CN106029339A - 设置有具有汇聚的壁的光学包围区段的毛坯处理单元 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种塑料空心体的毛坯(2)的处理单元(1)，该处理单元包括毛坯(2)在其中沿预定路径行进的包围部(6)，该包围部(6)在路径两侧两个由内表面(5)相面对的两个侧壁(3、4)限定，该包围部(6)包括主区段(9)，在该主区段中，壁(3、4)中的至少一个设置有多个电磁辐射源(10)，在包围部的至少一端，侧壁(3、4)之间限定用于预型件通过的开口(8)，包围部(6)包括在主区段(9)和开口(8)之间延伸的至少一个光学封闭区段(12)，并且在该学封闭区段中，侧壁(3、4)的内表面(5)是光反射的并且向开口(8)的方向汇聚。

Description

设置有具有汇聚的壁的光学包围区段的毛坯处理单元

技术领域

本发明涉及通过吹制或拉伸吹制从塑料毛坯制造空心体、如容器。

术语“毛坯”是指通过将塑料注入模具得到的预型件，或从已经经历至少一次初次成型操作并旨在经历至少一次二次操作的预型件得到的中间空心体。

更确切地说，本发明涉及毛坯的处理，例如毛坯的热(加热)处理或去污处理。一般通过使毛坯在设置有多个电磁辐射源的处理单元(在加热的情况下通常称为“炉”)内行进而实现毛坯的处理，其中毛坯在所述电磁辐射源前行进并且被带动围绕自身旋转。

背景技术

尽管通过根据普朗克定律在连续光谱上辐射的管形卤素类白炽灯加热毛坯的传统技术在如今最为普遍，近来发现一种建立在利用单色或准单色电磁辐射源(尤其是激光)基础上的替代技术，所述电磁辐射源的发射光谱主要在红外范围内延伸(参考以申请人为名的法国专利申请No.FR 2 878 185和FR 2 915 418)。

激光加热相较于卤素加热而言更高的效率和性能(尤其是光学精度)允许实现对毛坯更为迅速和更有选择性的加热。

但是，需要尽可能封闭毛坯在其中行进的包围部，以便最大程度地限制辐射泄漏，尤其是因为辐射是不可见的。然而，由于需要在包围部的入口和出口处设置开口以允许毛坯行进，这种封闭较为复杂。

这些开口是必不可少的，但是在没有封闭方案的情况下存在使处理单元周围来往人员暴露于电磁辐射的危险。

已经提出一些用于在开口处实现包围部密封的方案，例如参考欧洲专利EP2 544 877(Sidel)或其等同美国专利US 2013/0056649，所述专利提出在包围部并列设置闸室，该闸室带有被毛坯的线性运动带动旋转的转门，这些转门设置有星形布置的护罩，该护罩用于吸收来自包围部的电磁辐射。

该方案整体令人满意，但在仍然不适于某些操作条件。特别是带转门的闸室对于毛坯在两排上行进而言不适合，正如在欧洲专利申请EP 2 623 439(Sidel)或其等同美国专利US 2013/0192956中描述的。当然可以将闸室移至将毛坯排分为两排的区域的上游(或者移至毛坯重组为单排的区域的下游)，但是这导致辐射区域延长，不利于毛坯处理(尤其是热处理)的良好控制。另外，护罩吸收的辐射能量有所损失，这降低了加热效率。另外，由于护罩的旋转运动，护罩经受相继的加热和冷却周期，这导致护罩材料热疲劳，因而需要定期维修。

发明内容

第一目标是提出一种简单有效的封闭通过电磁辐射的毛坯处理单元的封闭方案。

第二目标是提出一种允许通过使辐射损失部分最小化而优化辐射利用的封闭方案。

第三目标是提出一种允许使维修干预最小化的封闭方案。

第四目标是提出一种具有良好的耐热疲劳性的封闭方案。

为此，提出一种塑料空心体的毛坯的处理单元，其包括毛坯在其中按照预定路径行进的包围部，该包围部在路径两侧由内表面相面对的两个侧壁界定，该包围部包括主区段，在该主区段中，壁中的至少一个设置有多个电磁辐射源，在包围部的至少一端，侧壁之间限定用于毛坯通过的开口，包围部包括在主区段和开口之间延伸的至少一个光学封闭区段，在该光学封闭区段中，侧壁的内表面是光反射的并且向开口方向汇聚。

光学封闭区段允许将从主区段泄露的辐射的至少一部分向主区段送回。因此导致包围部效率的提高以及就周围人员而言更好的安全性。

可以单独或组合地考虑其它补充特征：

-在光学封闭区段中，侧壁的内表面是平面的；

-在光学封闭区段中，侧壁的内表面之间限定在1°到90°之间、优选地在5°到30°之间、例如约15°的角度；

-包围部包括在光学封闭区段和开口之间延伸的吸收区段，并且在该吸收区段中，侧壁的内表面是光吸收的；

-在吸收区段中，侧壁的内表面基本平行；

-在吸收区段中，侧壁的内表面是平面的；

-处理单元至少在封闭区段中设置有侧壁的冷却装置；

-冷却装置包括散热器；

-散热器至少在封闭区段中包括与侧壁的内表面相对地垂直延伸在侧壁上的一排散热片；

-冷却装置包括通风系统，对于每个散热器，通风系统包括沿散热器的下边缘延伸并向散热器敞开的分配风管和通向风管的带来空气的管道；

-辐射源为激光二极管；

-处理单元包括在包围部外部的至少一个外部屏障，该屏障具有定位成与开口相面对的光吸收内表面。

附图说明

通过下面参照附图对实施方式的描述，本发明的其它目标和优点将更加清楚，附图中：

-图1是毛坯的处理单元的透视图；

-图2是图1的处理单元的根据框II的放大细节图；

-图3是图1的处理单元的局部俯视图；

-图4是图1的处理单元的光学封闭区段的局部比例剖视图；

-图5是示出光学封闭区段的部分取出透视图；

-图6是示出若干替代实施方式的处理单元的俯视图。

具体实施方式

在附图中示出塑料空心体的毛坯2的处理单元1。示出的毛坯2是用于形成容器的预型件(假设在下文保留该设定)，但毛坯可以是已经经受一次或几次预成型操作(例如临时吹制)的中间容器。

每个预型件2具有基本圆筒形的主体，其一端被半球形底部闭合，并且在相对端通过颈部延长。

预型件2示出的朝向为颈部在上，但预型件的朝向可以是颈部在下。

如图可见，处理单元1包括相对的两个壁，即第一壁3和第二壁4。壁3、4具有相面对并一起限定预型件2在其中行进的包围部6的内表面5。如图1和2可见，处理单元1包括壁3、4安装于其上的框架7。

在包围部的至少一端，侧壁3、4之间限定用于预型件2通过的开口8。实际上，包围部6(如图1和6所示)具有相对的两个端部，每个端部限定用于预型件2通过的开口8。

每个预型件2通过其颈部安装在被称为转盘的旋转抓持装置上，旋转抓持装置被带动以基本恒定的速度沿路径移动。

每个预型件2通过预型件安装于其上的转盘而被带动围绕其轴线转动。

预型件2在包围部6中沿预定路径T行进。在图1-5所示的实例中，该路径整体是线性的，但该路径可以(至少局部地)是曲线的，尤其根据处理单元1安装于其中的地点的构造。在图1和2所示的实例中，预型件2以单排进入包围部6，并且通过交错布置分成平行的两排。在申请EP 2 623 439中描述了允许实现这种局部分成两排的传送系统，该申请的内容通过援引包含在本文中。在这种情况下，尽管路径T整体是线性的，但其在分成两排的区域中局部弯曲。作为变型例，如图6所示，路径T是曲线的，例如呈圆弧形。如图6可见，预型件2此外可以以单排行进。

包围部6包括主区段9，在该主区段中，壁3的被称为发射壁的至少一个壁的内表面5侧覆盖有多个电磁辐射源10，该电磁辐射源优选地以单色或准单色的方式向包围部6的内部发射。根据在附图中特别示出的实施方式，两个壁3、4均为发射壁。

如果预型件2的处理是热处理(可以用术语“加热”表示)，那么源10被选择成用于在红外范围内发射。如果处理为去污处理，那么源10被选择成其谱线覆盖紫外范围、即杀菌范围。源可以是脉冲光氙蒸汽灯，或者是在紫外范围内发射的二极管。

