CN106200066B - 光波导显示装置及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种光波导显示装置及其制造方法，属于显示技术领域。所述光波导显示装置包括：对盒成形的两个显示基板、位于两个显示基板之间的填充物以及设置在两个显示基板侧面的光源，填充物在未加电压时具有预设折射率，每个显示基板的衬底基板上形成有预设膜层；至少一个衬底基板的预设膜层上形成有过渡层，过渡层的折射率小于预设折射率。本发明解决了光波导显示装置的显示效果较差的问题，提高了光波导显示装置的显示效果，用于光波导显示装置。

Description

光波导显示装置及其制造方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种光波导显示装置及其制造方法。
背景技术
光波导显示装置可以包括对盒成形的阵列基板和盖板、位于阵列基板与盖板之间的填充物以及设置在阵列基板与盖板侧面的光源。填充物可以由液晶与高分子聚合物组成，液晶在不加电压时的折射率与加电压时的折射率不同，且与高分子聚合物的折射率(大于玻璃的折射率)相同。
光波导显示装置的显示区域可以由多个子区域组成，在一部分子区域发光且另一部分子区域不发光时，该显示区域能够显示图像。相关技术中，光源以大于填充物与盖板(材质通常为玻璃)对应的临界角的角度向盖板射入光线。在控制某一子区域不发光时，可以不对该子区域的液晶施加电压，此时，入射光线在射向盖板之前会经过液晶与高分子聚合物，由于该子区域的液晶和高分子聚合物的折射率相同，且均大于玻璃的折射率，所以，经过液晶和高分子聚合物之后的入射光线的传播方向不会发生改变，当入射光线到达盖板时，入射光线满足全反射的条件，所以能够在盖板上发生全反射，使得该子区域不发光。在控制某一子区域发光时，可以对该子区域的液晶施加电压，由于在向该子区域的液晶施加电压后，该子区域的液晶的折射率发生了改变，入射光线在经过液晶并到达高分子聚合物时，液晶与高分子聚合物的折射率不同，所以，液晶会在高分子聚合物上发生折射，并最终折射至盖板，使得一部分到达盖板的入射光线的入射角度不大于填充物与盖板对应的临界角，也即，到达盖板的入射光线不满足全反射的条件，所以无法在盖板上发生全反射并会从盖板射出，使得该子区域发光。
由于阵列基板表面存在一些折射率大于高分子聚合物的折射率的物质(如材质为氧化铟锡的像素电极)，光线在到达盖板之前，会被折射率大于高分子聚合物的折射率的物质折射而改变光线在盖板上的入射方向，在控制子区域不发光时，到达盖板的入射光线不满足在盖板上发生全反射的条件而从子区域射出，使得不需要发光的子区域出现漏光的现象，因此，光波导显示装置的显示效果较差。
发明内容
为了解决光波导显示装置的显示效果较差的问题，本发明提供了一种光波导显示装置及其制造方法。所述技术方案如下：
第一方面，提供了一种光波导显示装置，所述光波导显示装置包括：对盒成形的两个显示基板、位于两个显示基板之间的填充物以及设置在所述两个显示基板侧面的光源，所述填充物在未加电压时具有预设折射率，
每个所述显示基板的衬底基板上形成有预设膜层；
至少一个所述衬底基板的预设膜层上形成有过渡层，所述过渡层的折射率小于所述预设折射率。
可选的，每个所述衬底基板的预设膜层上形成有过渡层。
可选的，所述两个显示基板包括：阵列基板和盖板，
所述阵列基板的衬底基板上形成的预设膜层为像素电极，所述盖板的衬底基板上形成的预设膜层为公共电极，所述预设膜层的材质为纳米金或纳米银。
可选的，所述阵列基板的衬底基板上还形成有绝缘层；
形成有所述绝缘层的衬底基板上形成有源漏极金属图案；
形成有所述源漏极金属图案的衬底基板上形成有所述预设膜层，
其中，所述源漏极金属图案的材质为铝。
可选的，所述绝缘层的材质为二氧化硅。
可选的，所述填充物包括液晶和高分子聚合物，
所述液晶在加电压时具有目标折射率，在未加电压时具有所述预设折射率，所述高分子聚合物在加电压和未加电压时均具有所述预设折射率，所述目标折射率与所述预设折射率不同；
