CN106471613A - 光阑及目标的旋转边界 - Google Patents

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Abstract

本发明提供从目标衍射信号减少或去除边缘衍射的散射测量计量系统、目标及方法。可将场光阑及/或目标的边界设计成相对于测量方向倾斜，从而致使边缘衍射斜向地传播且因此减少或去除其对所述所测量目标衍射信号的影响。

Description

光阑及目标的旋转边界
相关申请案的交叉参考
本申请案主张于2014年6月24日提出申请的第62/016,267号美国临时专利申请案的权益，所述美国临时专利申请案以其全文引用方式并入本文中。
技术领域
本发明涉及计量领域，且更特定来说，涉及散射测量计量光学系统及目标。
背景技术
重叠偏移测量通过角度分辨散射测量技术(例如4单元测量技术)实施。在此布置中，照明辐射入射于“光栅上光栅(grating on grating)”目标上。目标散射照明辐射以形成经散射辐射。经散射辐射的一部分经历通过目标的衍射。根据光栅方程式，所得的经散射辐射场型由数个衍射级组成。接着收集并分析此经散射辐射，其中使用经衍射光的空间及/或角度分布来估计“光栅上覆光栅(grating over grating)”目标的层之间的重叠偏移。
发明内容
本发明的一个方面提供一种散射测量计量系统，其经配置以测量来自具有相应至少一个测量方向的至少一个目标的衍射信号，所述散射测量计量系统具有至少一个场光阑，所述至少一个场光阑具有相对于所述至少一个测量方向倾斜的边缘。
在以下的详细描述中陈述、有可能可从详细描述推断及/或可通过实践本发明获悉本发明的这些、额外及/或其它方面及/或优点。
附图说明
为更好地理解本发明的实施例及展示可如何实施本发明的实施例，现在将仅以实例方式参考附图，在附图通篇中，相似数字指示对应元件或区段。
在附图中：
图1是根据本发明的一些实施例的散射测量计量系统的高级图解说明。
图2A是根据现有技术的在照明场光阑处的场等效平面处观察的传入辐射的示意性表示，而图2B是根据本发明的一些实施例的在照明场光阑处的场等效平面处观察的传入辐射的示意性表示。
图3A是根据现有技术的在系统中的光瞳处观察的入射辐射的示意性表示，而图3B是根据本发明的一些实施例的在系统中的光瞳处观察的入射辐射的示意性表示。
图4A是根据现有技术的入射于系统中的目标上(在场等效平面处)的辐射的示意性表示，而图4B是根据本发明的一些实施例的入射于系统中的目标上(在场等效平面处)的辐射的示意性表示。
图5A是根据现有技术的系统中的经散射辐射(在光瞳等效平面处)的示意性表示，而图5B是根据本发明的一些实施例的系统中的经散射辐射(在光瞳等效平面处)的示意性表示。
图6A是根据现有技术的在收集场光阑处的场等效平面处观察的经散射辐射的示意性表示，而图6B是根据本发明的一些实施例的在收集场光阑处的场等效平面处观察的经散射辐射的示意性表示。
图7A是根据现有技术的系统中的衍射信号(在光瞳平面处)的示意性表示，而图7B是根据本发明的一些实施例的系统中的衍射信号(在光瞳平面处)的示意性表示。
图8A是根据本发明的一些实施例的目标与场光阑的叠置边缘的示意性图解说明。图8B是根据本发明的一些实施例的目标的示意性图解说明。
图9A及9B示意性地图解说明根据本发明的一些实施例的场光阑配置。
图10是图解说明根据本发明的一些实施例的方法的高级示意性流程图。
具体实施方式
在陈述详细描述之前，陈述将在下文中使用的特定术语的定义可是有帮助的。
在本申请案中如本文中所使用的术语“计量目标”、“散射测量目标”或“目标”定义为用于计量目的(例如散射测量重叠(SCOL)测量)的在晶片上设计或产生的结构。在本申请案中如本文中所使用的术语"计量测量"或"测量"定义为用于提取信息(例如来自计量目标的衍射信号)的任何计量程序。如本申请案中所使用的术语“周期性结构”是指至少一个层中的展现某种周期性的任何种类的所设计或产生的结构。如本申请案中所使用的术语“测量方向”是指周期性结构的周期性所沿着的方向。举例来说，作为周期性结构的光栅的测量方向垂直于构成光栅的目标元件。目标可具有一个以上测量方向，举例来说，两个垂直测量方向。