理论上，单色源是发射单频率正弦波的理想源。换句话说，单色源的频谱由谱宽为零的单谱线(Dirac)构成。

实际上，这种源是不存在的，实际源至多是准单色源，即其频谱在很小但不为零的谱宽带上延伸，并定中在辐射强度最大的主频率上。但是，由于语言滥用，习惯把这种实际源定性为单色的。另外，将“准单色”定性为以准单色的方式在离散谱上发射的源，所述离散谱包括定中在不同的主频率上的若干狭窄带。也将其称作多模源。

这种辐射的优点是集中在一个(或若干)频率上，对于该频率(或这些频率)，预型件2的材料的热性能就规范要求而言特别有利。例如，为了实现预型件2表面的快速加热，可以在红外范围内选择一个(或若干)频率，对于该频率(或这些频率)，材料的吸收性很强。相反，为了实现预型件2的厚度中更慢但更均匀的加热，可以选择一个(或若干)频率，对于该频率(或这些频率)，材料的吸收性相对较弱。

在下文中，假设处理为加热处理，处理单元1实际上是加热单元(也称为“炉”)。在该应用中，每个由热塑材料、例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)形成的预型件2用于在已经在炉1内通过加热到高于其玻璃转化温度的温度而变软后在模具中经受吹制或拉伸吹制操作，以便形成容器、例如瓶子或小瓶。

实际上，源10是激光(例如激光二极管)，该激光在红外范围内发射并且通过并列设置和叠置组织以形成一个或若干阵列，正如例如在国际申请WO 2013/076415中描述的那样，该国际申请的内容通过援引包含在本文中。在这种情况下，每个阵列可以是垂直腔面发射激光二极管(VCSEL)阵列，每个二极管例如发射波长约1μm的瓦特级单功率激光束。在图1、2、3、6所示的实例中，炉1设置有多个沿包围部6并排布置的二极管阵列。这里，这些阵列重新组合在单个加热模块11中，在图1、2、3的实例中，这些加热模块并排布置并对齐，而在图6的实例中，这些加热模块以阶梯方式错开，以便跟随预型件2的行进路径T。模块11通过例如典型地用螺钉可拆卸地固定在框架上(以便可以进行维修)而与框架7联接。

希望封闭由源10发射的电磁辐射，这是因为这些电磁辐射的一部分有从包围部6泄漏的趋势：一方面，源10发射辐散的辐射(例如每个激光二极管VCSEL发射大致内切于锥体中的辐射)；另一方面，由于预型件2的圆筒形形状，未被预型件2吸收的辐射部分经历折射。

辐射的封闭一方面允许提高预型件2的处理的光学效率，另一方面允许保护周围人员。

为此，包围部6包括在主区段9和开口8之间延伸的至少一个光学封闭区段12，并且在该光学封闭区段中，侧壁3、4的内表面5是光反射的，并且朝开口8的方向汇聚。

在理想状态下，反射是镜面类反射，即所有入射线在与内表面5接触时产生唯一的反射线。在下文中将看到，实际上，反射不一定是完全镜面的，而是入射光流的一部分可以发生漫反射和/或吸收。

根据图1至5所示的实施方式，每个侧壁3、4至少在封闭区段12中由附接屏障13形成。

每个屏障13例如通过旋拧在框架中的固定角铁14而固定在框架7上。

每个屏障13有利地由能够忍耐长时间暴露于来自包围部6的主区段9的电磁辐射的材料形成，这种材料典型地是钢或铝合金。

在光学封闭区段12中(图5中的灰色部分)，侧壁3、4的内表面5有利地是平面的；侧壁可以覆盖有反射涂层(例如呈金、银、铂或铝的金属薄层的形式)。作为变型例，在光学封闭区段12中，金属的侧壁3、4的内表面5被简单抛光。

根据图3所示的实施方式，处理单元1包括插置在主区段9和封闭区段12之间的衰减区段15，在该衰减区段中，侧壁3、4的内表面5都是反射的，并且平行于预型件2的路径T延伸。在路径T大体为线性的图3所示的实例中，侧壁的内表面5是平面且平行的。

衰减区段15的作用是将从主区段泄漏的辐射部分引向进入主区段9(或从主区段出来)的预型件2。如图3可见，在衰减区段15中，侧壁3、4可以由屏障13的位于包围部6的主区段9侧的内部部分16形成。