所述光源发出的光线在所述显示基板上的入射角大于预设临界角，所述预设临界角为在未加电压时所述填充物与所述显示基板对应的临界角。
第二方面，提供了一种光波导显示装置的制造方法，所述方法包括：
形成填充物，所述填充物在未加电压时具有预设折射率；
分别在两个衬底基板上形成预设膜层，并在至少一个所述衬底基板的预设膜层上形成过渡层，得到两个显示基板，所述过渡层的折射率小于所述预设折射率；
将所述两个显示基板对盒成形；
在对盒成形的两个显示基板之间添加所述填充物；
在对盒成形的两个显示基板的侧面设置光源。
可选的，所述在至少一个形成有所述预设膜层的衬底基板上形成过渡层，包括：
在每个所述衬底基板的预设膜层上形成过渡层。
可选的，所述两个显示基板包括：阵列基板和盖板，
所述阵列基板的衬底基板上形成的预设膜层为像素电极，所述盖板的衬底基板上形成的预设膜层为公共电极，所述预设膜层的材质为纳米金或纳米银。
可选的，分别在两个衬底基板上形成预设膜层，包括：
在所述阵列基板的衬底基板上形成绝缘层；
在形成有所述绝缘层的衬底基板上形成源漏极金属图案；
在形成有所述源漏极金属图案的衬底基板上形成所述预设膜层；
在所述盖板的衬底基板上形成所述预设膜层；
其中，所述源漏极金属图案的材质为铝。
可选的，所述绝缘层的材质为二氧化硅。
可选的，所述填充物包括液晶和高分子聚合物，
所述液晶在加电压时具有目标折射率，在未加电压时具有所述预设折射率，所述高分子聚合物在加电压和未加电压时均具有所述预设折射率，所述目标折射率与所述预设折射率不同；
所述光源发出的光线在所述显示基板上的入射角大于预设临界角，所述预设临界角为在未加电压时所述填充物与所述显示基板对应的临界角。
综上所述，本发明提供了一种光波导显示装置及其制造方法，由于该光波导显示装置中的至少一个衬底基板上的预设膜层上形成有过渡层，在经过填充物的光线到达预设膜层之前，光线会首先到达过渡层，由于过渡层的折射率小于填充物在未加电压时的预设折射率，则光线能够在该过渡层上发生全反射，并不会从显示基板射出，防止了在不需要发光的子区域漏光，所以提高了光波导显示装置的显示效果。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1-1为相关技术提供的一种背光模组的应用场景示意图；
图1-2为相关技术提供的一种光波导显示装置的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种光波导显示装置的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的一种光波导显示装置的制造方法的方法流程图。
通行上述附图，已示出本发明明确的实施例，后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通行任何方式限制本发明构思的范围，而是通行参考特定实施例为本领域技术人员说明本发明的概念。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
如图1-1所示，相关技术中，通常使用侧入式背光模组0为显示面板A提供入射光。该侧入式背光模组0可以包括光源01和导光板02，其中，导光板02设置在显示面板A的入光侧，光源01设置在导光板02的侧面，光源01发出的光能够从导光板02的侧面射入导光板，并从导光板02的出光侧射出，进而射入显示面板A。
示例的，光线在从第一种介质入射至第二种介质时，若第一种介质的折射率大于第二种介质的折射率，且光线在第二种介质上的入射角度大于第一种介质与第二种介质对应的临界角，则光线能够在第二种介质表面发生全反射，具体的，该第一种介质与第二种介质对应的临界角可以为第一种介质的折射率与第二种介质的折射率的比值的正弦函数的倒数。
