CN106093094A - 一种介质材料的二次电子能谱测量装置及测量方法 - Google Patents
一种介质材料的二次电子能谱测量装置及测量方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN106093094A CN106093094A CN201610570359.1A CN201610570359A CN106093094A CN 106093094 A CN106093094 A CN 106093094A CN 201610570359 A CN201610570359 A CN 201610570359A CN 106093094 A CN106093094 A CN 106093094A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- mesh grid
- sample
- secondary electron
- electron
- bias
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
本发明提供一种介质材料的二次电子能谱测量装置及测量方法,测量装置包括置于高真空系统中的脉冲电子枪、筒状收集极、网状栅极、样品和金属样品托;筒状收集极上开设有圆孔,脉冲电子枪发出的入射电子束穿过筒状收集极上的圆孔和网状栅极垂直照射到样品上,网状栅极连接示波器;样品与下方的金属样品托紧密相贴并通过电阻R1接地,收集极的偏压设置为零,网状栅极经过开关Kg与外加电源连接,网状栅极加负偏压,测量过程中样品表面的电荷通过网状栅极加负偏压的方法被中和掉,流过网状栅极的电流Ig经过电阻Rg后用示波器测出;该装置结构简单,成本低,而且测量方法也简便,测量周期短,效率高。
Description
技术领域
本发明属于电子科学与技术领域,具体涉及一种介质材料的二次电子能谱测量装置及测量方法。
背景技术
当入射电子照射样品时,从材料表面会有二次电子发射。从样品发射出的二次电子,其能量具有一定的分布规律。测量该分布规律(也称作能谱),对于研究二次电子发射的机理和应用有十分重要的意义。
金属材料二次电子的能谱可以在电子连续照射样品的情况下,采用能谱仪直接对能谱进行测量。在进行介质材料二次电子能谱的测量时,由于介质材料导电性差,使得在测量过程中介质材料表面产生带电现象,这就需要采用脉冲电子束照射样品来实现二次电子能谱的测量。由于一般能谱仪不能工作在脉冲状态下,因此能谱仪无法直接用于测量介质材料的二次电子能谱。
采用负偏压的栅电极阻挡法,也是常见的金属材料二次电子能谱的测量方法。将这种方法应用到介质材料二次电子能谱测量技术中,必须设法消除测量过程中材料表面的带电现象。否则,带电现象导致样品表面电位发生改变,致使材料二次电子能谱的测量不准确甚至无法进行测量。
为了消除或减弱材料的带电现象对能谱测量的影响,可以采用的方法有,在两次脉冲电子照射样品的间隔期间,设法对样品加热,使样品表面已经带的电荷泄放出去。这种方法测量周期长,很费时间,因而测量效率不高。也可以采用辅助的直流脉冲电子枪或离子枪作为中和枪,测量时中和枪与脉冲电子枪交替配合使用,消除样品表面的带电。这种方法的测量装置非常复杂,成本较高,而且测量方法也复杂。
发明内容
针对现有技术从在的不足,本发明的目的在于提供一种简单、方便的介质材料的二次电子能谱测量装置及测量方法,系统结构简单,成本低,而且测量方法简便,测量周期短,效率高。
为达到上述目的本发明采用如下方案:
一种介质材料的二次电子能谱测量装置,包括置于高真空系统中的脉冲电子枪、筒状收集极、网状栅极、样品和金属样品托;筒状收集极上开设有圆孔,脉冲电子枪发出的入射电子束穿过筒状收集极上的圆孔和网状栅极垂直照射到样品上,网状栅极连接示波器;样品与下方的金属样品托紧密相贴并通过电阻R1接地,收集极的偏压设置为零,网状栅极经过开关Kg与外加电源连接,网状栅极加负偏压,测量过程中样品表面的电荷通过网状栅极加负偏压的方法被中和掉,流过网状栅极的电流Ig经过电阻Rg后用示波器测出。
进一步,所述网状栅极的电子透过率大于90%。网状栅极与样品之间的距离为1~5mm。
进一步,所述网状栅极所加负偏压为0~-100V,偏压可调。
进一步,包括以下步骤:
步骤一、基于平面网状栅极负偏压阻挡法对二次电子能谱的测量;
首先测量样品二次电子发射系数与网状栅极偏压的关系曲线,然后将关系曲线对网状栅极偏压进行微分处理,得到能谱分布;
步骤二、测量过程中样品表面电荷的中和;
在两次测量之间,对前一次测量后表面累积的电荷进行中和,设置网状栅极偏压为一个合适的负偏压,若原先样品表面电位较网状栅极偏压为正,由样品出射的二次电子被反射回样品,使得样品表面电位下降;反之,若原先样品表面电位较网状栅极偏压为负,由样品出射的二次电子被收集极接收,使得样品表面电位上升。
进一步,所述步骤一,二次电子能谱满足式(1):