同样，在封闭区段12中，侧壁3、4可以由屏障13的相对于内部部分16倾斜的中间部分17形成。

封闭区段12具有双重功能：

-向在封闭区段12中通行的预型件2反射来自主区段9的未被预型件2吸收(或者在主区段9中，或者必要时在衰减区段15中)的残余辐射；

-将未被吸收的辐射部分重新引向主区段9。

注意到(参考图4)；

L沿路径T测量的封闭区段12的长度；

A封闭区段12中侧壁3、4的内表面5之间的角度；

E垂直于路径T的切线测量(并且如图3所示的实例，在路径T为直线时，垂直于路径T测量)的主区段9中侧壁3、4之间的间距。

衰减区段15以与主区段9共面的方式延伸，E也对应于衰减区段15中侧壁3、4的间距。

角度A有利地在1°到90°之间，优选地在5°到30°之间。在所示实例中，参数L、A、E具有如下近似值：L≈155mm；A≈15°；E≈100mm。

为了更好地示出封闭区段12的功能，在图4中示出来自主区段9(在可能在衰减区段15中经历相继反射后)并进入封闭区段12的入射线的路径。假设(不利且暂时地)预型件2不存在，这实际上对应于起动(或预热)处理单元1，并且假设(也是不利的)入射线从反射点R进入封闭区段12，该反射点R位于封闭区段12的内边缘上，在主区段9(或衰减区段15)那侧。

入射线相对于主区段9中(或衰减区段15中)的壁3、4倾斜记作B的角度，该角度被称为初始角度。在没有预型件的情况下，初始角度B对应于(在水平面中测量的)每个源10发射的光锥的顶部的半角度，并假设它们都相同。

入射线被封闭区段12中的壁3、4的内表面5相继地反射。R_N记作每个内表面上的相继反射点，i_N为相应的入射角，其中N是大于或等于1的整数。

考虑几何光学定律，每个入射角i_N以如下方式描述：

$i_N=B-(2N-1)\frac{A}{2}$

容易理解的是，在对应于零或负的入射角i_N的点R_N处，射线向主区段9的方向反射。

因此，对于15°的角度A(其对应于上文提供的实例)，以及对于30°的初始角度B，观察到射线经历朝开口8方向的三次相继反射R₁、R₂、R₃，然后从R₃向主区段9送回。图4的轨迹示出了该构造。

封闭区段12的长度L优选地选择成使所有入射线在超过封闭区段12之前被有效地向主区段9送回。

就这方面而言，可以有效地采用几何光学来确定封闭区段12的尺寸。但是，也可以通过计算来确定封闭区段12的尺寸，其中X_N记作沿路径T测量的点R_N的横坐标，射线从该点向主区段9送回，封闭区段12(在主区段9或衰减区段15侧)的内端部为原点，记作O。

可以通过以下公式近似计算X_N：

$X_N=\underset{i=0}{\overset{N-1}{\Σ}}{E}_i\·tan(B-i\·A)$

其中E_i以如下方式定义：

E₀＝E

$E_{i+1}=E_i\·(1-2\·tan(B-iA)\·tan\frac{A}{2})$

对于A、B、L的值分别为15°、30°、100mm的情况而言，几何轨迹允许直接测量横坐标X₃：该横坐标约等于80mm。上文描述的计算方法得到基本相同的值。

由此可见，在这种情况中，155mm的L长度是足够的。上述计算允许证明：在相等的角度A的情况下，这种长度L理论上足以将初始角度B小于或等于约45°的所有射线向主区段9送回。

但是，实际上，来自主区段9的一部分辐射可能不能通过封闭区段12向主区段送回。

首先，某些射线可能被一个或若干预型件2(尤其是在预型件外表面附近)衍射，直到衍射线的入射角是射线不射到封闭区段12中的内表面5之一的角度。

第二，如已看到的，(来自主区段9)的入射光流的反射不一定是完全镜面的。当然，可以使封闭区段12中的侧壁3、4的内表面5的粗糙度小于光流的波长。实际上，在红外线中，该波长大于或等于800nm。然而，现代抛光或镀层技术(例如通过阴极喷涂或喷射)允许获得小于甚至远小于该值的粗糙度。但是，灰尘可能沉积在内表面5上，因此至少局部地导致入射光流部分或全部漫反射。

为了限制未被封闭区段12镜面反射的光流能够通过开口8自由泄漏的危险，因而优选地为包围部6设置在光学封闭区段12和开口8之间延伸的吸收区段18，在该吸收区段中，侧壁3、4的内表面5是光吸收的。