如图1-2所示，相关技术中，存在一种光波导显示装置1，光波导显示装置1可以包括对盒成形的阵列基板11和盖板12、位于阵列基板11与盖板12之间的填充物13以及设置在阵列基板11与盖板12侧面的光源14。填充物13可以由液晶131与高分子聚合物132组成，液晶131在不加电压时的折射率与加电压时的折射率不同，且与高分子聚合物132的折射率(大于玻璃的折射率)相同。光波导显示装置1的显示区域可以由多个子区域组成，在一部分子区域发光且另一部分子区域不发光时，该显示区域能够显示图像。相关技术中，光源14以大于在不加电压时填充物13与盖板12(材质通常为玻璃)对应的临界角的角度向盖板12(或者阵列基板11)射入光线。示例的，该临界角可以为θc，其中，为的正弦的倒数，n1为不加电压时填充物13的(或者阵列基板11)折射率，n2为盖板12的折射率。
在控制某一子区域B1不发光时，可以不对该子区域B1的液晶131施加电压，此时，入射光线在射向盖板12之前会经过液晶131与高分子聚合物132，由于该子区域B1的液晶131和高分子聚合物132的折射率相同，且均大于玻璃的折射率，所以，经过液晶131和高分子聚合物132之后的入射光线的传播方向不会发生改变，当入射光线到达盖板12时，入射光线满足全反射的条件，所以能够在盖板12上发生全反射，使得该子区域B1不发光。在控制某一子区域B2发光时，可以对该子区域B2的液晶131施加电压，由于在向该子区域B2的液晶131施加电压后，该子区域B2的液晶131的折射率发生了改变，入射光线在经过液晶131并到达高分子聚合物132时，液晶131与高分子聚合物132的折射率不同，所以，液晶131会在高分子聚合物1上发生折射，并最终折射至盖板12，使得一部分到达盖板12的入射光线的入射角度不大于填充物与盖板对应的临界角，也即，到达盖板的入射光线不满足全反射的条件，所以无法在盖板12上发生全反射并会从盖板12射出，使得该子区域B2发光。
由于阵列基板11和盖板12的表面存在一些折射率大于高分子聚合物的折射率的物质(图1-2中未示出)，如材质为氧化铟锡的像素电极以及材质为氧化铟锡的公共电极，光线在到达盖板12之前，会被折射率大于高分子聚合物的折射率的物质折射而改变光线在盖板12上的入射方向，在控制子区域B1不发光时，到达盖板12的入射光线不满足在盖板12上发生全反射的条件而从子区域射出，使得不需要发光的子区域B1出现漏光的现象。
如图2所示，本发明实施例提供了一种光波导显示装置2，该光波导显示装置2可以包括：对盒成形的两个显示基板21、位于两个显示基板21之间的填充物22以及设置在两个显示基板21侧面的光源23，填充物22在未加电压时具有预设折射率。
每个显示基板21的衬底基板211上形成有预设膜层212；至少一个衬底基板211的预设膜层212上形成有过渡层213，过渡层213的折射率小于预设折射率。
综上所述，本发明实施例提供了一种光波导显示装置，由于该光波导显示装置中的至少一个衬底基板上的预设膜层上形成有过渡层，在经过填充物的光线到达预设膜层之前，光线会首先到达过渡层，由于过渡层的折射率小于填充物在未加电压时的预设折射率，则光线能够在该过渡层上发生全反射，并不会从显示基板射出，防止了在不需要发光的子区域漏光，所以提高了光波导显示装置的显示效果。
可选的，图2中的每个衬底基板211的预设膜层212上均可以形成有过渡层213，图2中仅仅以一个显示基板21的衬底基板上形成有过渡层213为例。由于每个衬底基板211上的预设膜层212上均形成有过渡层213，因此，在需要控制每个预设膜层212中的某一位置不发光时，能够防止该位置发生漏光。
填充物22可以由液晶(图2中未示出)与高分子聚合物(图2中未示出)组成，液晶和高分子聚合物在两个显示基板之间的分布状况可以参考相关技术，本发明实施例在此不做赘述。液晶在加电压时具有目标折射率，在未加电压时具有预设折射率，且目标折射率与预设折射率不同，高分子聚合物在加电压和未加电压时均具有预设折射率，也即，液晶在不加电压时的折射率与加电压时的折射率不同，且与高分子聚合物的折射率相同，填充物22在不加电压时的预设折射率为液晶的折射率(1.5～1.7)或高分子聚合物的折射率(1.5～1.7)。光源23发出的光线在显示基板21上的入射角大于预设临界角，该预设临界角可以为在未加电压时填充物22与显示基板21对应的临界角。示例的，该预设临界角可以为θc，其中，为的正弦的倒数，ng为预设折射率，na为显示基板21的折射率。
