15%,方可取得满意的效果;而为了获得适宜的反应速度,催化剂的用量宜为原料总量的0.4~1%。当然,作为有控制的反应,温度也是一个重要条件,我们的实践证明,若反应温度低于140℃时,得不到符合要求的产物;而温度超过168℃,反应产物中又会出现的色块状物和红色颗粒状物,以至影响树脂的外观和使用效果。
本发明中润滑剂、表面隔离剂的作用是防止工作介质粘附在被加工零件表面而难于清洗,且影响抛光效果。润滑剂用量低于本发明规定的下限时,介质粘手、粘零件、不易清洗;若用量高于本发明规定的上限,又会在工作中发生相的分离而令加工质量变坏。表面隔离剂用量的变化也有相应的限制。
实施例一:
取硅油4公斤和硼酸(C、T)360克,加入氧化物25克,于160±5°下反应4小时制取硅硼树脂,所得产物微黄色酥脆且有弹性。向产物中添加矿物油润滑剂400克、表面隔离剂100克,再加入绿色碳化硅(100目)4.5公斤,在捏合机中揉匀后,置磨粒流加工装置中使用,工作压力18~22Mpa,循回次数60,加工件为航空发动机整体叶轮(钛合金),结果加工量为0.01~0.03毫米,零件表面粗糙度由0.7提高到0.2,满足了设计要求。
Claims (4)
1、一种挤压抛光工作介质,由含硅氧链的树脂,分散在树脂中的磨料以及少量润滑剂,表面隔离剂组成,其特征在于:
(1)所述含硅氧链的树脂是硅硼树脂,其用量为100重量分;
(2)所述磨料为粒度适宜的碳化物、氮化物、氧化物类磨料,其用量与上述树脂相当;
(3)所述润滑剂是矿物油,其用量为1~10重量分;
(4)所述表面隔离剂是C8~C35的直链径,其用量为0.1~3重量分
2、一种挤压抛光工作介质的制造方法,其特征在于:
(1)于140~168℃下,使适量硅油与硼酸进行有控制的环化-开环聚合反应来以获得微黄至金黄色酥脆有弹性的硅硼树脂;
(2)将上述树脂与规定用量的磨料、润滑剂、表面隔离剂混合后在捏合机中揉和即得所述工作介质。
3、根据权利要求2所述的挤压抛光工作介质的制造方法,其特征在于,在用硅油加硼酸以制备硅硼树脂时,使用了氯化物做催化剂,其用量为原料总量的0.4~1%。
4、根据权利要求2、3所述的制造方法,其特征在于,当取用粘度350±8%的硅油原料时,硼酸用量应为硅油量的2~15%。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 91106657 CN1065279A (zh) | 1991-03-26 | 1991-03-26 | 一种挤压抛光工作介质及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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CN 91106657 CN1065279A (zh) | 1991-03-26 | 1991-03-26 | 一种挤压抛光工作介质及其制造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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CN1065279A true CN1065279A (zh) | 1992-10-14 |
Family
ID=4908045
Family Applications (1)
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CN 91106657 Pending CN1065279A (zh) | 1991-03-26 | 1991-03-26 | 一种挤压抛光工作介质及其制造方法 |
Country Status (1)
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CN (1) | CN1065279A (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1069859C (zh) * | 1993-10-22 | 2001-08-22 | 挤压磨石有限公司 | 磨料流加工和抛光装置 |
US6478977B1 (en) | 1995-09-13 | 2002-11-12 | Hitachi, Ltd. | Polishing method and apparatus |
CN102059593A (zh) * | 2010-09-26 | 2011-05-18 | 浙江师范大学 | 一种用于铝合金车轮光整加工的磨料流及其制造方法 |
-
1991
- 1991-03-26 CN CN 91106657 patent/CN1065279A/zh active Pending
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CN102059593B (zh) * | 2010-09-26 | 2012-06-06 | 浙江师范大学 | 一种用于铝合金车轮光整加工的磨料流及其制造方法 |
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---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C01 | Deemed withdrawal of patent application (patent law 1993) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |