CN106105723B

CN106105723B - 一种大垄平台栽培芸豆的方法

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Publication number: CN106105723B
Application number: CN201610565572.3A
Authority: CN
Inventors: 于崧; 张翼飞; 薛盈文; 郭伟; 刘梦红; 于立河
Original assignee: Heilongjiang Bayi Agricultural University
Current assignee: Heilongjiang Bayi Agricultural University
Priority date: 2016-07-18
Filing date: 2016-07-18
Publication date: 2019-06-07
Anticipated expiration: 2036-07-18
Also published as: CN106105723A

Abstract

本发明涉及一种大垄平台栽培芸豆的方法，属于芸豆栽培技术领域。秋整地起垄，在所述垄两侧设垄沟，所述垄设垄台，分别对垄沟和垄台中间部位进行深松，以起垄前的土地表面为基准，所述垄沟的深松深度为30～40cm，垄台中间的深松深度为15～30cm；整地时，将基肥施于垄台中间；将种肥施于播种位置下方；在垄台上进行芸豆的播种，所述播种共3行，形成3条苗带，所述播种的行间距为25～30cm，所述芸豆的品种为直立或半蔓生型抗倒高产芸豆品种；将追肥分别施于垄上左右两侧的苗带外侧，所述追肥施于垄台下方。本发明结合深松、播种和施肥的栽培方法，通透性好、抗逆性强，改善了芸豆群体光合作用生产效率和肥料利用率，可实现芸豆丰产优质高效生产。

Description

一种大垄平台栽培芸豆的方法

技术领域

本发明涉及芸豆栽培技术领域，尤其涉及一种大垄平台栽培芸豆的方法。

背景技术

芸豆(Phaseolus vulgaris L.)学名普通菜豆，为豆科(Leguminosae)蝶形花亚科(Faboideae)菜豆属(Phaseolus)一年生草本植物，是人类主要的食用豆类之一，其籽粒含有丰富的蛋白质、膳食纤维、碳水化合物以及多种人体必需的维生素、矿物质(铜、钙、铁、镁、锰和锌)，是许多国家十分重要的植物蛋白质营养来源，为解决贫困地区营养缺乏和人类繁衍生存发挥了巨大作用，也是发达地区调节膳食结构的良好食品。近些年，芸豆被认为可以作为肉类产品的替代食物，并且其体内含有较多酚酸、类黄酮、植物性荷尔蒙(异黄素)、花青素以及凝缩类单宁等物质，具有抗氧化性强、降低糖病患者的血糖指数，增加饱腹感，预防心脑血管疾病和粥样动脉硬化、抑制肿瘤细胞发展等功效，受到医学界和人民大众的广泛重视。

目前全世界有90多个国家和地区种植芸豆，总面积为290万hm²，占全部食用豆类播种面积的40％，总产量达230万吨，占全部食用豆类总产量的30％。我国芸豆种植面积约100万hm²，总产量150万吨左右，是主要的出口粮食产品。2008年以来出口量一直在70～75万吨之间，占全国粮食出口总量的20％～30％，创汇在5～7亿美元，占全国粮食出口总额的30％～40％，成为我国优势出口农产品之一。

我国芸豆主要在东北、华北、西北和西南的高寒、冷凉地区种植，其中东北区的黑龙江、内蒙古是我国芸豆主产区，面积、产量占全国60％以上，出口量占全国80％以上。但与其他国家芸豆生产相比，我国芸豆产量还具有很大的上升空间，提高单产是未来芸豆产业发展的方向，产量的提升对于促进芸豆产业的可持续发展具有重要的意义。当前芸豆种植户耕作粗放，农民在芸豆生产上往往延续传统的芸豆匀密种植模式，常规的栽培模式芸豆产量低，机械化收获损失大。

发明内容

本发明的目的在于提供一种大垄平台栽培芸豆的方法。该方法中土壤通透性好，群体通风透光效果好，垄体温度更有利于芸豆的生长，本发明方法栽培的芸豆产量高，单株粒数和粒重显著增加。