现详细地参考特定图式，应强调，所展示详情仅作为实例并且仅出于说明性论述本发明的优选实施例的目的，并且是为了提供认为最有用的内容以及为了使本发明的原理及概念方面的描述易于理解而呈现。就此来说，未尝试比基本理解本发明所必需的更详细地展示本发明的结构细节，结合图式进行的描述使所属领域的技术人员明了可如何在实践中体现本发明的数种形式。
在详细地解释本发明的至少一个实施例之前，应理解，本发明在其应用上并不限于在以下描述中所陈述或在图式中所图解说明的构造的细节及组件的布置。本发明适用于其它实施例或以各种方式实践或实施。同样，应理解，本文中所采用的措辞及术语是出于描述目的且不应被视为具有限制性。
本发明提供从目标衍射信号减少或去除边缘衍射的散射测量计量系统、目标及方法。可将场光阑及/或目标的边界设计成相对于测量方向倾斜，从而致使边缘衍射斜向地传播且因此减少或去除其对所测量目标衍射信号的影响。
所揭示的本发明的实施例克服现有技术的以下限制。由于实际目标是有限的，因此入射照明由光栅结构衍射(光栅衍射)且由光栅结构的边界衍射(边缘衍射)。光栅衍射是所要的，因为其提供有关光栅的信息，而边缘衍射是非所要的，因为其干涉光栅衍射且减小有用光栅衍射信号。性能退化的机制如下：边缘衍射使其本身作为经光栅衍射光与和边缘衍射相关联的场型的回旋而在光瞳平面中显现。光学系统中的所有边缘衍射的效应贡献于系统的点扩散函数(PSF)且特定来说可使PSF在空间上更大地延展。实际上，此意味着经光栅衍射辐射中的一些经光栅衍射辐射由边缘衍射进一步衍射，所述边缘衍射可能与经光栅衍射辐射的不同级重叠。此现象使角度分辨散射计的性能降级。
此外，边缘衍射混合来自光栅衍射场型的不同级的光。此混合的细节强烈地取决于测量参数(例如元件位置、目标定向等)。那么由此得出，在存在边缘衍射时，测量不稳定性造成可重复性的较强损失。另外，边缘衍射可相对于目标光栅是不对称的。由于散射测量重叠测量利用目标与工具的对称性质，因此此不对称贡献将造成准确度误差。
特定来说，在重叠测量中，边缘衍射可由以下机制中的任一者而导致性能及准确度的损失：(i)混合来自不同级的光，此不被重叠算法考虑在内；(ii)以不对称方式混合光，其可表现为重叠；(iii)重叠对位置的高敏感性通过定位变化而导致可重复性损失；及(iv)特定来说，在4单元散射测量中，衍射以两种方式将0级光混合成1级光，即，DC贡献与0级的强度成比例以及AC贡献与0级场振幅及1级场振幅两者成比例。
由于不同衍射级通过衍射“串扰”，从而提供性能及准确度损失源，且由于衍射主要来自目标的边缘(例如，目标单元的边缘)、工具中的光学路径中的场光阑及光瞳光阑，因此改变或旋转衍射元件(单元边界、场光阑及光瞳光阑)的本发明借此引导衍射远离受关注区域且减少对源自实际目标的衍射信号的准确测量的中断。应强调，实施例可修改目标边缘、系统中的场光阑中的任一者的边缘以及光瞳光阑的边缘(在传入辐射光瞳平面处及/或在经散射辐射光瞳平面处)中的至少一者，后两者中的任一者是通过修改对应孔径。
图1是根据本发明的一些实施例的散射测量计量系统100的高级图解说明。图解说明集中于系统100中的光学器件及目标，且关于系统100的其它部件(例如，光源及检测器)且关于所特定图解说明的元件均是非限制性的。图1图解说明场光阑120、130及目标110作为系统的光学器件的场平面处的示范性元件，然而本发明可延伸到位于系统100的场平面处的其它元件。现有技术光学系统70以现有技术场光阑72、73(在等效于场光阑120、130的光学位置处)及目标71为特征。
图1是散射测量计量系统100的作为非限制性实例的角度分辨散射计的光学头的示意图。经准直传入辐射80由透镜81聚焦到照明场光阑120，且接着由透镜82准直并作为入射辐射80A由聚焦透镜87上方的分束器95引导到晶片60上的场目标110。来自目标110的经散射光由透镜87收集，由分束器95引导作为传出辐射90A且由透镜92聚焦到收集场光阑130，且接着由透镜91再次准直以形成由传感器(作为用于散射测量中的光瞳平面成像的实例)收集的经散射辐射90。应注意，照明场光阑120、目标110及收集场光阑130均位于场平面中，而传入辐射80及经散射辐射90可在每一对应区段中相对于光瞳平面来处置。特定来说，场光阑120、130以及目标110的衍射会在光瞳平面中空间上转移经散射辐射90。
