CN106268518A - 一种多路气体切换供气而总供气量恒定的真空反应系统 - Google Patents

一种多路气体切换供气而总供气量恒定的真空反应系统 Download PDF

Info

Publication number
CN106268518A
CN106268518A CN201610719566.9A CN201610719566A CN106268518A CN 106268518 A CN106268518 A CN 106268518A CN 201610719566 A CN201610719566 A CN 201610719566A CN 106268518 A CN106268518 A CN 106268518A
Authority
CN
China
Prior art keywords
vacuum
valve
bypass
reaction chamber
diaphragm valve
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201610719566.9A
Other languages
English (en)
Inventor
梁磊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Foshan Siborui Technology Co Ltd
Original Assignee
Foshan Siborui Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Foshan Siborui Technology Co Ltd filed Critical Foshan Siborui Technology Co Ltd
Priority to CN201610719566.9A priority Critical patent/CN106268518A/zh
Publication of CN106268518A publication Critical patent/CN106268518A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/04Pressure vessels, e.g. autoclaves
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/006Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/02Feed or outlet devices therefor

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

本发明公开一种无论多路气路如何切换,都可以保证流量器流出气量稳定的真空反应系统,包括有多条主气路和真空反应腔,每条主气路与真空反应腔连接,在主气路上沿供气方向依次设有流量器和主路隔膜阀,真空反应腔的出口管路上设有真空规、真空蝶阀和真空泵,在每条主气路上流量器和主路隔膜阀之间引出一条旁路,旁路接驳在真空反应腔和真空规之间的出口管道上,每条旁路都设有旁路隔膜阀,主路隔膜阀、旁路隔膜阀和真空蝶阀受PLC控制器控制开关。