其中,E代表二次电子的能量,φ为与样品材料相关的一个系数;
将式(1)进行积分,得到能量大于E的二次电子的分布,即二次电子发射系数与网状栅极偏压的关系曲线,即式(2);
进一步,所述步骤二,中和时将网状栅极偏压设为-1~-5V。
进一步,所述步骤二,中和时触发脉冲电子枪使其输出周期性的脉冲电子束照射样品,入射电子能量为200eV。
进一步,具体测量过程如下:
(1)准备阶段:将真空室抽至高真空状态,待气压低于3×10-3Pa后,开启脉冲电子枪的控制系统,调节脉冲电子枪参数,使脉冲电子枪处于良好的聚焦状态;
(2)对样品中和:固定电子束入射能量为200eV;将网状栅极偏压设为-1~-5V,触发脉冲电子枪工作于连续输出脉冲状态,中和时间1分钟;
(3)二次电子发射系数与网状栅极偏压的关系曲线的测量:给定电子束入射能量;设定网状栅极偏压为某个值,触发单次电子束照射样品,读出收集极、网状栅极、样品电流I2、Ig和I1,然后按照(3)式计算二次电子发射系数:
其中t代表网状栅极的透过率;
(4)重复(2)~(3)的过程,直至获得某一入射电子能量下的二次电子发射系数与网状栅极偏压的关系曲线;
(5)对所测得的二次电子发射系数与网状栅极偏压的关系曲线对网状栅极偏压求导,即得到二次电子能谱。
本发明的测量装置主要由置于高真空系统中的脉冲电子枪、筒状收集极、平面金属栅网电极、样品和金属样品托组成,测量过程中材料表面的电荷通过网状栅极加负偏压的方法被中和掉,该装置结构简单,成本低,而且测量方法也简便,测量周期短,效率高。
附图说明
图1介质材料二次电子能谱测量装置示意图
图2测量的PMMA材料二次电子能谱图
具体实施方式
下面通过实施例,对本发明作进一步的说明,但本发明并不限于以下实施例。
图1所示的是介质材料二次电子能谱测量装置的原理示意图。其中,脉冲电子枪1、筒状收集极2、网状栅极3、样品4以及平板金属样品5托被置于高真空系统中。当脉冲电子枪发出的入射电子束,以一定的能量穿过筒状收集极2上的圆孔和网状栅极,垂直照射到样品4上时,样品便产生二次电子。测量时,真空度约为2~4×10-4Pa。样品与下方的金属样品托紧密相贴并通过电阻R1接地。
为了避免收集极电位对平面网状栅极与样品之间的电场产生影响,收集极的偏压一般设置为零。为了尽可能减小网状栅极截获电子,网状栅极对应的电子透过率大于90%。平面网状栅极与样品之间的距离一般在1~5mm之间。网状栅极经过开关Kg与外加电源连接,网状栅极所加的偏压的范围为0~-100V可调。流过网状栅极的电流Ig经过电阻Rg后用示波器测出,R2用于测量收集极电流。
2、介质材料的二次电子能谱测量测量方法
测量介质材料二次电子能谱,主要由两个步骤组成。
步骤一是基于平面网状栅极负偏压阻挡法对二次电子能谱的测量,
平面网状栅极负偏压阻挡法测量二次电子能谱的基本原理是,首先测量样品二次电子发射系数与网状栅极偏压的关系曲,即S曲线,然后将S曲线对网状栅极偏压进行微分处理,就得到能谱分布。
一般,二次电子能谱满足Everhart给出的形式,即式(1):
其中,E代表二次电子的能量,φ为与样品材料有关的一个系数。
将能谱表达式(1)进行积分,得到能量大于E的二次电子的分布,即所谓的S曲线,即式(2)。
在本发明中,通过改变网状栅极偏压,测量与网状栅极偏压相应的二次电子发射系数δ,即可测量出S曲线。在测量二次电子发射系数时,我们触发脉冲电子枪使其输出单次脉冲电子束,从示波器中分别测量出收集极、网状栅极和样品所接收到的电流I2、Ig和I1,然后按照(3)式计算二次电子发射系数:
其中t代表网状栅极的透过率。
步骤二是测量过程中样品表面电荷的中和。
当上一次测量工作完成后,样品表面会累积电荷,这会影响下一次测量的准确度。因此,在两次测量之间,应该对前一次测量后表面累积的电荷进行中和。中和的基本原理是,设置网状栅极偏压为一个合适的负偏压,这样,若原先样品表面电位较网状栅极偏压为正,由样品出射的二次电子被反射回样品,使得样品表面电位下降。反之,若原先样品表面电位较网状栅极偏压为负,由样品出射的二次电子被收集极接收,使得样品表面电位上升。
中和时,触发脉冲电子枪使其输出周期性的脉冲电子束照射样品,入射电子能量选取为200eV。设置网状栅极偏压为负偏压,其值根据不同的样品材料,一般为-1~-5V。
3、具体测量过程
(1)准备阶段:将真空室抽至高真空状态,待气压低于3×10-3Pa后,开启脉冲电子枪的控制系统,调节脉冲电子枪参数,使脉冲电子枪处于良好聚焦状态。
(2)对样品中和:固定电子束入射能量为200eV;将网状栅极偏压设为-1~-5V(根据样品材料而定);触发脉冲电子枪工作于连续输出脉冲状态。中和时间约1分钟。
(3)S曲线的测量:给定电子束入射能量;设定网状栅极偏压为某个值,触发单次电子束照射样品,读出收集极、网状栅极、样品电流,按照(3)式计算二次电子发射系数。
(4)重复(2)~(3)的过程,直至获得某一入射电子能量下的S曲线。
(5)对所测得的S曲线对网状栅极偏压求导,即得到二次电子能谱。