本发明者注意到，光学场光阑在场平面中限制辐射的空间广度。目标具有有限广度及界限以将其与其周围事物分离。光学场光阑及目标两者引入非所要的边缘衍射。本发明者已经发现场光阑及/或目标边缘的特定布置会减少由边缘衍射导致的中断。
在特定实施例中，在例如包括具有正方形辐射传输区的不透明光学光阑的光学光阑布置中，正方形开口可相对于光栅方向旋转。一般来说，术语“边缘衍射”用于指代来自阶梯状边缘或来自平滑或平缓边缘的衍射。所揭示实施例可适用于任何类型的边缘，且针对阶梯状边缘给出的实例在此意义上并非限制性的，而是仅在其可视化时使用较佳。特定实施例可应用于软边缘，根据所揭示的光沿着其受到较强约束所在的方向会较强地衍射的原理，所述软边缘引入可能会在对应光阑边缘的重配置中考虑的稍多自由度(例如，边缘梯度的方向及陡度)。
应注意，特定实施例包括：除了减少给定光阑区的边缘衍射的效应之外或作为其替代，还可在保持边缘衍射固定的同时减小光阑面积(参考系统中的一或多个光阑)。举例来说，目标本身充当光阑；可使收集场光阑变得较小以阻止收集较多非所要光(如重影图像)；且可使照明场光阑变得较小以消除将不期望的光(如重影图像)引导到目标。
为以非限制方式示范特定实施例的结构及功能，以下成对的图图解说明在沿着辐射的光学路径的不同位置处在现有技术系统70与系统100之间的比较。
图2A是根据现有技术的在照明场光阑72处的场等效平面处观察的传入辐射80的示意性表示，而图2B是根据本发明的一些实施例的在照明场光阑120处的场等效平面处观察的传入辐射80的示意性表示。以非限制方式，图2B图解说明正方形光学场光阑，其相对于现有技术场光阑旋转，从而致使边缘衍射相对于光瞳平面的水平及垂直轴(其是目标测量方向)成一角度传播。
特定实施例包括散射测量计量系统100，其经配置以测量来自具有相应至少一个测量方向(例如，x、y)的至少一个目标71及/或110的衍射信号90。尽管在现有技术系统70中，照明场光阑72具有垂直于目标71的测量方向(x、y)的边缘75，但散射测量计量系统100包括具有相对于至少一个测量方向(x、y)倾斜(例如，x1、y1)的边缘121、122的至少一个场光阑(例如，照明场光阑120)。
图3A是根据现有技术的在系统70中的光瞳平面(物镜光瞳、对数强度、模拟辐射强度场型)处观察的入射辐射80A的示意性表示，而图3B是根据本发明的一些实施例的在系统100中的光瞳平面(物镜光瞳、对数强度、模拟辐射强度场型)处观察的入射辐射80A的示意性表示。应注意，尽管在现有技术系统70中，边缘衍射场型83是垂直于测量方向(x、y)上的光阑边缘75而形成，但在系统100中，对于矩形光阑120(作为非限制性实例)，边缘衍射场型118相对于测量方向(x、y)倾斜，这是因为边缘衍射场型118垂直于倾斜光阑边缘121、122且因而处于方向(x1、y1)。
图4A是根据现有技术的入射于系统70中的目标71上(在场等效平面处)的辐射80A的示意性表示，而图4B是根据本发明的一些实施例的入射于系统100中的目标71或110上(在场等效平面处)的辐射80A的示意性表示。在所图解说明的非限制性实例中，目标71或110在具有对应测量方向的一个方向(x)上包括周期性结构。照明光阑72的边缘75及照明光阑120的边缘121、122确定入射照明80A的空间广度，且着重于边缘垂直线x1、y1相对于目标测量方向x、y的斜向配置。
图5A是根据现有技术的系统70中的经散射辐射90A(在光瞳等效平面处)的示意性表示，而图5B是根据本发明的一些实施例的系统100中的经散射辐射90A(在光瞳等效平面处)的示意性表示。应清楚，尽管在现有技术系统70中，在测量方向x上的边缘衍射场型73干扰来自目标71的衍射信号76(例如，展示为0级、±1级衍射)，但在系统100中，边缘衍射场型113相对于测量方向x倾斜(在方向x1、y1上)且较弱地干扰来自目标71或110的衍射信号116(例如，展示为0级、±1级衍射)。清楚地，类似考虑适用于具有两个(或更多个)测量方向x、y的目标71、110。