具体的，该两个显示基板21可以包括：阵列基板和盖板，也即该两个显示基板21中的一个显示基板21为阵列基板，另一个显示基板21为盖板，其中，阵列基板的衬底基板211上形成的预设膜层212为像素电极，盖板的衬底基板211上形成的预设膜层212为公共电极，且该预设膜层212的材质可以为纳米金或纳米银。由于纳米金的折射率(0.28～0.31)和纳米银的折射率(0.03～0.09)都远远小于预设折射率(1.5～1.7)，若存在光线到达预设膜层，由于预设膜层的折射率小于预设折射率，光线能够在该预设膜层上发生全反射，进一步的防止光线穿过该预设膜层。
可选的，阵列基板的衬底基板211上还可以形成有绝缘层(图2中未示出)；形成有绝缘层的衬底基板211上可以形成有源漏极金属图案(图2中未示出)；形成有源漏极金属图案的衬底基板211上可以形成有该预设膜层212，其中，源漏极金属图案的材质可以为铝。由于源漏极金属图案的材质为折射率(1.44)低于预设折射率(1.5～1.7)的铝，当光线到达源漏极金属图案时，由于源漏极金属图案的折射率小于预设折射率，光线能够在源漏极金属图案上发生全反射，防止光线在穿过源漏极金属图案后射出显示基板。
可选的，绝缘层的材质可以为二氧化硅。由于绝缘层的材质为折射率(1.48)低于预设折射率(1.5～1.7)的二氧化硅，当光线到达绝缘层时，由于绝缘层的折射率小于预设折射率，光线能够在绝缘层上发生全反射，防止光线在穿过绝缘层后射出显示基板。
本发明实施例中，在每个显示面板的衬底基板上的预设膜层上形成过渡层，并设置衬底基板上形成的所有膜层的材质为折射率小于预设折射率的材质，使得该显示面板中的所有与填充物相接触的膜层的折射率均小于预设折射率。
在需要控制光波导显示装置中的某一子区域发光时，可以对该子区域的液晶施加电压，由于在向该子区域的液晶施加电压后，该子区域的液晶的折射率发生了改变，入射光线在经过液晶并到达高分子聚合物时，液晶与高分子聚合物的折射率不同，所以，液晶会在高分子聚合物上发生折射，并最终折射至盖板，使得一部分到达盖板的入射光线的入射角度不大于填充物与盖板对应的临界角，也即，到达盖板的入射光线不满足全反射的条件，所以无法在盖板上发生全反射并会从盖板射出，使得该子区域发光。
在控制某一子区域不发光时，可以不对该子区域的液晶施加电压，此时，入射光线在射向盖板之前会经过液晶与高分子聚合物，由于该子区域的液晶和高分子聚合物的折射率相同，均为预设折射率，且均大于显示基板中与填充物直接相接触的任一膜层的折射率，所以，经过液晶和高分子聚合物之后的入射光线的传播方向不会发生改变，当入射光线到达显示基板时，入射光线满足全反射的条件，所以能够在显示基板上发生全反射，使得该子区域不发光，且不会漏光，进而减少了各个子区域之间的串扰，提高了光波导显示装置的对比度。
综上所述，本发明实施例提供了一种光波导显示装置，由于该光波导显示装置中的至少一个衬底基板上的预设膜层上形成有过渡层，在经过填充物的光线到达预设膜层之前，光线会首先到达过渡层，由于过渡层的折射率小于填充物在未加电压时的预设折射率，则光线能够在该过渡层上发生全反射，并不会从显示基板射出，防止了在不需要发光的子区域漏光，所以提高了光波导显示装置的显示效果。
如图3所示，本发明实施例提供了一种光波导显示装置的制造方法，该光波导显示装置的制造方法可以包括：
步骤301、形成填充物，填充物在未加电压时具有预设折射率。
步骤302、分别在两个衬底基板上形成预设膜层，并在至少一个衬底基板的预设膜层上形成过渡层，得到两个显示基板，过渡层的折射率小于预设折射率。
步骤303、将两个显示基板对盒成形。
步骤304、在对盒成形的两个显示基板之间添加填充物。
步骤305、在对盒成形的两个显示基板的侧面设置光源。
综上所述，本发明实施例提供了一种光波导显示装置的制造方法，由于在至少一个衬底基板上的预设膜层上形成了过渡层，在经过填充物的光线到达预设膜层之前，光线会首先到达过渡层，由于过渡层的折射率小于填充物在未加电压时的预设折射率，则光线能够在该过渡层上发生全反射，并不会从显示基板射出，防止了在不需要发光的子区域漏光，所以提高了光波导显示装置的显示效果。