根据附图所示的实施方式，特别是在图3和4中，在吸收区段18中，侧壁3、4的内表面5基本平行，并有利地是平面的。在吸收区段中，可以通过涂层、例如黑漆而使内表面5具有光吸收特性。作为变型例，在吸收区段18中，内表面5可以是倾斜的，例如在封闭区段12的延长部分中是倾斜的。

吸收区段18的功能是至少部分地吸收未通过封闭区段12向主区段9送回的可能的辐射部分，未被送回的原因在于例如因一个或若干预型件2的轮廓上的折射而使入射角太大，或者在于封闭区段12的内表面5上的漫反射。

吸收区段18可以与封闭区段12一起形成单一整体。因此，在附图所示的实例中，在吸收区段18中，侧壁3、4由屏障13的外部部分19形成，该外部部分与主区段9相对地将中间部分17延长到开口8。

如已经解释的，通过(在封闭区段12和衰减区段15中的)侧壁3、4的内表面5获得的反射不一定100％是镜面的。一部分光流可能漫射。一部分光流也可能被侧壁3、4吸收。因此导致侧壁3、4加热，可能引起内表面5的变形，因而不利于反射质量。

因此，可以有利地至少在封闭区段12中、并且必要时在衰减区段15中调节侧壁3、4的温度。

为此，处理单元1可以至少在封闭区段12中、并且例如还在衰减区段15以及可能在吸收区段中设置侧壁3、4的冷却装置20。

该冷却装置20例如包括散热器21，其用于消散由侧壁3、4吸收的热量。该散热器21可以循环流动有制冷流体(例如水)。但是，在所示实例中，散热器21循环流动有空气。

因此，至少在封闭区段12中，散热器21例如包括与侧壁的内表面5相对地垂直延伸在侧壁3、4上的一排散热片22，并且在所示实例中，在衰减区段15中也包括散热片。根据未出示的实施方式，在吸收区段18中的壁3、4上也设置有散热片22。

可以通过自然对流实现冷却，散热片22之间的空气的上升运动带走全部或部分的产生的热量。但是，出于效率的原因，优选地通过强制对流实现冷却，强制对流导致向环境空气更为迅速的热量传输，因此允许更有效地冷却侧壁3、4。

因此，根据附图所示的实施方式，尤其是在图5的取出部分可以看到的，冷却装置20包括通风系统23。

对于每个散热器21，该通风系统23一方面包括沿散热器21的下边缘25延伸并向散热器21(即向上)敞开的分配风管24，另一方面包括通向风管24并带来空气的管道26。

如图5所示，尤其是在其圆形细节部分中，风管24可以包括内隔板27，面对该内隔板27通有管道26，该管道形成导流管，该导流管一方面允许沿散热器21的下边缘分配空气流，另一方面允许使该空气流改变方向(如箭头所示)以便使其变为层流以优化冷却效率。

带来空气的管道26可以与风管24联接。如在所示实例中，该管道26可以呈管接头的形式，在该管接头上接有(柔性或刚性的)管28，该管仅部分示出于图2并且另外连接至脉冲新鲜空气源。

如图2、5中清楚可见的，处理单元1可以至少在封闭区段12(优选地也在衰减区段15和吸收区段18)中设置有水平延伸并闭合侧壁3、4的底壁29。

该底壁29具有上表面30，该上表面可以是光吸收的(例如通过覆盖有黑漆)或优选地是反射的(例如通过覆盖有光反射涂层、比如金、银、或铝层－作为变型例，上表面抛光，底壁29由金属材料、例如铝形成)。

底壁29允许吸收或向预型件2反射向下发射(或被预型件2折射)的辐射部分。在第一种情况下，实现的功能仅是安全方面的，为了保护周围人员。在第二种情况下，除了这种安全方面的功能之外，还通过向预型件2再发射可能损失掉的辐射部分而提高处理单元1的效率。