Description

一种多路气体切换供气而总供气量恒定的真空反应系统
技术领域:
本发明涉及一种多路气体切换供气而总供气量恒定的真空反应系统。
背景技术:
目前,工业上诸多产品的生产都是在真空状态下进行的,在真空状态下进行电离、化学反应等都要求供气快捷稳定,特别是对于需要多路气体频繁切换供气,每次切换气体,都要求新的气体供给尽快稳定下来。而现有的供气系统如图1所示,在每条供气气路上设置流量器01和隔膜阀02,最后才与真空反应腔03连接,隔膜阀02由PLC控制线路04控制开关,气路的流量控制是流量器01自身的反馈控制,其工作原理是:给出设定输出流量值后,流量器01会自动检测进口和出口的压力,然后输出对应的流量值并不断的反馈调节,直到输出流量稳定。真空反应腔03的真空度是由真空规05、真空蝶阀06和真空泵07控制。当流量器01出口的压力变化时,流量器01输出流量会随着压力变化而改变,造成流量器01输出不能尽快稳定下来,流量器01自身反馈调节加重其工作负荷而且耗时。真空反应腔03内的反应环境也会随着输出流量变化而改变,造成真空反应系统也不能快速稳定,真空蝶阀06经过真空规05反馈调节也加重其工作负荷而且耗时。实际使用中不同种气体和气量反复的切换时,流量器01和真空反应系统就会处于一个动态的反馈调节中,使整个系统不能快速稳定下来,消耗控制时间,使生产效率大大降低。
发明内容:
为了解决现有技术因切换气路导致供气量不稳定的问题,本发明提出了一种无论多路气路如何切换,都可以保证流量器流出气量稳定的真空反应系统。
本发明的发明目的可以通过以下的技术方案来实现:一种多路气体切换供气而总供气量恒定的真空反应系统,包括有多条主气路和真空反应腔,每条主气路与真空反应腔连接,在主气路上沿供气方向依次设有流量器和主路隔膜阀,真空反应腔的出口管路上设有真空规、真空蝶阀和真空泵,在每条主气路上流量器和主路隔膜阀之间引出一条旁路,旁路接驳在真空反应腔和真空规之间的出口管道上,每条旁路都设有旁路隔膜阀,主路隔膜阀、旁路隔膜阀和真空蝶阀受PLC控制器控制开关。
采用本技术方案后,与现有技术相比,通过增加旁路,在切换供气气路时,所供的气体会立刻经旁路流至真空反应腔的出口处,从而保证真空反应腔内的真空度不变,从一路供气气路切换至另一路供气气路,新的供气气路上的流量器因旁路的存在,使流量器入口和出口的气压保持一样,切换后,新的供气气路供气立刻恒定,保证真空反应系统气量稳定,使生产工艺得以立马进行,极大提高了生产效率。
附图说明:
图1是现有技术真空反应系统多路供气结构的示意图;
图2是本发明真空反应系统多路供气结构的示意图。
具体实施方式:
下面结合附图对本技术作进一步说明。
本实施例的多路气体切换供气而总供气量恒定的真空反应系统,包括有多条主气路和真空反应腔1,这里主气路包括有D1路、D2路和D3路,每条主气路与真空反应腔1独立连接,在每条主气路上沿供气方向依次设有流量器A0/B0/C0和主路隔膜阀A1/B1/C1,真空反应腔1的出口管路上设有真空规2、真空蝶阀3和真空泵4,在每条主气路上流量器A0/B0/C0和主路隔膜阀A1/B1/C1之间引出一条旁路,旁路接驳在真空反应腔1和真空规2之间的出口管道上,对应主气路D1路、D2路和D3路的旁路依次为d1路、d2路、d3路,每条旁路都设有旁路隔膜阀A2/B2/C2,主路隔膜阀A1/B1/C1、旁路隔膜阀A2/B2/C2和真空蝶阀3受PLC控制器5控制开关。
图2是真空反应系统的示意图,由真空泵4通过管道与真空反应腔1连接,使真空反应腔1处于高真空状态,并通过真空规2及真空蝶阀3控制装置,PLC控制器5设定真空反应腔1保持在X mbar,同时PLC控制器5会根据预先设定好需要工作的气体和气量,控制各个气路的隔膜阀开启或者关闭,实现不同种气体的反复切换。
工艺流程如下表1:
控制序号 工作气体 不工作气体 A1隔膜阀 A2隔膜阀 B1隔膜阀 B2隔膜阀 C1隔膜阀 C2隔膜阀
0 0 A/B/C 0 1 0 1 0 1
1 A B/C 1 0 0 1 0 1
2 B A/C 0 1 1 0 0 0
3 C A/B 0 1 0 1 1 0
1 A B/C 1 0 0 1 0 1
2 B A/C 0 1 1 0 0 0
注:表1中
1表示打开,需要气体流过工作腔参与工作;
0表示关闭,不需要气体流过工作腔参与工作;
结合图2和表1,具体工作如下:
1、设定好流量器A0/B0/C0的输出流量和A/B/C气体的工作顺序(如表1);
2、A/B/C气体不工作,A1隔膜阀、B1隔膜阀、C1隔膜阀关闭,A/B/C气体经真空蝶阀流出;A2隔膜阀、B2隔膜阀、C2隔膜阀打开,稳定各个流量器A0/B0/C0及真空反应腔1的气量;
3、A气体需要工作时,A1隔膜阀、B2隔膜阀、C2隔膜阀打开,A气体流过真空反应腔参与工作;A2隔膜阀、B1隔膜阀、C1隔膜阀关闭,B/C气体经真空蝶阀3流出;
4、B气体需要工作时,B1隔膜阀、A2隔膜阀、C2隔膜阀打开,B气体流过真空反应腔1参与工作;B2隔膜阀、A1隔膜阀、C1隔膜阀关闭,A/C气体经真空蝶阀3流出,此时由A气体供气给真空反应腔1转为B气体供给,各隔膜阀开关状态按照上述描述的状态转变完成后,D2气路因C2隔膜阀在上述3中A气体供气和本B气体供气都是一直处于打开状态的,通过旁路d3将C气体供至真空反应腔1出口端,从而保证真空反应腔1内真空度(或称为气压)是一直恒定不变的,当B气体供气时,各隔膜阀开关状态转变后,D2气路中的流量器B0因入口和出口的气压是一样的,所以转变完成后,B气体在极短的时间内(可以说瞬时)就可以进入恒定的供气状态;
5、C气体需要工作时,A2隔膜阀、B2隔膜阀、C1隔膜阀打开,C气体流过真空反应腔参与工作;A1隔膜阀、B1隔膜阀、C2隔膜阀关闭,A/B气体经真空蝶阀3流出,与4的情况同理,各隔膜阀开关状态转变后,D3气路中的流量器C0因入口和出口的气压是一样的,所以转变完成后,C气体在极短的时间内(可以说瞬时)就可以进入恒定的供气状态;
如上所诉,需要不同气体参与循环工作时,PLC控制器5会针对对应的气体对整个控制序号中的隔膜阀组进行自动切换,切换后,新的供气气路中的流量器立刻以其恒定的气量供气给真空反应腔1,保证工作效率。
以上所述,任何熟悉本领域的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围情况下,都可利用上述揭示的技术内容对本发明技术方案作出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。故凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明之形状、构造及原理所作的等效变化,均应涵盖于本发明的保护范围内。

Claims (1)

1.一种多路气体切换供气而总供气量恒定的真空反应系统,包括有多条主气路和真空反应腔,每条主气路与真空反应腔连接,在主气路上沿供气方向依次设有流量器和主路隔膜阀,真空反应腔的出口管路上设有真空规、真空蝶阀和真空泵,其特征在于:在每条主气路上流量器和主路隔膜阀之间引出一条旁路,旁路接驳在真空反应腔和真空规之间的出口管道上,每条旁路都设有旁路隔膜阀,主路隔膜阀、旁路隔膜阀和真空蝶阀受PLC控制器控制开关。
CN201610719566.9A 2016-08-24 2016-08-24 一种多路气体切换供气而总供气量恒定的真空反应系统 Pending CN106268518A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610719566.9A CN106268518A (zh) 2016-08-24 2016-08-24 一种多路气体切换供气而总供气量恒定的真空反应系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610719566.9A CN106268518A (zh) 2016-08-24 2016-08-24 一种多路气体切换供气而总供气量恒定的真空反应系统

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN106268518A true CN106268518A (zh) 2017-01-04

Family

ID=57615184

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610719566.9A Pending CN106268518A (zh) 2016-08-24 2016-08-24 一种多路气体切换供气而总供气量恒定的真空反应系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106268518A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111520613A (zh) * 2020-04-26 2020-08-11 北京北方华创微电子装备有限公司 集成供气系统及其气路切换机构、半导体外延设备
CN112371066A (zh) * 2020-11-03 2021-02-19 北京康欣东弘医药科技有限公司 一种注射微球的制备系统

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004017368A2 (en) * 2002-08-16 2004-02-26 Unaxis Usa, Inc. Sidewall smoothing in high aspect ratio/deep etching using a discreet gas switching method
CN1851890A (zh) * 2005-12-08 2006-10-25 北京圆合电子技术有限责任公司 具有流量控制的平台真空气路系统及其控制方法
JP2006342688A (ja) * 2005-06-07 2006-12-21 Ebara Corp 真空排気システム
CN101470447A (zh) * 2007-12-26 2009-07-01 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 传输腔室压力控制系统及方法
CN202026026U (zh) * 2011-04-29 2011-11-02 上海市电力公司 一种多路气体管理单元
CN103966569A (zh) * 2014-04-28 2014-08-06 北京七星华创电子股份有限公司 一种半导体设备的真空控制系统及真空控制方法
CN203756459U (zh) * 2014-03-06 2014-08-06 重庆市陆顺科技发展有限公司 具有真空气路控制装置的抽真空系统
CN203837758U (zh) * 2014-02-28 2014-09-17 中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所 一种气体均匀分配装置
CN105551995A (zh) * 2014-10-30 2016-05-04 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种真空腔室的充气气路及半导体加工设备
CN106449487A (zh) * 2016-10-28 2017-02-22 北京七星华创电子股份有限公司 一种半导体设备的处理腔室的控氧控压系统