填充物可以由液晶与高分子聚合物组成，液晶在加电压时具有目标折射率，在未加电压时具有预设折射率，且目标折射率与预设折射率不同，高分子聚合物在加电压和未加电压时均具有预设折射率，也即，液晶在不加电压时的折射率与加电压时的折射率不同，且与高分子聚合物的折射率相同，填充物在不加电压时的预设折射率为液晶的折射率(1.5～1.7)或高分子聚合物的折射率(1.5～1.7)。光源发出的光线在显示基板上的入射角大于预设临界角，该预设临界角可以为在未加电压时填充物与显示基板对应的临界角。示例的，该预设临界角可以为θc，其中，为的正弦的倒数，ng为预设折射率，na为显示基板的折射率。
可选的，步骤302中在至少一个形成有预设膜层的衬底基板上形成过渡层，可以包括：在每个衬底基板的预设膜层上形成过渡层。由于每个衬底基板上的预设膜层上均形成有过渡层，因此，在需要控制每个预设膜层中的某一位置不发光时，能够防止该位置发生漏光。
可选的，两个显示基板可以包括：阵列基板和盖板，也即该两个显示基板中的一个显示基板为阵列基板，另一个显示基板为盖板，其中，阵列基板的衬底基板上形成的预设膜层为像素电极，盖板的衬底基板上形成的预设膜层为公共电极，且该预设膜层的材质可以为纳米金或纳米银。由于纳米金的折射率(0.28-0.31)和纳米银的折射率(0.03～0.09)都远远小于预设折射率(1.5～1.7)，若存在光线到达预设膜层，由于预设膜层的折射率小于预设折射率，光线能够在该预设膜层上发生全反射，进一步的防止光线穿过该预设膜层。
可选的，步骤302中分别在两个衬底基板上形成预设膜层，可以包括：在阵列基板的衬底基板上形成绝缘层；在形成有绝缘层的衬底基板上形成源漏极金属图案；在形成有源漏极金属图案的衬底基板上形成预设膜层；在盖板的衬底基板上形成预设膜层；其中，源漏极金属图案的材质为铝。由于源漏极金属图案的材质为折射率(1.44)低于预设折射率(1.5～1.7)的铝，当光线到达源漏极金属图案时，由于源漏极金属图案的折射率小于预设折射率，光线能够在源漏极金属图案上发生全反射，防止光线在穿过源漏极金属图案后射出显示基板。
可选的，绝缘层的材质为二氧化硅。由于绝缘层的材质为折射率(1.48)低于预设折射率(1.5～1.7)的二氧化硅，当光线到达绝缘层时，由于绝缘层的折射率小于预设折射率，光线能够在绝缘层上发生全反射，防止光线在穿过绝缘层后射出显示基板。
本发明实施例中，在每个显示面板的衬底基板上的预设膜层上形成过渡层，并设置衬底基板上形成的所有膜层的材质为折射率小于预设折射率的材质，使得该显示面板中的所有与填充物相接触的膜层的折射率均小于预设折射率。
在需要控制光波导显示装置中的某一子区域发光时，可以对该子区域的液晶施加电压，由于在向该子区域的液晶施加电压后，该子区域的液晶的折射率发生了改变，入射光线在经过液晶并到达高分子聚合物时，液晶与高分子聚合物的折射率不同，所以，液晶会在高分子聚合物上发生折射，并最终折射至盖板，使得一部分到达盖板的入射光线的入射角度不大于填充物与盖板对应的临界角，也即，到达盖板的入射光线不满足全反射的条件，所以无法在盖板上发生全反射并会从盖板射出，使得该子区域发光。
在控制某一子区域不发光时，可以不对该子区域的液晶施加电压，此时，入射光线在射向盖板之前会经过液晶与高分子聚合物，由于该子区域的液晶和高分子聚合物的折射率相同，均为预设折射率，且均大于显示基板中与填充物直接相接触的任一膜层的折射率，所以，经过液晶和高分子聚合物之后的入射光线的传播方向不会发生改变，当入射光线到达显示基板时，入射光线满足全反射的条件，所以能够在显示基板上发生全反射，使得该子区域不发光，且不会漏光，进而减少了各个子区域之间的串扰，提高了光波导显示装置的对比度。
综上所述，本发明实施例提供了一种光波导显示装置的制造方法，由于在至少一个衬底基板上的预设膜层上形成了过渡层，在经过填充物的光线到达预设膜层之前，光线会首先到达过渡层，由于过渡层的折射率小于填充物在未加电压时的预设折射率，则光线能够在该过渡层上发生全反射，并不会从显示基板射出，防止了在不需要发光的子区域漏光，所以提高了光波导显示装置的显示效果。