已经描述的处理单元1具有以下优点。

首先，借助于处理单元的封闭区段，处理单元1允许简单、有效地改善人员的安全并提高加热效率。

其次，封闭区段12保证入射光流向预型件2反射，从而使损失的辐射部分最小，这允许优化对由源10发射的辐射的利用。

再次，封闭区段12没有任何活动零件，无需担心任何机械磨损，这允许使维修干预最小化。

最后，尤其借助于至少在封闭区段12中的侧壁3、4的内表面5的良好状态，并且由于没有持续的热周期，处理单元1具有良好的耐热疲劳性。

可以考虑各种变型实施方式。为了方便，在图6中汇集了这些变型例。

因此，根据第一变型例，并且如上文提到的，包围部中的预型件2的路径T是弯曲的而非线性的。在所示实例中，路径T在主区段9中局部地形成圆弧。

根据第二变型例，在主区段9中，壁3、4中的至少一个壁不存在连续的内表面5：该内表面5可以沿预型件2的弯曲路径T呈阶梯状。为此，如所示出的，单个加热模块11可以彼此错开。

根据第三变型例，在主区段9中，只有一个壁3设置有辐射源10，另一个壁4仅是简单反射的。

根据第四变型例，处理单元1包括在包围部6外部的至少一个外物屏障31，该屏障31具有定位成与开口8相面对的光吸收内表面32。当开口8的上游(或下游)的预型件的路径T至少局部地经历偏移时能够实现这种布置，外部屏障31被置于预型件在包围部12中沿此行进的路径T的延长部分中。该外部屏障32允许吸收未通过包围部12向主区段9反射并且未被吸收区段18吸收的辐射部分。因此导致处理单元1对周围人员而言更为安全。

Claims (13)

1.塑料空心体的毛坯(2)的处理单元(1)，所述处理单元包括毛坯(2)在其中沿预定路径(T)行进的包围部(6)，所述包围部(6)在路径(T)两侧由内表面(5)相面对的两个侧壁(3、4)界定，所述包围部(6)包括主区段(9)，在所述主区段中，侧壁(3、4)中的至少一个设置有多个电磁辐射源(10)，在包围部的至少一端，侧壁(3、4)之间限定用于毛坯(2)通过的开口(8)，所述包围部(6)另外包括在主区段(9)和开口(8)之间延伸的至少一个光学封闭区段(12)，并且在所述光学封闭区段中，侧壁(3、4)的内表面(5)是光反射的并且向开口(8)的方向汇聚，

所述处理单元(1)的特征在于，包围部(6)包括在光学封闭区段(12)和开口(8)之间延伸的吸收区段(18)，并且在所述吸收区段中，侧壁(3、4)的内表面(5)是光吸收的。

2.如权利要求1所述的处理单元(1)，其特征在于，在光学封闭区段(12)中，侧壁(3、4)的内表面(5)是平面的。

3.如权利要求2所述的处理单元(1)，其特征在于，在光学封闭区段(12)中，侧壁(3、4)的内表面(5)之间限定在1°到90°之间的角度(A)。

4.如权利要求3所述的处理单元(1)，其特征在于，在光学封闭区段(12)中，侧壁(3、4)的内表面(5)之间限定在5°到30°之间的角度(A)。

5.如权利要求4所述的处理单元(1)，其特征在于，在光学封闭区段(12)中，侧壁(3、4)的内表面(5)之间限定约15°的角度(A)。

6.如上述权利要求之一所述的处理单元(1)，其特征在于，在吸收区段(18)中，侧壁(3、4)的内表面(5)基本平行。

7.如上述权利要求之一所述的处理单元(1)，其特征在于，在吸收区段(18)中，侧壁(3、4)的内表面(5)是平面的。

8.如上述权利要求之一所述的处理单元(1)，其特征在于，处理单元至少在封闭区段(12)中设置有侧壁(3、4)的冷却装置(20)。

9.如权利要求8所述的处理单元(1)，其特征在于，冷却装置(20)包括散热器(21)。

10.如权利要求9所述的处理单元(1)，其特征在于，至少在封闭区段(12)中，散热器(21)包括与侧壁的内表面(5)相对地垂直延伸在侧壁(3、4)上的一排散热片(22)。

11.如权利要求9或10所述的处理单元(1)，其特征在于，冷却装置(10)包括通风系统(23)，对于每个散热器(21)，通风系统包括沿散热器(21)的下边缘(25)延伸并向散热器敞开的分配风管(24)和通向分配风管(24)并带来空气的管道(26)。

12.如上述权利要求之一的所述的处理单元(1)，其特征在于，电磁辐射源(10)是激光二极管。

13.如上述权利要求之一所述的处理单元(1)，其特征在于，处理单元包括在包围部(6)外部的至少一个外部屏障(31)，所述外部屏障具有定位成与开口(8)相面对的光吸收内表面(32)。