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004017368A2 (en) * 2002-08-16 2004-02-26 Unaxis Usa, Inc. Sidewall smoothing in high aspect ratio/deep etching using a discreet gas switching method
JP2006342688A (ja) * 2005-06-07 2006-12-21 Ebara Corp 真空排気システム
CN1851890A (zh) * 2005-12-08 2006-10-25 北京圆合电子技术有限责任公司 具有流量控制的平台真空气路系统及其控制方法
CN101470447A (zh) * 2007-12-26 2009-07-01 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 传输腔室压力控制系统及方法
CN202026026U (zh) * 2011-04-29 2011-11-02 上海市电力公司 一种多路气体管理单元
CN203837758U (zh) * 2014-02-28 2014-09-17 中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所 一种气体均匀分配装置
CN203756459U (zh) * 2014-03-06 2014-08-06 重庆市陆顺科技发展有限公司 具有真空气路控制装置的抽真空系统
CN103966569A (zh) * 2014-04-28 2014-08-06 北京七星华创电子股份有限公司 一种半导体设备的真空控制系统及真空控制方法
CN105551995A (zh) * 2014-10-30 2016-05-04 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种真空腔室的充气气路及半导体加工设备
CN106449487A (zh) * 2016-10-28 2017-02-22 北京七星华创电子股份有限公司 一种半导体设备的处理腔室的控氧控压系统

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111520613A (zh) * 2020-04-26 2020-08-11 北京北方华创微电子装备有限公司 集成供气系统及其气路切换机构、半导体外延设备
CN111520613B (zh) * 2020-04-26 2022-01-11 北京北方华创微电子装备有限公司 集成供气系统及其气路切换机构、半导体外延设备
CN112371066A (zh) * 2020-11-03 2021-02-19 北京康欣东弘医药科技有限公司 一种注射微球的制备系统

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105221506B (zh) 一种负载敏感阀及负载敏感液压系统
CN102037423A (zh) 使用压力式流量控制装置的流体非连续式流量切换控制方法
CN105552001B (zh) 一种真空系统
CN106268518A (zh) 一种多路气体切换供气而总供气量恒定的真空反应系统
CN104763403B (zh) 一种基于多储层合采气田的地面高低压混合气液分离系统
CN102053617A (zh) 流量比例控制器在线校准方法、系统及等离子体处理设备
CN210994089U (zh) C4f7n/co2/o2三元混合气体分压配气装置
CN204756052U (zh) 一种新型轴流式降压调压器
CN101984278A (zh) 自力式排气平衡阀
CN104561412B (zh) 双阀减压阀组的顶压调节方法
CN203453170U (zh) 一种稳压供气阀岛系统
CN110408913B (zh) 管式pecvd设备的压力控制装置
CN102070193A (zh) 一种氯化法钛白氧化尾气的输送方法
CN208135900U (zh) 一种可调氮气产量的膜分离制氮设备
CN208178734U (zh) 激光切割机快速更换同种气源装置
CN102465413B (zh) 浆料供给系统
CN201949869U (zh) 聚氨酯合成反应中氮气自动控制装置
CN220724336U (zh) 一种真空离子镀膜用送气装置
CN206404740U (zh) 一种化工原料连续进料系统
CN102996861B (zh) 一种电磁先导式高压二通道控制阀
CN217821358U (zh) 一种基于串级控制的层流质量流量控制系统
CN214694193U (zh) 一种生物发酵培养过程智能补料装置
CN203034298U (zh) 一种造纸物料罐系统
CN203971922U (zh) 甲乙酮装置和异辛烷装置之间的连接系统
CN106017132A (zh) 一种混动型热风炉温控输送装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20170104

RJ01 Rejection of invention patent application after publication