按照本发明方法,我们测量了厚度约0.3mm的PMMA样品的二次电子能谱,结果如图2所示。测量结果表明,PMMA样品能谱的峰值位于1.54eV,半高宽为5.17eV。
Claims (8)
1.一种介质材料的二次电子能谱测量装置,其特征在于:包括置于高真空系统中的脉冲电子枪(1)、筒状收集极(2)、网状栅极(3)、样品(4)和金属样品托(5);
筒状收集极(2)上开设有圆孔,脉冲电子枪(1)发出的入射电子束穿过筒状收集极(2)上的圆孔和网状栅极(3)垂直照射到样品(4)上,网状栅极(3)连接示波器;
样品(4)与下方的金属样品托(5)紧密相贴并通过电阻R1接地,收集极的偏压设置为零,网状栅极(3)经过开关(Kg)与外加电源连接,网状栅极(3)加负偏压,测量过程中样品(4)表面的电荷通过网状栅极(3)加负偏压的方法被中和掉,流过网状栅极(3)的电流Ig经过电阻Rg后用示波器测出。
2.如权利要求1所述的介质材料的二次电子能谱测量装置,其特征在于:所述网状栅极(3)的电子透过率大于90%。网状栅极(3)与样品(4)之间的距离为1~5mm。
3.如权利要求1所述的介质材料的二次电子能谱测量装置,其特征在于:所述网状栅极(3)所加负偏压为0~-100V,偏压可调。
4.一种基于权利要求1装置的介质材料的二次电子能谱测量方法,其特征在于包括以下步骤:
步骤一、基于平面网状栅极负偏压阻挡法对二次电子能谱的测量;
首先测量样品(4)二次电子发射系数与网状栅极偏压的关系曲线,然后将关系曲线对网状栅极(3)偏压进行微分处理,得到能谱分布;
步骤二、测量过程中样品表面电荷的中和;
在两次测量之间,对前一次测量后表面累积的电荷进行中和,设置网状栅极偏压为一个合适的负偏压,若原先样品表面电位较网状栅极偏压为正,由样品出射的二次电子被反射回样品,使得样品表面电位下降;反之,若原先样品表面电位较网状栅极偏压为负,由样品出射的二次电子被收集极接收,使得样品表面电位上升。
5.如权利要求4所述的介质材料的二次电子能谱测量方法,其特征在于:所述步骤一,二次电子能谱满足式(1):
其中,E代表二次电子的能量,φ为与样品材料相关的功函数;
将式(1)进行积分,得到能量大于E的二次电子的分布,即二次电子发射系数与网状栅极偏压的关系曲线,即式(2);
6.如权利要求4所述的介质材料的二次电子能谱测量方法,其特征在于:所述步骤二,中和时将网状栅极偏压设为-1~-5V。
7.如权利要求4所述的介质材料的二次电子能谱测量方法,其特征在于:所述步骤二,中和时触发脉冲电子枪(1)使其输出周期性的脉冲电子束照射样品,入射电子能量为200eV。
8.如权利要求4所述的介质材料的二次电子能谱测量方法,其特征在于:具体测量过程如下:
(1)准备阶段:将真空室抽至高真空状态,待气压低于3×10-3Pa后,开启脉冲电子枪的控制系统,调节脉冲电子枪参数,使脉冲电子枪处于良好的聚焦状态;
(2)对样品中和:固定电子束入射能量为200eV;将网状栅极偏压设为-1~-5V,触发脉冲电子枪工作于连续输出脉冲状态,中和时间1分钟;
(3)二次电子发射系数与网状栅极偏压的关系曲线的测量:给定电子束入射能量;设定网状栅极偏压为某个值,触发单次电子束照射样品,读出收集极、网状栅极、样品电流I2、Ig和I1,然后按照(3)式计算二次电子发射系数:
其中t代表网状栅极的透过率;
(4)重复(2)~(3)的过程,直至获得某一入射电子能量下的二次电子发射系数与网状栅极偏压的关系曲线;
(5)对所测得的二次电子发射系数与网状栅极偏压的关系曲线对网状栅极偏压求导,即得到二次电子能谱。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610570359.1A CN106093094B (zh) | 2016-07-19 | 2016-07-19 | 一种介质材料的二次电子能谱测量装置及测量方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610570359.1A CN106093094B (zh) | 2016-07-19 | 2016-07-19 | 一种介质材料的二次电子能谱测量装置及测量方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN106093094A true CN106093094A (zh) | 2016-11-09 |
CN106093094B CN106093094B (zh) | 2019-07-23 |
Family
ID=57220862