图6A是根据现有技术的在收集场光阑73处的场等效平面处观察的经散射辐射90A的示意性表示，而图6B是根据本发明的一些实施例的在收集场光阑130处的场等效平面处观察的经散射辐射90A的示意性表示。
特定实施例包括散射测量计量系统100，其经配置以测量来自具有相应至少一个测量方向(例如，x、y)的至少一个目标71及/或110的衍射信号90。尽管在现有技术系统70中，收集场光阑73具有垂直于目标71的测量方向(x、y)的边缘74，但散射测量计量系统100包括具有相对于至少一个测量方向(x、y)倾斜(例如，x2、y2)的边缘131、132的至少一个场光阑(例如，收集场光阑130)。收集场光阑130的边缘131、132可类似于照明场光阑120的边缘121、122倾斜(x1、y1＝x2、y2)，或光阑边缘可以不同方式倾斜(x1、y1≠x2、y2)。应注意，光阑120、130中的一者或两者的边缘可倾斜(图6B图解说明作为非限制性实例的后一种情形)。
图7A是根据现有技术的系统70中的衍射信号90(在光瞳平面处)的示意性表示，而图7B是根据本发明的一些实施例的系统100中的衍射信号90(在光瞳平面处)的示意性表示。尽管在现有技术系统70中，在测量方向x上的边缘衍射场型79干扰来自目标71的衍射信号76(例如，展示为0级、±1级衍射)，但在系统100中，边缘衍射场型119相对于测量方向x倾斜(在所图解说明的实例中在方向x1、y1＝x2、y2上，可能地在边缘方向不同时呈其它场型)且较弱地干扰来自目标71或110的衍射信号116(例如，展示为0级、±1级衍射)。清楚地，类似考虑适用于具有两个(或更多个)测量方向x、y的目标71、110，如在图7B中所见，是处于相对于衍射信号116的垂直测量方向(y)。
应注意，可在测量装置的照明路径中及/或在测量装置的收集路径中实施旋转正方形光阑。此两种实施方案具有独立益处，且两个旋转正方形光阑(照明场光阑与收集场光阑)的组合形式组合个别实施方案的益处。
场光阑边缘(121、122、131、132中的任一者)与测量方向(x、y中的任一者)之间的角度可介于30°到60°之间，且在特定实施例中(例如用于测量具有两个垂直测量方向的目标的旋转矩形光阑)中，所述角度可包括45°。应注意，对于小照明半径及/或对于级之间的大于所图解说明距离的距离，小于30°的角度或大于60°的角度可足以通过斜向地传播边缘衍射而减小或去除边缘衍射对所测量目标衍射信号的影响。举例来说，小如20°、10°、5°或在特定情形中，甚至1°的角度以及到90°的中间值和互补值(即，70°、80°、85°、89°)可应用于光学系统中的边缘元件。
图8A是根据本发明的一些实施例的目标71与场光阑120及/或130的叠置边缘的示意性图解说明。场光阑相对于目标71的空间周期性的方向(即，测量方向x)倾斜或旋转。图8B是根据本发明的一些实施例的目标110的示意性图解说明。尽管目标110的空间周期性的方向(即，测量方向x)在图8B中是水平的，但目标边缘111、112相对于测量方向x倾斜(沿着方向x3、y3)。散射测量计量目标110的特定实施例沿着至少一个相应测量方向具有至少一个周期性结构，其中目标110的边缘111、112相对于至少一个测量方向倾斜。举例来说，目标边缘111、112可形成从至少一个测量方向(x及/或y)旋转30°到60°的矩形。在非限制性实例中，目标边缘111、112可形成从至少一个测量方向旋转45°的矩形。如上文所解释，取决于照明光点的配置及衍射级，可执行较大角度范围(最终扩展为介于1°到89°之间)的旋转。