本发明提供了一种大垄平台栽培芸豆的方法，包括以下步骤：

秋整地起垄，在所述垄两侧设垄沟，所述垄设垄台，分别对垄沟和垄台中间部位进行深松，以起垄前的土地表面为基准，所述垄沟的深松深度为30～40cm，垄台中间的深松深度为15～30cm；

整地时，将基肥施于垄台中间；

将种肥施于播种位置下方；

在垄台上进行芸豆的播种，所述播种共3行，形成3条苗带，所述播种的行间距为25～30cm，所述芸豆的品种为直立或半蔓生型抗倒高产芸豆品种；

将追肥分别施于垄上左右两侧的苗带外侧，所述追肥施于垄台下方。

优选的是，所述垄的垄距为100～130cm，垄台宽度70～100cm。

优选的是，所述整地起垄过程中，每平方米中最大外径尺寸≥5cm的土块不超过5个。

优选的是，所述垄台的上表面与垄沟表面的垂直距离为15～25cm。

优选的是，垄间行距为垄沟两侧播种位置的水平距离，所述垄间行距为40～80cm。

优选的是，所述播种的株距为12～20cm；所述播种的深度为3～5cm；所述播种的密度为15～20万株/公顷。

优选的是，以垄台上表面为基准，所述基肥施用深度为15～20cm；所述种肥施于播种位置下方3～5cm；所述追肥施用在垄上左右两侧的苗带外侧水平距离10～15cm，深度13～18cm处。

优选的是，所述基肥、种肥和追肥施用的重量比为(2～3)：(1～2)：1。

优选的是，所述芸豆的品种为龙芸4号芸豆、龙芸5号芸豆、奶白花芸豆、英国红芸豆或紫花芸豆。

优选的是，所述追肥在花荚期进行。

本发明提供了一种大垄平台栽培芸豆的方法，本发明提供的栽培方法土壤和群体通透性好、个体抗逆性强，大幅度增加了芸豆对水、肥、光、热等资源的利用，实现了芸豆丰产优质高效生产，通过对垄进行设计，使垄更利于储存热量；肥料的施用方式使得芸豆的肥料利用率更高；结合本发明栽培方法良好的土壤通透性和田间群体通风透光效果，本发明得到的芸豆单株粒数和粒重明显提升，芸豆产量也得到显著增加。与常规栽培模式相比，本发明方法栽培的芸豆增产可达14.68％，芸豆的单株荚数、单荚粒数和千粒重分别比常规栽培模式高出7.92％、5.39％、6.44％，此外，其单株分枝数也明显高于常规栽培方法。

附图说明

图1是本发明实施例1提供的芸豆栽培的大垄平台的正面剖视图；

图2是本发明实施例1提供的芸豆栽培的大垄平台的俯视图；

图3是本发明实施例3提供的大垄平台栽培和常规栽培模式下芸豆的单株荚数；

图4是本发明实施例3提供的大垄平台栽培和常规栽培模式下芸豆的单荚粒数；

图5是本发明实施例3提供的大垄平台栽培和常规栽培模式下芸豆的千粒重。

具体实施方式

整地时，将基肥施于垄台中间；

将种肥施于播种位置下方；

本发明的芸豆栽培的大垄平台结构示意图如图1和图2所示，其中图1为芸豆栽培的大垄平台的正面剖视图：1表示垄沟深松部位、2表示垄台中间深松部位、3表示基肥的施用位置、4表示种肥的施用位置、5表示追肥的施用位置、6表示种子的播种位置。

在本发明中，秋整地起垄，在所述垄两侧设垄沟，所述垄设垄台，分别对垄沟和垄台中间部位进行深松，以起垄前的土地表面为基准，所述垄沟的深松深度为30～40cm，垄台中间的深松深度为15～30cm。