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201610570359.1A Active CN106093094B (zh) | 2016-07-19 | 2016-07-19 | 一种介质材料的二次电子能谱测量装置及测量方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN106093094B (zh) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109060855A (zh) * | 2018-08-23 | 2018-12-21 | 中国工程物理研究院流体物理研究所 | 一种金属表面二次电子发射系数测试方法 |
CN109142414A (zh) * | 2018-08-23 | 2019-01-04 | 中国工程物理研究院流体物理研究所 | 一种金属表面二次电子能谱分布测试方法 |
CN109142409A (zh) * | 2018-10-15 | 2019-01-04 | 中国科学院高能物理研究所 | 高、低温环境中材料二次电子特性参数的测量装置和方法 |
CN110133462A (zh) * | 2019-05-20 | 2019-08-16 | 国网陕西省电力公司 | 基于空间电荷效应的复合绝缘子老化性能试验系统及方法 |
CN110146529A (zh) * | 2019-05-16 | 2019-08-20 | 中国科学院高能物理研究所 | 一种测量介质材料二次电子发射系数的方法 |
CN110161065A (zh) * | 2018-02-11 | 2019-08-23 | 中国科学院电工研究所 | 一种二次电子发射系数测量和能谱分析装置 |
CN113533404A (zh) * | 2021-07-13 | 2021-10-22 | 中国工程物理研究院流体物理研究所 | 一种绝缘介质材料二次电子产额测试方法及应用 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000070646A1 (en) * | 1999-05-14 | 2000-11-23 | Applied Materials, Inc. | Secondary electron spectroscopy method and system |
CN101167155A (zh) * | 2005-04-25 | 2008-04-23 | 瓦里安半导体设备公司 | 倾斜等离子掺杂 |
CN102109477A (zh) * | 2010-12-31 | 2011-06-29 | 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所 | 一种区分材料二次电子和背散射电子的测试装置 |
JP2011238400A (ja) * | 2010-05-07 | 2011-11-24 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査電子顕微鏡及び走査電子顕微鏡による試料検査方法 |
CN202066807U (zh) * | 2011-05-17 | 2011-12-07 | 华南理工大学 | 适用于固体材料二次电子发射系数智能测试的电子收集器 |
CN103713001A (zh) * | 2013-12-03 | 2014-04-09 | 西安交通大学 | 介质薄膜的二次电子发射系数的测量系统及其测量方法 |
CN103776857A (zh) * | 2014-01-17 | 2014-05-07 | 西安交通大学 | 用于二次电子发射系数测量的半球型电子收集装置及测量方法 |
CN103776858A (zh) * | 2014-01-17 | 2014-05-07 | 西安交通大学 | 一种测量二次电子发射系数的平板型收集装置及测量方法 |
CN105092626A (zh) * | 2015-07-13 | 2015-11-25 | 中国科学院高能物理研究所 | 二次电子特性参数的测量装置和方法 |
-
2016
- 2016-07-19 CN CN201610570359.1A patent/CN106093094B/zh active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000070646A1 (en) * | 1999-05-14 | 2000-11-23 | Applied Materials, Inc. | Secondary electron spectroscopy method and system |
CN101167155A (zh) * | 2005-04-25 | 2008-04-23 | 瓦里安半导体设备公司 | 倾斜等离子掺杂 |
JP2011238400A (ja) * | 2010-05-07 | 2011-11-24 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査電子顕微鏡及び走査電子顕微鏡による試料検査方法 |