目标边缘111、112可以与测量方向成相同或不同于照明光瞳120的边缘121、122及/或收集光瞳130的边缘131、132与测量方向所成的角度的角度(x3、y3＝x1、y2及/或x2、y2，或者x3、y3≠x1、y2及/或x2、y2)倾斜。目标边界可相对于光栅方向布置，使得减弱来自目标边缘的传播到光瞳平面中的受关注区域的衍射。举例来说，目标边界可相对于光栅测量方向旋转。由于边缘衍射是以垂直于目标边缘的方式引导且在所述方向上进一步延伸，因此对于具有旋转边缘的目标，边缘衍射以与光瞳平面的x轴及y轴所成的角度传播。因此形成的效应类似于在图3B、5B及7B中图解说明的旋转场光阑的效应，且此外可借此增强所述效应。旋转正方形光阑作为光学场光阑及旋转目标边界作为目标边界的实施方案可独立地实现。此两种实施方案具有独立益处，且旋转正方形光阑(分别在照明场光阑120及/或收集场光阑130处)与旋转目标边界的组合形式组合个别实施方案的益处。
特定实施例包括散射测量计量系统100，其中至少一个目标110的边缘相对于至少一个测量方向倾斜。特定实施例包括用于本文中所描述的散射测量计量目标110的目标设计文件。特定实施例包括由本文中所描述的散射测量计量系统100进行的散射测量计量测量及/或对本文中所描述的散射测量计量目标110的散射测量计量测量。
在特定实施例中，散射测量计量系统100可包括校正模块(未展示)，所述校正模块经配置以使用至少一个场光阑120、130的所测量衍射信号校正来自至少一个目标110的所测量散射测量信号。
光阑120、130的边缘121、122、131、132(分别地)可经配置以将照明80限制到目标边界111、112。在特定实施例中，光阑120、130与目标110可具有全等边缘(在考虑中间光学元件(例如透镜82、87、92)时)。
图9A及9B示意性地图解说明根据本发明的一些实施例的场光阑配置。图9A示意性地图解说明具有旋转正方形孔径125以及相应X及Y横截面(其图解说明孔径125在测量方向x、y上的最大程度)的不透明圆盘。图9B示意性地图解说明镜126，镜126可经塑形为旋转正方形且经定位以反射传入辐射80的一部分以产生入射辐射80A作为经成形光束，所述经成形光束类似于通过孔径125且具有如本文中所揭示的边界的光束。另外地，光阑120、130的未图解说明实施例包括衍射元件，所述衍射元件经布置使得笔直边缘以相对于所述方向成角度地引导到受关注区域(例如，具有矩形有效孔径形状)的中心。
图10是图解说明根据本发明的一些实施例的方法200的高级示意性流程图。
方法200可包括散射测量计量方法，其包括在用于测量沿着至少一个相应测量方向具有至少一个周期性结构的至少一个散射测量计量目标的散射测量计量系统中，将以下各项中的至少一者的边缘设计成相对于所述至少一个测量方向倾斜：所述系统中的至少一个场光阑，及所述至少一个目标。方法200可包括将场光阑边缘设计成相对于测量方向倾斜(阶段210)及/或将目标边缘设计成相对于测量方向倾斜(阶段250)。
在特定实施例中，方法200包括将场光澜边缘设计成从至少一个测量方向旋转30°到60°(例如，45°)，例如，以形成矩形(阶段220)。在特定实施例中，方法200包括将目标圆周设计成从至少一个测量方向旋转30°到60°(例如，45°)，例如，以形成矩形(阶段260)，特定来说，同时维持目标的测量方向(周期性的方向)(阶段280)。如上文所解释，取决于照明光点的配置及衍射级，可执行较大角度范围(最终扩展为介于1°到89°之间)的旋转。
方法200可进一步包括在散射测量计量系统中产生及/或使用场光阑(阶段230)及/或产生及/或使用目标以进行散射测量计量测量(阶段270)。
方法200可进一步包括由散射测量计量系统测量至少一个散射测量计量目标的散射测量信号(阶段290)及/或测量至少一个场光阑的衍射信号且相应地校正所测量散射测量信号(阶段300)。
本发明者注意到，在维持目标的空间周期性方向以及因而测量方向的同时旋转目标边界不同于例如在第2011/0194092号美国专利公开案中所揭示的现有技术提案，所述现有技术提案旋转实际目标光栅且因此引起大量应用性问题。与第2011/0194092号美国专利公开案相比，本发明的实施例维持目标周期性的方向且修改场光阑边界及/或目标边界而非目标周期性本身。本发明者已发现，所提出的方法至少是同等有效的且其可行性要高得多。特定来说，在现代光刻工艺中，光栅的最优方向由光刻照明场型决定。通常，使用双极或四极照明来最小化结构的临界尺寸，且光栅方向通过照明的选择固定。因而，由于所揭示的本发明不更改光栅方向，而是替代地修改目标边界，因此不同于现有技术的是，其是工艺兼容的且在减轻目标及光阑边缘衍射的效应的同时形成所产生的较佳光栅目标。