在本发明中，所述起垄的时间具体为10月中下旬，即在秋季前茬作物收获后，进行秋季耕整地、起垄夹肥连续作业。

在本发明中，所述垄的垄距优选为100～130cm，更优选为110cm；所述垄台的宽度优选为70～100cm，更优选为80cm。

所述整地起垄过程中，每平方米中最大外径尺寸≥5cm的土块不超过5个，要保证垄台平整。

在本发明中，垄台的上表面与垄沟表面的垂直距离，即垄台的高度为15～25cm，更优选为18cm。

在本发明中，秋整地起垄时，将基肥施于垄台中间；所述播种优选在春季进行，播种前，将种肥施于播种位置下方；在垄两侧的播种位置外侧的垄台下方施加追肥。在本发明中，所述基肥、种肥和追肥组成优选相同，所述肥料包括重量份为40～70份的尿素、120～150份的磷酸二铵和40～60份的硫酸钾。所述基肥、种肥和追肥的原料更优选包括55～65份的尿素、130～145份的磷酸二铵和45～55份的硫酸钾。所述基肥、种肥和追肥的施用总量优选为每公顷200～280kg，更优选为230～265kg。本发明对所述的尿素、磷酸二铵和硫酸钾的来源没有特殊的限定，采用本领域常规技术人员熟知的尿素、磷酸二铵和硫酸钾的市售产品即可，优选选取含N≥46％的尿素，含N≥18％、P₂O₅≥46％的磷酸二铵，含K₂O≥50％的硫酸钾。

在本发明中，以垄台上表面为基准，所述基肥施用深度为15～20cm，更优选为18cm；所述种肥施于播种位置下方3～5cm；所述追肥施用在垄上左右两侧的苗带外侧水平距离10～15cm，更优选为12cm，深度13～18cm处，更优选为15cm。

在本发明中，所述基肥、种肥和追肥施用的重量比为(2～3)：(1～2)：1，更优选为2.5：1.5：1。

施用基肥和种肥以后，本发明选用直立或半蔓生型抗倒高产优质芸豆品种，优选在垄台上进行3行精量点播，中央苗带位于垄台中心，两侧苗带分别距离中央苗带25～30cm，即垄上行间距为25～30cm，更优选为26～28cm；垄间行距为垄沟两侧播种位置的水平距离，所述垄间行距优选为40～80cm，更优选为55～70cm；本发明播种的株距优选为12～20cm，更优选为15～18cm；所述播种密度优选为每公顷15～20万株，更优选为16～18万株/公顷；所述播种的深度优选为3～5cm，更优选为4cm。

在本发明中，所述芸豆的品种具体为龙芸4号芸豆、龙芸5号芸豆、奶白花芸豆、英国红芸豆或紫花芸豆。

在本发明中，所述追肥在花荚期进行。

下面结合实施例，对本发明提供的大垄平台栽培芸豆的方法进行详细的描述，但是不能将它们理解为对本申请保护范围的限定。

实施例1

半蔓生型抗倒高产优质芸豆品种的栽培

秋整地起垄，垄距为130cm，垄台宽度为95cm，垄台的上表面与垄沟表面的垂直距离为20cm，以起垄前土地表面为基准，分别对垄沟和垄台中间部位进行深松，垄沟的深松深度为30cm，垄台中间的深松深度为20cm。垄台的结构示意图如图1、图2所示，图1为芸豆栽培的大垄平台的正面剖视图，图2为芸豆栽培的大垄平台的俯视图。

秋季整地起垄时，将基肥施于垄台中间深度15cm处(以垄台上表面为基准)；春季播种前，将种肥施于播种位置下方5cm处。

随后，在垄台上进行芸豆精量点播，共设3行，垄上苗带行间距为28cm，垄间行距为74cm，播种的株距为15cm，播种密度每公顷15.5万株，播种的深度为5cm；于花荚期，在垄上左右两侧的苗带外侧水平距离15cm，深度16cm处追肥。

基肥、种肥和追肥施用的重量比为2：1.5：1。每公顷施加的基肥、种肥和追肥总量为260kg，每公顷农田土壤总共施用60份的尿素(N≥46％)，145份的磷酸二铵(N≥18％、P₂O₅≥46％)和55份的硫酸钾(K₂O≥50％)。

实施例2

直立型抗倒高产优质芸豆品种的栽培

秋整地起垄，垄距为110cm，垄台宽度为80cm，垄台的上表面与垄沟表面的垂直距离为22cm，以起垄前土地表面为基准，分别对垄沟和垄台中间部位进行深松，垄沟的深松深度为35cm，垄台中间的深松深度为25cm。垄台的结构示意图如图1、图2所示，图1为芸豆栽培的大垄平台的正面剖视图，图2为芸豆栽培的大垄平台的俯视图。

秋季整地起垄时，将基肥施于垄台中间深度20cm处(以垄台上表面为基准)；春季播种前，将种肥施于播种位置下方4cm处。

随后，在垄台上进行芸豆精量点播，共设3行，垄上苗带行间距为25cm，垄间行距为60cm，播种的株距为15cm，播种密度每公顷18万株，播种的深度为4cm；于花荚期，在垄上左右两侧的苗带外侧水平距离12cm，深度18cm处追肥。

基肥、种肥和追肥施用的重量比为2.5：1.5：1。每公顷施加的基肥、种肥和追肥总量为240kg，每公顷农田土壤总共施用55份的尿素(N≥46％)，135份的磷酸二铵(N≥18％、P₂O₅≥46％)和50份的硫酸钾(K₂O≥50％)。

采用上述技术方案提供的大垄平台栽培芸豆的方法，进行芸豆的栽培。2014～2015年在黑龙江省肇源县、杜蒙县、尖山农场、二龙山农场、龙门农场、双峰农场选取6个试验点，栽培结果如表1所示，芸豆大垄平台栽培模式2年平均产量，比常规栽培模式增产14.68％。

表1 2014～2015年不同试验点芸豆产量比较

以2014～2015年黑龙江省尖山农场的田间试验产量构成因素调查数据为例(图1～图3)，2014年大垄平台栽培模式下芸豆的单株荚数、单荚粒数和百粒重分别比常规栽培模式高出7.92％、5.39％、6.44％；2015年大垄平台栽培模式下芸豆的单株荚数、单荚粒数和百粒重分别比常规栽培模式高出9.08％、5.23％、4.64％，其中单株荚数和百粒重均达显著水平(P＜0.05)。由此可见，在种植密度一定的条件下，大垄平台栽培模式可以有效提高单株荚数和百粒重，实现单株粒数和粒重的提升，进而促进芸豆产量的明显增加。。

由表2可以发现，不同栽培模式下芸豆的相关农艺性状存在一定的差异。其中，常规栽培模式下芸豆株高明显(P＜0.05)高于大垄平台栽培模式4.81％～6.01％，这可能是由于在大垄平台栽培条件下，芸豆植株在生长旺盛期群体的通风透光性得到改善，常规栽培模式由于郁闭程度相对较大，个体植株为接受更多阳光而出现植株高度增加的现象。单株分枝数方面，大垄平台栽培模式也比常规栽培显著多0.8～0.9个，这说明在相同种植密度条件下，大垄平台栽培模式在保证适宜群体优势的同时，可进一步促进个体优势的发挥。但不同栽培模式条件下，芸豆主茎节数、荚长差异未达显著水平。

表2不同栽培模式下芸豆主要农艺性状比较

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims

1.一种大垄平台栽培芸豆的方法，包括以下步骤：

整地时，将基肥施于垄台中间；

将种肥施于播种位置下方；

在垄台上对芸豆进行播种，所述播种共3行，形成3条苗带，所述播种的行间距为25～30cm，所述芸豆的品种为直立或半蔓生型抗倒高产芸豆品种；

将追肥分别施于垄上左右两侧的苗带外侧，所述追肥施于垄台下方；

所述垄的垄距为100～130cm，垄台宽度70～100cm，垄间行距为垄沟两侧播种位置的水平距离，所述垄间行距为40～80cm。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述整地起垄过程中，每平方米中最大外径尺寸≥5cm的土块不超过5个。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述垄台的上表面与垄沟表面的垂直距离为15～25cm。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述播种的株距为12～20cm；所述播种的深度为3～5cm；所述播种的密度为(15～20)万株/公顷。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，以垄台上表面为基准，所述基肥施用深度为15～20cm；所述种肥施于播种位置下方3～5cm；所述追肥施用在垄上左右两侧的苗带外侧水平距离10～15cm，深度13～18cm处。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基肥、种肥和追肥施用的重量比为(2～3)∶(1～2)∶1。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述芸豆的品种为龙芸4号芸豆、龙芸5号芸豆、奶白花芸豆、英国红芸豆或紫花芸豆。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述追肥在花荚期进行。