CN102109477A (zh) * | 2010-12-31 | 2011-06-29 | 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所 | 一种区分材料二次电子和背散射电子的测试装置 |
CN202066807U (zh) * | 2011-05-17 | 2011-12-07 | 华南理工大学 | 适用于固体材料二次电子发射系数智能测试的电子收集器 |
CN103713001A (zh) * | 2013-12-03 | 2014-04-09 | 西安交通大学 | 介质薄膜的二次电子发射系数的测量系统及其测量方法 |
CN103776857A (zh) * | 2014-01-17 | 2014-05-07 | 西安交通大学 | 用于二次电子发射系数测量的半球型电子收集装置及测量方法 |
CN103776858A (zh) * | 2014-01-17 | 2014-05-07 | 西安交通大学 | 一种测量二次电子发射系数的平板型收集装置及测量方法 |
CN105092626A (zh) * | 2015-07-13 | 2015-11-25 | 中国科学院高能物理研究所 | 二次电子特性参数的测量装置和方法 |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
FRANCESCO TACCOGNA: "Plasma-surface interaction model with secondary electron emission effects", 《PHYSICS OF PLASMAS》 * |
SUHARYANTO.ET AL: "Secondary Electron Emission and Surface Charging Evaluation of Alumina Ceramics and Sapphire", 《IEEE TRANSACTIONS ON DIELECTRICS AND ELECTRICAL INSULATION》 * |
翁明等: "基于负偏压收集极的绝缘体二次电子发射系数测量", 《真空科学与技术学报》 * |
谢爱根等: "绝缘体二次电子发射系数测量装置的研制", 《强激光与粒子束》 * |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110161065A (zh) * | 2018-02-11 | 2019-08-23 | 中国科学院电工研究所 | 一种二次电子发射系数测量和能谱分析装置 |
CN109060855A (zh) * | 2018-08-23 | 2018-12-21 | 中国工程物理研究院流体物理研究所 | 一种金属表面二次电子发射系数测试方法 |
CN109142414A (zh) * | 2018-08-23 | 2019-01-04 | 中国工程物理研究院流体物理研究所 | 一种金属表面二次电子能谱分布测试方法 |
CN109142409A (zh) * | 2018-10-15 | 2019-01-04 | 中国科学院高能物理研究所 | 高、低温环境中材料二次电子特性参数的测量装置和方法 |
CN109142409B (zh) * | 2018-10-15 | 2023-10-27 | 中国科学院高能物理研究所 | 高、低温环境中材料二次电子特性参数的测量装置和方法 |
CN110146529A (zh) * | 2019-05-16 | 2019-08-20 | 中国科学院高能物理研究所 | 一种测量介质材料二次电子发射系数的方法 |
CN110133462A (zh) * | 2019-05-20 | 2019-08-16 | 国网陕西省电力公司 | 基于空间电荷效应的复合绝缘子老化性能试验系统及方法 |
CN110133462B (zh) * | 2019-05-20 | 2021-06-08 | 国网陕西省电力公司 | 基于空间电荷效应的复合绝缘子老化性能试验系统及方法 |
CN113533404A (zh) * | 2021-07-13 | 2021-10-22 | 中国工程物理研究院流体物理研究所 | 一种绝缘介质材料二次电子产额测试方法及应用 |
CN113533404B (zh) * | 2021-07-13 | 2023-04-28 | 中国工程物理研究院流体物理研究所 | 一种绝缘介质材料二次电子产额测试方法及应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106093094B (zh) | 2019-07-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106093094A (zh) | 一种介质材料的二次电子能谱测量装置及测量方法 | |