在以上描述中，实施例是本发明的实例或实施方案。“一个实施例”、“实施例”、“特定实施例”或“一些实施例”在各处的出现不必均指代相同实施例。
尽管可在单个实施例的上下文中描述本发明的各个特征，但所述特征还可单独地或以任何适合组合形式提供。相反地，尽管本文为了清晰起见可在单独实施例的上下文中描述本发明，但还可在单个实施例中实施本发明。
本发明的特定实施例可包含来自上文揭示的不同实施例的特征，且特定实施例可并入有来自上文揭示的其它实施例的元件。特定实施例的上下文中的本发明的元件的揭示内容不应被视为限制其在特定实施例中的单独使用。
此外，应理解，可以各种方式执行或实践本发明且可在除了上文描述中概述的实施例之外的特定实施例中实施本发明。
本发明并不限于那些图式或对应描述。举例来说，流程不必移动穿过每一所图解说明的框或状态，或依与所图解说明及描述完全相同的次序。
除非另有定义，否则本文所使用的技术及科学术语的意义通常将如本发明所属技术中的所属领域的技术人员所理解。
尽管已关于有限数目个实施例描述了本发明，但这些实施例不应被视为对本发明的范围的限制，而是优选实施例中的一些优选实施例的范例。其它可能的变化形式、修改形式及应用也在本发明的范围内。因此，本发明的范围应不受至此已描述的内容限制，而受所附权利要求书及其法定等效形式限制。

Claims (17)

1.一种散射测量计量系统，其经配置以测量来自具有相应至少一个测量方向的至少一个目标的衍射信号，所述散射测量计量系统具有至少一个场光阑，所述至少一个场光阑具有相对于所述至少一个测量方向倾斜的边缘。
2.根据权利要求1所述的散射测量计量系统，其中所述至少一个场光阑包括照明场光阑及收集场光阑中的至少一者。
3.根据权利要求1所述的散射测量计量系统，其中所述至少一个场光阑的所述边缘形成从所述至少一个测量方向旋转30°到60°的矩形。
4.根据权利要求1所述的散射测量计量系统，其中所述至少一个场光阑的所述边缘形成从所述至少一个测量方向旋转45°的矩形。
5.根据权利要求1所述的散射测量计量系统，其中所述至少一个目标的边缘相对于所述至少一个测量方向倾斜。
6.根据权利要求1所述的散射测量计量系统，其进一步包括校正模块，所述校正模块经配置以使用所述至少一个场光阑的所测量衍射信号校正来自所述至少一个目标的所测量散射测量信号。
7.一种由根据权利要求1到6中任一权利要求所述的散射测量计量系统进行的散射测量计量测量。
8.一种沿着至少一个相应测量方向具有至少一个周期性结构的散射测量计量目标，其中所述目标的边缘相对于所述至少一个测量方向倾斜。
9.根据权利要求8所述的散射测量计量目标，其中所述目标边缘形成从所述至少一个测量方向旋转30°到60°的矩形。
10.根据权利要求8所述的散射测量计量目标，其中所述目标边缘形成从所述至少一个测量方向旋转45°的矩形。
11.一种用于根据权利要求8到10中任一权利要求所述的散射测量计量目标的目标设计文件。
12.一种对根据权利要求8到10中任一权利要求所述的散射测量计量目标的散射测量计量测量。
13.一种散射测量计量方法，其包括在用于测量沿着至少一个相应测量方向具有至少一个周期性结构的至少一个散射测量计量目标的散射测量计量系统中，将以下各项中的至少一者的边缘设计成相对于所述至少一个测量方向倾斜：所述系统中的至少一个场光阑，及所述至少一个目标。
14.根据权利要求13所述的方法，其进一步包括将所述边缘设计成形成从所述至少一个测量方向旋转30°到60°的矩形。
15.根据权利要求13所述的方法，其进一步包括将所述边缘设计成形成从所述至少一个测量方向旋转45°的矩形。
16.根据权利要求13所述的方法，其进一步包括由所述散射测量计量系统测量所述至少一个散射测量计量目标的散射测量信号。
17.根据权利要求16所述的方法，其进一步包括测量所述至少一个场光阑的衍射信号且相应地校正所述所测量散射测量信号。
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