所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的光波导显示装置的制造方法的具体工作过程，可以与前述光波导显示装置实施例中的过程相互参考，本发明实施例在此不再赘述。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种光波导显示装置，其特征在于，所述光波导显示装置包括：对盒成形的两个显示基板、位于两个显示基板之间的填充物以及设置在所述两个显示基板侧面的光源，所述填充物包括液晶和高分子聚合物，所述液晶在加电压时具有目标折射率，在未加电压时具有预设折射率，所述高分子聚合物在加电压和未加电压时均具有所述预设折射率，所述目标折射率与所述预设折射率不同，所述光源发出的光线在所述显示基板上的入射角大于预设临界角，所述预设临界角为在未加电压时所述填充物与所述显示基板对应的临界角，
每个所述显示基板的衬底基板上形成有预设膜层；
至少一个所述衬底基板的预设膜层上形成有过渡层，所述过渡层的折射率小于所述预设折射率。
2.根据权利要求1所述的光波导显示装置，其特征在于，
每个所述衬底基板的预设膜层上形成有过渡层。
3.根据权利要求2所述的光波导显示装置，其特征在于，所述两个显示基板包括：阵列基板和盖板，
所述阵列基板的衬底基板上形成的预设膜层为像素电极，所述盖板的衬底基板上形成的预设膜层为公共电极，所述预设膜层的材质为纳米金或纳米银。
4.根据权利要求3所述的光波导显示装置，其特征在于，
所述阵列基板的衬底基板上还形成有绝缘层；
形成有所述绝缘层的衬底基板上形成有源漏极金属图案；
形成有所述源漏极金属图案的衬底基板上形成有所述预设膜层，
其中，所述源漏极金属图案的材质为铝。
5.根据权利要求4所述的光波导显示装置，其特征在于，
所述绝缘层的材质为二氧化硅。
6.一种光波导显示装置的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
形成填充物，所述填充物包括液晶和高分子聚合物，所述液晶在加电压时具有目标折射率，在未加电压时具有预设折射率，所述高分子聚合物在加电压和未加电压时均具有所述预设折射率，所述目标折射率与所述预设折射率不同；
分别在两个衬底基板上形成预设膜层，并在至少一个所述衬底基板的预设膜层上形成过渡层，得到两个显示基板，所述过渡层的折射率小于所述预设折射率；
将所述两个显示基板对盒成形；
在对盒成形的两个显示基板之间添加所述填充物；
在对盒成形的两个显示基板的侧面设置光源，所述光源发出的光线在所述显示基板上的入射角大于预设临界角，所述预设临界角为在未加电压时所述填充物与所述显示基板对应的临界角。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述在至少一个形成有所述预设膜层的衬底基板上形成过渡层，包括：
在每个所述衬底基板的预设膜层上形成过渡层。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述两个显示基板包括：阵列基板和盖板，
所述阵列基板的衬底基板上形成的预设膜层为像素电极，所述盖板的衬底基板上形成的预设膜层为公共电极，所述预设膜层的材质为纳米金或纳米银。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，分别在两个衬底基板上形成预设膜层，包括：
在所述阵列基板的衬底基板上形成绝缘层；
在形成有所述绝缘层的衬底基板上形成源漏极金属图案；
在形成有所述源漏极金属图案的衬底基板上形成所述预设膜层；
在所述盖板的衬底基板上形成所述预设膜层；
其中，所述源漏极金属图案的材质为铝。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，
所述绝缘层的材质为二氧化硅。
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