Fritzler et al. | Emittance measurements of a laser-wakefield-accelerated electron beam | |
EP0534935B1 (en) | Method and apparatus for generating particle beams | |
Kadota et al. | Plasma diagnostics by neutral beam probing | |
CN104165639B (zh) | 一种x射线脉冲探测器测试标定光源的方法及装置 | |
CN110146529A (zh) | 一种测量介质材料二次电子发射系数的方法 | |
Sorokin et al. | Method based on atomic photoionization for spot-size measurement on focused soft x-ray free-electron laser beams | |
Wehlitz et al. | Single and double photoionization of beryllium below 40 eV | |
CN107340066B (zh) | 基于荧光光谱的超高激光光强远程测量方法 | |
Verbeek et al. | Energy analysis of neutral H, D, He and Ne atoms with energies from 200 eV to 10 keV | |
Wells et al. | Ionization of atoms by the spatial gradient of the pondermotive potential in a focused laser beam | |
Karstensen et al. | Absolute cross sections for single and double ionisation of Mg atoms by electron impact | |
Ernst et al. | Time dispersion of secondary electron emission | |
McIlvenny et al. | Absolute calibration of microchannel plate detector for carbon ions up to 250 MeV | |
Hofmann et al. | Laser based stripping system for measurement of the transverse emittance of H-beams at the CERN LINAC4 | |
Müller et al. | A new mini gas ionization chamber for IBA applications | |
Hofmann et al. | Design of a laser-based profile monitor for LINAC4 commissioning at 50 MeV and 100 MeV | |
CN106198711B (zh) | 一种探针法测量介质材料表面电位的装置及方法 | |
Hvelplund et al. | Resonant inelastic scattering of quasifree electrons on C 5+(1s) | |
Kashiwagi et al. | Development of a laser ion source for production of high-intensity heavy-ion beams | |
Cvejanović et al. | Single ionization of calcium by electron impact | |
Chouffani et al. | Laser-Compton scattering as a tool for electron beam diagnostics | |
Palla et al. | Accurate on line measurements of low fluences of charged particles | |
Son et al. | Fine phantom image from laser-induced proton radiography with a spatial resolution of several μ m | |
Ito et al. | Development of preset‐type sample stage in three‐dimensional atom probe |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |